点击切换搜索课件文库搜索结果(610)
文档格式:DOC 文档大小:46.5KB 文档页数:2
一、填空题 1、某半导体器件的型号为KS50-7的,其中KS表示该器件的名称
文档格式:PPT 文档大小:2.04MB 文档页数:122
第3章通信用光器 3.1光源 3.1.1半导体激光器工作原理和基本结构 3.1.2半导体激光器的主要特性 3.1.3分布反馈激光器 3.1.4发光二极管 3.1.5半导体光源一般性能和应用
文档格式:PPT 文档大小:2.52MB 文档页数:25
场效应管(FET)是利用输入回路的电场效应来控制输出回路电流的一种半导体器件。它仅靠半导体中的多数载流子导电,又称单极型晶体管。优点:输入电阻大(107Ω~1012Ω)、噪音低、热稳定性好、抗辐射能力强等
文档格式:PPT 文档大小:327KB 文档页数:13
1.3.3晶体管的共射特性曲线 一、输入特性曲线
文档格式:PPT 文档大小:218KB 文档页数:5
一、概述 高水平的工艺良品率是生产性能可靠的芯 片并获得收益的关键所在。本章将简单介绍影 响良品率的主要工艺及材料要素,并对良品率 测量点做出阐述。 维持及提高良品率对半导体工业至关重要 ,因为半导体制造工艺的复杂性,以及生产一 个完整封装器件所需要经历的庞大工艺制程, 是导致这种对良品率超乎寻常关注的基本原因 。这两方面的原因使得通常只有20%至80%的芯 片能够完成生产线全过程,成为成品出货
文档格式:PPT 文档大小:1.77MB 文档页数:15
第一章半导体产业介绍 一、概述 微电子从40年代末的第一只晶体管(Ge合金管 )问世,50年代中期出现了硅平面工艺,此工艺 不仅成为硅晶体管的基本制造工艺,也使得将多 个分立晶体管制造在同在一硅片上的集成电路成 为可能,随着制造工艺水平的不断成熟,使微电 子从单只晶体管发展到今天的ULSI 回顾发展历史,微电子技术的发展不外乎包括 两个方面:制造工艺和电路设计,而这两个又是 相互相成,互相促进,共同发展
文档格式:PPT 文档大小:581KB 文档页数:58
存储器是计算机的一个重要组成部分,用 来保存程序和数据的硬件装置.→口口功能部件
文档格式:DOC 文档大小:3.6MB 文档页数:16
一、判断下列说法是否正确,用“√”和“”表示判断结果填入空 内。 (1)在N型半导体中如果掺入足够量的三价元素,可将其改型为P型半导体。()
文档格式:PPT 文档大小:1.16MB 文档页数:64
2.2 半导体器件的开关特性 2.3 分立元件门电路 2.4 TTL集成门电路 2.6 CMOS集成门电路
文档格式:PPT 文档大小:1.29MB 文档页数:99
一、工艺特点: 二、发射区掺杂浓度高 三、基区很薄且掺杂浓度低 四、集电结面积大
首页上页2627282930313233下页末页
热门关键字
搜索一下,找到相关课件或文库资源 610 个  
©2008-现在 cucdc.com 高等教育资讯网 版权所有