绪论 0.前言 1.IC的分类 2.描述IC工艺技术水平的五个技术指标 3.微电子科学技术的发展历史 4.微电子发展的规律 5.半导体IC技术发展趋势 6.我国微电子发展概况

1.1 EDA技术的涵义 1.2 EDA技术的发展历程 1.3 EDA技术的主要内容 1.4 EDA软件系统的构成 1.5 EDA工具的发展趋势 1.6 EDA的工程设计流程 1.7 数字系统的设计 1.8 EDA技术的应用展望

第一章数字电子技术概述 1.数字信号和模拟信号各有什么特点?描写脉冲波形有哪些主要参数 2.和模拟电路相比,数字电路有哪些优点? 3.在数字系统中为什么要采用二进制?它有何优点? 4.数字电路和模拟电路的工作各有何特点? 5.把下列二进制数转换成十进制数:

第十一章模拟电子电路读图 习题 11.1电路如图P11.1所示,其功能是实现模拟计算,求解微分方程。 (1)求出微分方程; (2)简述电路原理

光纤具有巨大的潜在带宽，为了充分利用这些带宽，可以在不同频段上安排不同的光信道，光的波分多路就是光的频分多路（FDM），习惯上称为波分多路复用（WDM）。WDM是在同一根光纤中同时传输多个不同波长光信号的技术。WDM 技术的出现使光传输系统容量成百倍地增长。 3.1 WDM 技术概述 3.2 DWDM 系统组成 3.3 波长分配与通道间隔 3.4 DWDM 系统的节点功能 3.5 IP Over DWDM 3.6 DWDM 光网络的组成结构 3.7 光传送网

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采用激光电子散斑干涉技术、电化学阻抗技术和扫描电化学显微镜技术实时、动态和原位观测了涂覆丙烯酸聚氨酯涂层的碳钢在质量分数为3.5%的NaCl溶液中浸泡初期的界面腐蚀行为,并对比了纳米TiO2的添加对界面腐蚀行为的影响.在浸泡初期无宏观缺陷存在时,激光电子散斑干涉技术成功检测到涂层界面的微小变化,电化学阻抗技术显示不同涂层低频阻抗膜值的变化情况,均与扫描电化学显微镜技术获得的腐蚀电化学形貌结果一致,即在浸泡初期,未添加纳米TiO2的涂层其界面变化速度(即锈蚀萌生速度)较添加涂层明显得多,表明纳米TiO2可延缓涂层/碳钢的界面失效

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实验一. 交流电压和交流电流的隔离测量 实验二. 整流负载电流的测量和分析 实验三. 温度测量实验 实验四. 电场和磁场干扰实验