10.6.1 晶体管的基本结构 10.6.2 电流分配和电流放大作用 10.6.3 特性曲线 10.6.4 主要参数

10.3.1 二极管的结构 10.3.2 二极管的伏安特性 10.3.3 二极管的主要参数 10.3.4 二极管电路的分析

第一节引言 硅平面工艺是制造 MOS IC的基础。利用不同的 掩膜版,可以获得不同功能的集成电路。因此, 版图设计成为开发新品种和制造合格集成电路的关键。 1、手工设计 人工设计和绘制版图,有利于充分利用芯片面 积,并能满足多种电路性能要求。但是效率低、 周期长、容易出错,特别是不能设计规模很大的 电路版图。因此,该方法多用于随机格式的、产 量较大的MSI和LSI或单元库的建立

9.4.1 磁电式万用表 9.4.2 数字式万用表

9.3.1 单相交流和直流功率的测量 9.3.2 三相功率的测量

1、进一步理解与掌握运放“虚短”与“虚断”的概念,并能熟练运用。 2、掌握基本运算电路。 3、模拟乘(除)法器、有源滤波电路

8.0概述 8.1波形变换电路 8.2施密特触发器 8.3脉冲产生电路 8.4定时器

《电工电子技术》课程教学资源（PPT课件讲稿）第9章 电工测量（小结）

《电工电子技术》课程教学资源（PPT课件讲稿）第9章 电工测量（目录）

8.3.1 安全用电的意义 8.3.2 安全用电的措施 8.3.2 触电急救