(一) 手性和对称性 (二) 具有一个手性中心的对映异构 (三) 构型和命名法 (四) 具有两个手性中心的对映异构 (五) 手性中心的产生 (六) 手性合成(自学) (七) 外消旋体拆分(自学) (八) 不含手性中心化合物的对映异构 (九) 对映异构在研究反应机理中的应用

1 多阶段决策过程最优化问题举例 2 基本概念、基本方程与最优化原理 3 动态规划的应用(1) 4 动态规划的应用(2)

在半导体硅片上集成了微处理器(CPU)，存储器 (RAM、ROM、EPROM)和各种输入、输出接口。 20世纪70年代问世。 已广泛应用在： 工业自动化控制、自动检测、智能仪器仪表、家用 电器、电力电子、机电一体化设备等方面

1.学会应用并解释时间相关数据的图表。 2.估计并讨论疾病的超额死亡率。 3.讨论死亡率资料的优势及缺陷，分析并解释由外因所致的死亡模型。 4.学会应用并分析散点图

§1、芳香化合物的分类和命名 §2、苯的结构 §3、苯的化学性质 §4、苯环上亲电取代反应的定位规律及其应用 §5、稠环芳烃 §6 、非苯芳烃

第一节 化学反应方向 第二节 反应限度 化学平衡 第三节 化学反应速度

7.1 化学反应速率 7.3 温度对反应速率的的影响及阿仑尼乌斯公式 7.2 浓度对化学反应的影响 7.4 反应历程 7.5 碰撞理论和过渡态理论 7.6 催化剂对反应速度的影响

设计一个单片机测控系统，一般可分为四个步骤： （1）需求分析，方案论证和总体设计阶段 需求分析:被测控参数的形式（电量、非电量、模拟 量、数字量等）、被测控参数的范围、性能指标、 系统功能、工作环境、显示、报警、打印要求等。 方案论证:根据要求，设计出符合现场条件的软硬件 方案，又要使系统简单、经济、可靠，这是进行方 案论证与总体设计一贯坚持的原则

系统的抗干扰性能的好坏是影响系统可靠性的重要因 素。 14.1 干扰的来源 影响单片机测控系统正常工作的信号称为噪声，又称 干扰。 影响指令的正常执行，造成控制事故或控制失灵，在 测量通道中产生了干扰，就会使测量产生误差，电 压的冲击有可能使系统遭到致命的破坏。 干扰一般都是以脉冲的形式进入系统的， 窜入单片机系统的渠道主要有三条：

§11.1 方程式的配平 §11.2 原电池 § 11.3 电极电势 § 11.4 电池电势和电极电势的应用 § 11.5 化学电源 § 11.6 电解