译码是编码的逆过程,译码器是将输入 的二进制代码译成相应的信号输出的电路。译码器输入有n个端子,输出端有m个,若则该译码器叫二进制译码器,若则称为非二进制译码器

编码器是实现将某种信息(数字、字母、符号等)用若干位二进制代码表示的电路。这些二进制代码都具有特定的含义,并称其为编码。编码器有若干个输入,在某一时刻只有个信号被转换为二进制码。输出的冂位二进制码,最多可以用来表示2m个输入信息

8.1 OLED基础 8.2 OLED显示器的有源驱动技术 8.3 有机发光TFT 8.4 AMOLED像素补偿电路 8.5 AMOLED制造工艺技术

7.1 平板显示器的构成与性能参数 7.2 液晶的电光响应特性 7.3 TFT-LCD像素架构 7.4 TFT-LCD的像素级驱动原理 7.5 TFT-LCD的驱动系统 7.6 α-Si:H TFT背板制造技术 7.7 LTPS TFT-LCD中的集成技术 7.8 低功耗TFT LCD 7.9 LTPS TFT 背板制造工艺技术

一、单项选择题(本大题共 14 小题，每小题 1 分，共 14 分) 在每小题列出的四个选项中只有一个是符合题目要求的，请将其代码填写在题后的括号内。 错选、多选或未选均无分。 1.半导体中的少数载流子产生的原因是( ) A.外电场 B.内电场 C.掺杂 D.热激发

一、填空题(每空 1 分，共 10 分) 1. 二极管的主要电气特性为_________。 2. 三极管若发射极正偏，集电极也正偏时，此时三极管处在_________工作状态

3.1 α-Si:H半导体的物理基础 3.2 α-Si:H TFT 的工作原理与特性 3.3 α-Si:H TFT中的关键材料 3.4 α-Si:H TFT 电性能的稳定性

2.1 真空热蒸发镀膜技术 2.1.1 真空热蒸发镀膜的原理 2.1.2 真空热蒸发镀膜的方式及特点 2.2 溅射镀膜技术 2.2.1 气体放电原理 2.2.2 溅射现象 2.2.3 溅射镀膜技术分类及特点 2.3 化学气相沉积技术 2.3.1 CVD原理 2.3.2 CVD技术种类及特点 2.4 光刻技术 2.4.1 光刻原理 2.4.2 光刻工艺概述 2.4.2 光刻胶 2.4.3 对位和曝光 2.4.4 显影 2.5 刻蚀 Eching 2.5.1 刻蚀工艺的品质因数 2.5.2 湿法刻蚀 2.5.3 干法刻蚀

1.了解复数的各种表达式和相互转换关系,掌握复数的四则运算。 2.掌握正弦量的复数表示法,以及复数(相量)形式的欧姆定律。 3.掌握运用相量法分析计算阻抗串、并联的正弦交流电路

5.1 连续时间信号的拉普拉斯变换 5.2 拉普拉斯变换的基本性质 5.3 拉普拉斯逆变换 5.4 应用拉普拉斯变换分析线性电路 5.5 系 统 函 数 5.6 系 统 的 稳 定 性 5.7 系 统 的 频 率 响 应 5.8 用MATLAB进行连续时间信号与系统的复频域分析