一、单项选择题(本大题共15小题,每小题2分,共30分) 在每小题列出的四个备选项中只有一个是符合题目要求的,请将其代码填写在题后的括号内。错选、多选或未选均无分 1要得到P型半导体,可在本征半导体硅或锗中掺少量的() A三价元素 B.四价元素 C.五价元素 D六价元素

一、单项选择题(本大题共15小题,每小题2分,共30分) 在每小题列出的四个备选项中只有一个是符合题目要求的,请将其代码填写在题后的括号内。错选、多选或未选均无分。 1.在杂质半导体中,多数载流子的浓度取决于() A.本征半导体 B.温度 C.杂质浓度 D.掺杂工艺

第4章表达式 本章讲述在 Verilog HDL中编写表达式的基础。 表达式由操作数和操作符组成。表达式可以在出现数值的任何地方使用

一、晶体结构和晶体分类 1、晶体结构 外观上：具有规则的几何形状 微观上：晶体点阵（晶格） 基本特征：规则排列，表现出长程有序性 晶体中的重复单元称为晶胞

一、蒸发:使含有不挥发物质的溶液沸腾汽化并移出蒸气,从而使溶液中溶质浓度提高的单元操作 称为蒸发。所采用的设备称为蒸发器。蒸发是在液、固相之间进行,化学工业中以蒸发水溶液为 主,蒸发以流体输送为基础仍遵循传热基本规律。(蒸发效果是从溶液中分离出部分溶剂一传质过 程;实质上是传热壁面一侧的蒸汽冷凝与另一侧的溶液沸腾间的传热过程一传热。物理上的蒸发: 在溶液表面发生的气化现象

一、蒸发:使含有不挥发物质的溶液沸腾汽化并移出蒸气,从而使溶液中溶质浓度提高的单元操作 称为蒸发。所采用的设备称为蒸发器。蒸发是在液、固相之间进行,化学工业中以蒸发水溶液为 主,蒸发以流体输送为基础仍遵循传热基本规律。(蒸发效果是从溶液中分离出部分溶剂一传质过 程;实质上是传热壁面一侧的蒸汽冷凝与另一侧的溶液沸腾间的传热过程一传热。物理上的蒸发: 在溶液表面发生的气化现象。即在任何温度下都能进行气化。)

第一节引言 一、集成电路的制造需要非常复杂的技术,它主要由半导。 二、由于SOC的出现,给IC设计者提出了更高的要求,也

第七章蒸发 第一节概述 蒸发:使含有不挥发物质的溶液沸腾汽化并移出蒸气,从而使溶液中溶质浓度提高的单元操作 称为蒸发。所采用的设备称为蒸发器。蒸发是在液、固相之间进行,化学工业中以蒸发水溶液为 主,蒸发以流体输送为基础仍遵循传热基本规律。(蒸发效果是从溶液中分离出部分溶剂一传质过 程:实质上是传热壁面一侧的蒸汽冷凝与另一侧的溶液沸腾间的传热过程一传热。物理上的蒸发 在溶液表面发生的气化现象。即在任何温度下都能进行气化。)

在前面已经讨论了两部分：理想腔和耦合腔。现 在将进一步讨论非理想腔。这里把非理想腔特指为腔 内放物体，腔形状的改变等等。 此类问题严格说来必须从Maxwell方程组出发给出 新模式。但是，对任意腔建立严格理论是十分困难的。 微扰法是认为腔内模式(Field)不变，而所变的只 是谐振频率——这是场论计算中常用的近似方法

这一章的习题从内容上可以分为四种类型:逻辑等式的证明逻辑函数不同 表示方法之间的转换、逻辑函数形式的变换和逻辑函数的化简。下面分别总结、 归纳一下这几种类型习题的解题方法并给出相应的例解