本章在分析弯曲变形过程及弯曲件质量影响因素的基 础上，介绍弯曲工艺计算、工艺方案制定和弯曲模设计。 涉及弯曲变形过程分析、弯曲半径及最小弯曲半径影响因 素、弯曲卸载后的回弹及影响因素、减少回弹的措施、坯 料尺寸计算、工艺性分析与工艺方案确定、弯曲模典型结 构、弯曲模工作零件设计等

6.1 冲压工艺设计过程 6.2冲压工艺方案的拟定 6.3模具设计方法 6.4典型冲压件冲压工艺设计实例

在上一章中,我们已经学习了算法的选择结构的C语言 程序实现及其程序流程控制转移方式。本章将讨论最后 一种算法的基本结构──循环结构的C语言程序实现及其 程序流程控制转移方式──循环控制。 所谓循环控制,即满足一个指定的条件，每次使用不 同的数据,对程序中的计算或处理步骤完全相同的程序 段,重复计算若干次的程序控制

§4-1 质点系和刚体的平衡条件 §4-2 平面问题的平衡方程及其应用 §4-4 刚体系统的平衡问题 §4-5 考虑摩擦时物体的平衡问题 §4-3 空间问题平衡方程的应用 §4-6 滚动阻碍的概念 §5-1 可变形体的平衡条件和内力 §5-2 拉压杆的内力 §5-4 梁的弯曲内力 §5-5 利用微分关系作剪力图和弯矩图·叠加法作弯矩图 §5-3 轴的内力计算 §5-6 复杂载荷作用下杆件的内力

3.5方阵的行列式 定义5.1设A=(an)是一个n阶矩阵,则A自然地 确定了一个阶行列式det(an)这个行列式称为 A的行列式,记作|A|或detA

17.1 非线性电阻 17.6* 工作在非线性范围的运算放大器 17.2 非线性电容和非线性电感 17.3 非线性电路的方程 17.4 小信号分析法 17.5 分段线性化方法 17.7* 二阶非线性电路的状态平面 17.8* 非线性振荡电路 17.9* 混沌电路简介 17.10* 人工神经元电路

对应特征值礼=-1只有1个线性无关的特征向量,而特征方程的基础解系为5,全体特征向量为x=k1l1(k1≠0)例9设方阵A的特征值A1≠2,对应的特征向量分别为x1,x2,证明: (1)x1-x2不是A的特征向量;

第五章矩阵的相似变换 5.1矩阵的特征值与特征向量 定义:对于n阶方阵A,若有数λ和向量x≠0满足Ax=x,称λ为A 的 特征值,称x为A的属于特征值λ的特征向量 特征方程:Ax=λx(A-E)x=0或者(ae-A)x=0 (A-E)x=0有非零解det(-E)=0 det(E-A)=0 特征矩阵:A-λE或者λE-A

一.(本题20分)设K为数域.给定K4的两个子空间 M={(x1,2,3,4)|21-x2+4x3-3x4=0,x1+x3-x4=0 N={1,x2,x3,4)3x1+x2+x3=0,7x1+7x3-3x4=0} 求子空间MN和M+N的维数和一组基 二(本题10分)在K4内给定 a1=(1,-1,1,1),a2=(2,-2,0,1). 令M=L(a1,a2).试求商空间K4/M的维数和一组基 三.(本题20分)给定数域K上的3阶方阵 1-11 A=24-2 3-35 1.求K上的3阶可逆方阵T,使T-1AT为对角矩阵 2.对于任意正整数m,求Am

一、自发过程与化学反应的方向性 二、物质的标准熵与化学反应的熵变 三、吉布斯自由能