在现代光测中,全息法测微小位移是常用的方法之一。它又分为时实法和二次曝光 法。本文仅就后一种方法做一简单介绍。二次曝光法即在同一底片上对被测弹性物体受 力前后的信息全部记录下来。底片经冲洗后在原参考照射下再现时,因物体形变前后的 光波相位有差异,所以形成干涉条纹,利用这些干涉条纹图,就可以计量被测物体各点的 位移和形变