1范围 电位滴定法适用于一般地面水,不适用于含有酸性工矿废水和酸再生阳离子交换器的出 水。 如水样的矿化度高于1000mg/L,亚铁离子或铝离子含量超过10mg/L时,会对测定产生 干扰,可于滴定前加入1mL50%(m/V)酒石酸钾钠溶液,以消除干扰。铬、铜、胺类、氨、硼 酸盐、亚硝酸盐、磷酸盐、硅酸盐、硫化物和无机酸类及强酸弱碱盐类均会影响测定

采用循环伏安法首次研究了LiF-NaF-K2TiF6-KBF4熔盐体系中钛离子和硼离子在铂、钼电极上电化学还原及电合成硼化钛的阴极过程机理。对恒电位电解的沉积物进行了X射线衍射分析。结果表明,当体系中硼钛摩尔比B/Ti大于2时,钛与硼可在同一电位下实现电解共沉积并反应生成硼化钛

采用动电位极化测量技术测定了4种航空用钛合金材料(TC4,TC11,TA7和TA12)在6种醇类溶液介质中的极化曲线和它们的电化学参数.重点考察了醇类溶液中H2O或Cl-离子的影响.结果表明:醇类溶液中含一定量的H2O可适当改善材料的耐点蚀性能;而醇类溶液中的Cl-离子将严重损害材料的耐点蚀性能,明显使钛合金材料从自钝化状态转变为活化状态

利用电化学阻抗谱等电化学方法及扫描电镜(SEM)技术,研究了反应等离子喷涂TiN涂层在模拟海水中的电化学腐蚀行为.研究结果表明:TiN涂层的自腐蚀电位高于基体,涂层对基体能起到良好的腐蚀屏蔽作用;腐蚀介质通过涂层的通孔、微裂纹等缺陷渗入涂层与基体的界面腐蚀基体,从而使涂层电阻下降、电容增加,所产生的腐蚀产物在一定程度上可以抑制腐蚀反应的进行,但不会阻止基体局部腐蚀的继续进行.涂层的孔隙是造成涂层电化学腐蚀的主要原因

1范围 本方法测硒的最低检出浓度为2.5ig/L。测定上限为50ig/L。 本方法已用于各种天然水、饮用水及炼油、硫酸制造、特种玻璃等工业废水中总硒的测 定。 水中常见离子一般不干扰本法测定硒,若存在较大量的铁、铜、钼及钒等重金属离子时, 对本法有干扰,可用Na2EDTA消除。强氧化剂能将3,3-二氨基联苯胺试剂氧化产生棕 红色,因此水样用混合酸液消解时一定要加热至大量硝酸被赶掉,少量的强氧化剂可用盐酸 羟胺消除

1目的要求 (1)加深理解迁移数的基本概念。 (2)用界面移动法测定HC水溶液中离子迁移数,掌握其方法与技术

采用等离子束作为热源,在16Mn钢上熔覆一层铁基合金涂层.分析了涂层的组织结构;并通过对等离子熔覆热循环的特点和冶金过程的探讨,着重对钢基体的热影响区进行了测试分析;将热影响区划分为过热区、完全相变区和不完全相变区.过热区显微组织粗大,有魏氏体产生,硬度下降;完全相变区晶粒细化,硬度较高;不完全相变区组织只有部分发生转变,晶粒大小不均匀.过热区魏氏体组织的产生,使热影响区有脆化的倾向

第四章水溶液中的化学反应与水体保护 本章讨论可溶电解质在水溶液中的单相 离子平衡,再讨论可溶电解质的多相离子平 衡,同时也介绍配位平衡,最后在讨论目前 水资源概况、水污染现状和控制措施

1.Ⅱ一Ⅵ族化合物半导体起施主作用的缺陷是()。 A.正高子填隙 B.正离子缺位 C.负离子填隙

5.1 质谱的基本知识 5.2 分子离子与分子式 5.3 有机质谱中的裂解反应