一、矿床类型 矿床是指在当前经济技术条件下,具有开采价值(品位、储量)的含矿地质体。按其 成因可分为:岩浆矿床、沉积矿床、变质矿床按矿体的产状分为:层状矿体、非层状矿 床。矿体本身一般不含水,就是含水也是少量的裂隙水,对矿床充水无意义。矿床充水主 要因围岩含水所造成,围岩含水性决定矿床的充水条件与矿坑涌水量

第一章 绪论 第二章 地质体的基本产状及沉积岩层构造 第三章 应力分析基础 第四章 应变分析基础 第六章 劈理（cleavage） 第七章 线理（lineation） 第八章 褶皱的几何分析 第九章 褶皱的成因分析 第十章 节理 第十一章 断层概论 第十二章 伸展构造 第十三章 逆冲推覆构造 第十四章 走向滑动断层 第十五章 韧性剪切带

一、松散沉积层空隙型水源 1、山间河谷型水源 (1)形成特点 (2)地质特点 (3)补给特点 (4)勘查特点 (5)富水特点 (6)水资源特点

一、地面沉降的概念及产生原因 地面沉降(Land Subsidence)是指在自然因素或人为因素影响下发生的幅度较大、速 率较大的地表高程垂直下降的现象。地面沉降,又称地面下沉或地陷,是指某一区域内日 于开采地下水或其它地下流体所导致的地表浅部松散沉积物压实或压密引起的地面标高下 降的现象。意大利威尼斯城最早发现地面沉降。之后随着经济发展,人口增加和地下水 (油气)开采量增大,世界上许多国家如美国、日本、墨西哥、欧洲和东南亚一些国家均 发生了严重的地面沉降

一、实验设计中的蒙特卡洛方法的应用 1.实验装量性能的研究 高能粒子反应的终恋粒子在探测器中的输运是个很复杂的过程。探测器是通过终态粒子在其中穿行过程中,留下的时间信息和(或)能量沉积信息来决定终态粒子的物理参数,如能量、动量、运动方向和粒子种类等。例如要确定带电粒子的动量,通常可以从测量该粒子在磁场中径迹的曲率来得到

食品化学第一版已经时过十年,许多新的研究和新的揭示,必然需要在书中 补充新的内容和适当调整结构。为此,在第一版基础上,本书增加了第六章酶, 同时还对各章内容进行了修改和补充。由于本书是在第一版基础上完成的,因此, 后续工作也沉积着前版作者大量的心血和劳动。 参加本书第一版编写的有胡慰望(第一、二三章)谢笔钧(第四、五、 六章)、李培森(第九章)、吴方元(第八章)、余若海(第七章);第二版谢笔钧 (第一、二、三、四、五、六、七章)、徐汉生(第十章)、孙智达(第八章) 戚向阳(第九章)。感谢管华诗院士为本书作序和审阅

采用磁控溅射方法,分别在纯Fe以及低硅钢基片上沉积富Si膜,并对其进行真空扩散热处理.通过能谱分析及X射线衍射研究了Si在纯Fe与低硅钢基体中的扩散特征,运用DICTRA软件建立了扩散模型.研究发现Si在纯Fe基体中扩散时发生γ-Fe(Si)→α-Fe(Si)相转变,扩散速率受控于相界面的迁移.当沿截面Si含量梯度不足以驱动相界面正向迁移时,延长扩散时间会发生相界面回迁现象,最终趋于单一相内均匀化扩散过程.Si在低硅钢基体中的扩散符合Fick扩散第二定律

研究了采用射频反应溅射方法制备氧化铬耐磨镀层的技术和薄膜的性能.结果表明,采用金属靶材进行射频反应溅射时,由于靶材与反应气体的反应,会出现两种溅射模式,即金属态溅射和非金属态溅射,非金属态溅射模式的沉积速率很低.氧化铬薄膜的硬度主要决定于薄膜中Cr2O3含量,在供氧量不足时会生成低硬度的CrO,制备高硬度氧化铬薄膜需要采用尽可能高的氧流量进行溅射.采用在基片附近局域供氧,可以实现高溅射速率下制备出高硬度的氧化铬薄膜

研究了小电流镀铜封孔对阳极氧化AZ31镁合金耐蚀性能的影响.AZ31镁合金阳极氧化后,在传统的镀铜液中进行阴极小电流处理.SEM、EDS和XRD分析结果表明,阴极小电流处理后,在阳极氧化膜的多孔层中发生了铜的沉积.在质量分数为3.5%NaCl水溶液中测试的极化曲线表明,AZ31镁合金阳极氧化后进行小电流镀铜处理,可以提高自腐蚀电位,降低自腐蚀电流密度,使耐蚀性能得到显著提高

提出了一种镁合金/微弧氧化膜/有机涂层的镁合金防护体系.在以硅酸钠为主的复合溶液中,利用双向对称脉冲电压在阴、阳极镁合金表面同时微弧电沉积陶瓷膜.利用盐雾实验比较了以镁合金微弧氧化膜为基底并涂覆环氧底漆和聚胺脂丙烯酸面漆的试样与镁合金/微弧氧化膜/有机硅、镁合金/微弧氧化膜/溶胶凝胶涂装试样的耐蚀性,并利用盐雾实验与交流阻抗谱相结合跟踪对比分析了镁合金/有机涂层、镁合金/铬酸盐转化膜/有机涂层、镁合金/微弧氧化膜/有机涂层的屏蔽性能.结果表明:采用溶胶凝胶、有机硅和有机涂层对微弧氧化膜进行涂装的方法均可进一步提高镁合金的耐蚀性,其中镁合金/微弧氧化膜/有机涂层试样可承受480h以上的中性盐雾实验,且其介质屏蔽性能优于镁合金/有机涂层和传统的镁合金/铬酸盐转化膜/有机涂层防护体系