绪论 一、单片机的概念 全称为“单片微型计算机”,简称为“单片机”、“单 片微机”或“微控制器”。 在一块半导体芯片上集成有CPU、ROM、RAM、 I/O接口、定时器/计数器、中断系统等功能部件,构成了完整的数字电子计算机。 片内甚至还集成有HSI/O、A/D、电压比较器等功 能部件

主要内容: 1、微型机的存储系统、分类及其特点 2、半导体存储芯片的外部特性及其与系统的连接 3、存储器扩展技术 4、高速缓存

◼ §2.1.1 半导体光源的物理基础 ◼ §2.1.2发光二极管的工作原理、结构及驱动 ◼ §2.1.3 LED的特性 ◼ §2.1.4 LED的特点及应用

主要为从事微电子材料抛光液与清洗剂的开发应用、生产以及销售。改进微电子产品生产工艺、提高其产品质量、降低其生产成本为目的。 生产产品主要包括： ➢ 以“FA/O 超大规模集成电路（ULSI）多层布线介质及铜布线化学机械全局平面化（CMP）纳米磨料抛光液”为代表的国际首例高技术产品； ➢ 以“FA/O 集成电路衬底硅片纳米磨料抛光液”、“FA/O 电子材料清洗剂、半导体材料切削液、倒角液、磨削液、活性剂”为代表的高技术更新换代产品。 产品主要应用于超大规模集成电路（ULSI）衬底半导体材料、半导体器件、正扩大应用于电视机玻壳，液晶显示屏、液晶显示屏基片玻璃、高档金属材料加工、蓝宝石、不锈钢模具及增加二次采油率等领域

近十几年来,激光医学工作者采用光动力疗法(DT)治疗肿瘤,发现PDT治疗肿瘤有很多优点,提高了肿瘤的治疗水平。公司为国内首家生产PDT半导体激光肿瘤治疗仪,由在校学生创办的高新技术企业

本章将讨论薄膜淀积的原理、过程和所需的设备，重点讨论SiO2和Si3N4等绝缘材料薄膜以及多晶硅的淀积。 通过本章的学习，将能够： 1. 描述出多层金属化。叙述并解释薄膜生长的三个阶段。 2. 提供对不同薄膜淀积技术的慨况。 3. 列举并描述化学气相淀积（CVD）反应的8个基本步骤，包括不同类型的化学反应。 4. 描述CVD反应如何受限制，解释反应动力学以及CVD薄膜掺杂的效应。 5. 描述不同类型的CVD淀积系统，解释设备的功能。讨论某种特定工具对薄膜应用的优点和局限。 6. 解释绝缘材料对芯片制造技术的重要性，给出应用的例子。 7. 讨论外延技术和三种不同的外延淀积方法。 8. 解释旋涂绝缘介质

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必做实验 实验一 光无源器件性能测试.1 实验二 光波分复用、解复用实验.2 实验三 5B6B 码的光纤传输.11 实验四 光纤数字信道误码率及眼图测试.16 实验五 语音/视频信号的光纤传输及空间激光通信的干扰、窃听. 29 实验六 光纤纤端光场测试及反射式光纤位移传感实验. .41 实验七 聚合物光纤链路测试实验. .46 实验八 单模光纤衰减谱的测量. 53 实验九 掺铒光纤放大器前向泵浦实验.56 实验十 信号发生器及终端信号实验.65 实验十一 抽样定理与 PAM 通信系统实验.76 实验十二 PCM 及 ADPCM 系统实验. 79 实验十三 增量调制编译码系统实验.87 实验十四 数字基带信号的码型变换实验.96 实验十五 程控交换基本实验.104 实验十六 幅度调制实验. 110 实验十七 FSK（ASK）调制解调实验.119 选 做 实 验 实验十八 PSK 调制解调实验.123 实验十九 通信系统综合实验.129 实验二十 交换模块功能与路由交换实验.133 实验二十一 利用 OTDR 对光纤通信链路进行测试.141 实验二十二 单模光纤截止波长/测试.142 实验二十三 掺铒光纤放大器（EDFA）特性测试实验.145 氦氖激光器原理实验 半导体泵浦固体激光器实验 半导体激光器光源特性实验 光电探测器实验 电光调制实验 声光调制实验 磁光调制实验 光电倍增管特性及微弱光信号探测实验

固体物理学是二十世纪物理学发展最快的一门学科,几十年来,以固体物理的能带理 论为基础,科学家在半导体、激光、超导磁学等现代科学研究方面取得了重大突破,有 关研究成果已经迅速形成生产力,并带动了整个现代信息科学技术群的高速发展。 由于固体物理学讲述了固体中的原子结构、结合规律、运动状态和能量关系,固体中 电子的运动方程、电子的能带结构、金属导体的导电机制、半导体的基本原理、超导性的 基本规律等,因此,固体物理学已经成为物理类和非物理类专业的大学本科学生的必修课 程之一

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