14.1 干扰的来源 14.2 供电系统干扰及其抗干扰措施 14.2.1 电源噪声来源、种类及危害 14.2.2 供电系统的抗干扰设计 14.3 过程通道干扰的抑制措施—隔离 14.3.1 光电隔离的基本配置 14.3.2 光电隔离的实现 14.4空间干扰及抗干扰措施 14.4.1 接地技术 14.4.2 屏蔽技术 14.5 反电势干扰的抑制 14.6 印刷电路板的抗干扰设计 14.6.1 地线及电源线设计 14.6.2 去耦电容的配置 14.6.3 印制板的布线的抗干扰设计 14.7软件抗干扰措施 14.7.1 软件抗干扰的一般方法 14.7.2 指令冗余和软件陷阱 14.7.3 软件滤波 14.7.4 开关量输入/输出软件抗干扰设计 14.8 看门狗定时器的使用

14.1 干扰的来源 14.2 供电系统干扰及其抗干扰措施 14.2.1 电源噪声来源、种类及危害 14.2.2 供电系统的抗干扰设计 14.3 过程通道干扰的抑制措施—隔离 14.3.1 光电隔离的基本配置 14.3.2 光电隔离的实现 14.4空间干扰及抗干扰措施 14.4.1 接地技术 14.4.2 屏蔽技术 14.5 反电势干扰的抑制 14.6 印刷电路板的抗干扰设计 14.6.1 地线及电源线设计 14.6.2 去耦电容的配置 14.6.3 印制板的布线的抗干扰设计 14.7软件抗干扰措施 14.7.1 软件抗干扰的一般方法 14.7.2 指令冗余和软件陷阱 14.7.3 软件滤波 14.7.4 开关量输入/输出软件抗干扰设计 14.8 看门狗定时器的使用

采用腐蚀质量损失、扫描电子显微镜、X射线衍射仪、线性极化等测试手段,研究无光照、半光照及全光照三种实验条件对Q450NQR1耐候钢在干湿交替条件下腐蚀行为的影响规律.结果表明：光照对实验钢干湿交替腐蚀过程影响显著.实验钢在腐蚀前期（48 h）腐蚀速率大小依次为半光照、无光照和全光照,腐蚀中后期（72~96 h）腐蚀速率由大到小依次为半光照、全光照和无光照.腐蚀宏观形貌有明显差别,无光照时试样腐蚀产物呈淤泥状分布整个表面,有光照条件时腐蚀产物则呈颗粒状分布,但全光照条件时腐蚀产物颗粒更细且孔隙更小.另外,三种条件下腐蚀产物物相组成一致,但含量有所不同.线性极化测试得出96 h极化电阻由大到小依次为无光照、全光照和半光照,这一结果与通过腐蚀失重得出的腐蚀速率结果一致

1范围 本法适用于饮用水及未受严重污染的地面水总锰的测定。不适宜于高度污染的工业废水 的测定。 方法的最低检出浓度为0.01mg/L。测定浓度范围为0.05~4.0mg/L校准曲线范围为 2~40ig/50mL 铁、铜、钴、镍、钒、铈均与甲醛肟形成络合物,干扰锰的测定。加入盐酸羟胺和EDTA 可减少其干扰。在本工作条件下,测定20ig锰时,铁200ig铜、钴、镍、铀、钍、铬、钼、 钨各50ig;钙20mg;镁10mg;铝1mg;氯根、硝酸根、硫酸根、磷酸根、碳酸根各50mg 氟2mg均不干扰测定。10ig产生7.5%正干扰;20ig铈产生4.0%负干扰

使用BCO直接光度法测定钢及合金中铜含量是一个较好的方法,由于它良好的重现性和选择性故被日本及我国采用作为标准方法。但钴（镍）的干扰严重故不适用于含钴的试样。本文指出,虽然普遍采用PH8.7～9.5作为测定铜的适宜条件,但不宜于测定含钴的试样,因为在此条件下,钴与试剂形成无色络合物,耗用了试剂,降低了吸光度。又指出铜的显色在PH8.0～9.8之间保持恒定,但钻的BCO络合物,由于不夠稳定在PH8.5以前不与试剂反应,故若把条件控制在8.3±0.2,钴就不再干扰而铜的吸光度仍然保持PH8.7～9.5时的强度。文中还给出了详细的分析手续及实际试样的分析数据

15.5光的偏振(续) 一、偏振现象 二、光的五种偏振态 三、起偏方法及规律 1.利用光在两种介质界面上的反射和折射: 布儒斯特定律 2.利用光在各向异性介质中的传播:偏振片,马吕斯定律 3.利用光在各向异性介质中的传播:双折射起偏

为了摆脱电磁干扰对磁电式传感器的影响,通过对光纤光栅加速度传感器力学模型分析,建立了加速度与波长变化间的数学模型,设计了低频光纤光栅加速度传感器。实验结果表明,光纤光栅加速度传感器幅频带宽为45 Hz,横向抗干扰能力为40 dB,能够满足工业测量需要

在一次爆破加载中同时获得了等差条纹图和等和条纹图,利用2种方法进行无限平面集中爆破载荷的动应力场求解研究,对不同方法的计算结果进行了对比分析并指出了各自的适用范围.为解决复杂条纹图的判读问题,还设计了一种应力波边界反射后条纹判据的检验方法

一、光的干涉 １、现象：当满足一定条件的两列光波在空间相遇时，在它们相互交迭的区域内出现明暗相间的条纹。 2、相干条件： （1）、频率相同的两列光波在相遇时具有相同的振动方向和恒定的相位差

（一）选择题： 1． 如图，S1、S2 是两个相干光源，它门到 P 点的距离分别为 r1 和 r2，路径 S1P 垂直穿过一块厚度为 t2 ，折射率为 n1 的介质板，路径 S2， P 垂直穿过厚度为 t2 折射率为 n2 的另一介质板， 其余部分可看作真空，这两条路径的光程差等于