Vocabulary 1 (paragraph 1--3) 1. heat treatment n.热处理 2. embrace v.包含 3. metallurgy n冶金,冶金学 4. physics n.物理学 5. chemistry n化学

运城学院：《食品技术原理 Food Technology Principles》课程教学资源（授课教案）第二章 食品热处理技术

钢的热处理：钢在加热和冷却时的转变

《畜产品加工学》课程PPT教学课件：原料乳的质量标准及验收、乳的离心、乳的热处理、乳的均质

1学科基础课平台必修课 《高等数学 A1》 《高等数学 A2》 《线性代数》 《概率论与数理统计 B》 《大学物理 A1》 《大学物理 A2》 《物理化学 E》 《电工电子技术 C》 《画法几何与机械制图》 《机械设计基础 A》 《机械设计基础课程设计》 《物理化学实验》 《金工实训 B》 《大学物理实验 A1、A2》 2学科基础课平台选修课 《工程力学 B》(环安类) 《机械工程材料及热处理》 《实验设计与数据处理》 《环境工程微生物学》 《环保设备 CAD》 《环境类专业导论》 《流体力学泵与风机》 《流体力学 泵与风机》 3专业课平台必修课 《环设认识实习》 《环设生产实习》 《环设毕业实习》 《环设毕业设计 1》 《环设毕业设计 2》 《环保设备制造工艺学》 《环设专业实验 1》课程 《环设专业实验 3》课程 《水污染控制原理与技术》 《大气污染控制原理与技术》 《环保设备设计》 4专业课平台选修课 《环境监测》 《环工原理与设备》 《环境保护法律法规》 《环保专业英语》 《固体废物处理技术与设备》 《工程概预算 B》 《物理性污染控制原理与技术》 《环境影响评价》 《环保设备选用技术》 《环保仪表与自动化》

作为6XXX铝合金热处理工艺的一部分，固溶处理与时效处理对6016铝合金的力学性能有显著影响.本文把固溶温度、时间和时效温度、时间作为设计变量，应用中心组合实验设计法设计固溶-时效实验方案，在室温下分别测出试样的屈服强度、伸长率和维氏硬度.第二代非支配排序遗传算法（NSGA-Ⅱ）解决了第一代算法参数选取难、运行效率低等缺点.本文用第二代非支配排序遗传算法把得到的响应面方程作为目标函数进行多目标优化，经过计算后获得非劣解，从中可筛选出使目标函数较好的解与相对的固溶-时效工艺参数

本文主要研究渗碳后的不同热处理工艺对表层残余压应力大小及其分布的影响,说明渗碳后等温淬火这项新工艺的特点。研究结果表明,对凿岩机钎尾渗碳后等温淬火有效地提高了凿岩寿命,是由于渗碳淬火造成了表层和心部的成份、组织的差异而使表层产生一层有利的残余应力起作用的结果。文章进一步指出,高碳钢的氮化——淬火工艺往往比渗碳钢具有较高的疲劳强度及使用寿命,可能由于它有更高的表面残余应力。另外,表面复合强化工艺可有效地改善表面残余应力分布,可能是一个值得重视的方向

设计了一种低碳Mn-Mo-Nb-Cu-B系超高强度工程机械结构用钢,研究了在同种成分条件下TMCP(thermo-mechan-ical control-process)+回火与控轧+直接淬火+回火两种工艺对钢组织和性能的影响.对比分析了热处理前后钢板各项力学性能和组织的变化.结果表明,两种工艺条件下钢的屈服强度和冲击性能的变化趋势相似,经500～620℃回火1h后钢的屈服强度均有大幅度提高.控轧+直接淬火+回火得到的钢板综合性能明显优于TMCP+回火,前者在600℃回火后屈服强度仍达到1000MPa以上,同时延伸率达到18%,-40℃冲击功大于30J,而后者塑性较好但强度稍低;随回火温度的升高,控轧+直接淬火+回火工艺条件下的组织演化速度要快于TMCP+回火工艺

采用静电辅助的气溶胶化学气相沉积的方法成功地在Si(100)衬底上制备了Y2O3薄膜,利用X射线衍射(XRD)、场发射扫描电镜(FE-SEM)、原子力显微镜(AFM)和X射线光电子能谱(XRP)对薄膜进行了表征.SEM分析结果显示,薄膜的颗粒为纳米级的,并且薄膜致密、平整.AFM分析结果表明,薄膜的粗糙度为11nm.由XPS分析可知,薄膜为基本上符合化学计量比的氧化物.附着力测试表明,Y2O3薄膜与Si衬底的附着力为4.2N.X射线衍射分析结果表明,沉积得到的Y2O3薄膜在热处理前为非晶结构,热处理之后薄膜具有立方晶体结构,并且沿(111)面择优生长

使用薄膜TEM直接观察了成分相近热处理制度不同的两个炉号GH36合金的基本组织,使用SAD和DF技术做物相分析。结果表明,合金经正常热处理后析出细小弥散分布的VC,尺寸约在2nm～12nm,还有M23C6和N6C、其中VC和M23C6与合金基体的取向关系是[011]vc∥[011]M∥[011]M23C6,（111）VC∥（111）M∥（111）M23C6,（200）VC∥（200）M∥（200）M23C6,通过补充时效后合金中VC颗粒聚集长大,晶界析出的M23C6更多,这种组织及晶界状态有利于改善合金的持久缺口敏感性