第9期 孔德军等：Ni-Fe-Cr基高温合金表面AICrN涂层制备及高温氧化性能 ·1205· 1800, (c)Al 1600 1400 1200 1000 800 Cr 600 9 200 2345678910 能量eV 图7800℃高温氧化4h后A1CN涂层表面形貌与能谱.(a)低倍表面形貌：(b)高倍表面形貌：(c)能谱 Fig.7 Surface morphologies and EDS speetrum of the AlCrN coating after high temperature oxidation at 800Cfor4h:(a)surface morphology at low magnification;(b)surface morphology at high magnification:(e)EDS spectrum 1400 1200 1000 Cr 600 400 200 Cr 06 2345678910 能量kcV 图89O0℃高温氧化4h后A1CN涂层表面形貌与能谱。(a)低倍表面形貌：(b)高倍表面形貌：(c)能谱 Fig.8 Surface morphologies and EDS speetrum of the AlCrN coating after high temperature oxidation at 900 C for 4h:(a)surface morphology at low magnification:(b)surface morphology at high magnification;(e)EDS spectrum 其他元素，说明900℃氧化时基体抗高温氧化性能 存在，出现了Cr,03和AL,0,相的衍射峰.在900℃ 得到明显改善 高温氧化4h后涂层表面AL,0,衍射峰值很低（图9 2.6高温氧化后表面X射线衍射分析 (b)),说明此时的氧化膜以Cr,O,为主，具有良好的 图9为AICN涂层高温氧化后X射线衍射谱. 抗高温氧化性能. 经800℃高温氧化4h后涂层中CrAN和Cr,N相仍 1200 1800r (a) 1600 (b) A Cr,0. 1000 ▲Cr,O OCr,N 1400 OCr.N ◆基体 0◆ ◆基体 800 CrA1N 1200 □CrAIN ★AL,0 1000 400 20X0 ★ 400 200 0 0 10 20 30 405060708090 102030405060 708090 20 20/) 图9A1CN涂层高温氧化4h后表面X射线衍射谱.(a)800℃：(b)900℃ Fig.9 XRD patterns of the AlCrN coating after high temperature oxidation for 4 h:(a)800C:(b)900 C 3结论 不一的凹坑，涂层厚度为1.85~L.93m,与基体结 合良好 (1)利用阴极弧离子镀法制备的A1CN涂层主 (2)X射线光电子谱结果表明：A12p峰谱的结 要成分为A、Cr和N元素，表面较平整，存在着大小 合键为A一N键和少量A一0键，对应物分别为第 期 孔 德 军 等 ： 基 高 温合 金 表 面 涂 层 制 备 及 高 温 氧化 性 能 ■ ■ 图 高 温 氧 化 后 涂层 表 面形 貌 与 能谱 （ 低倍表 面形貌 ； （ 高倍表 面 形 貌 ； （ 能谱 ； ■ 图 高 温 氧 化 后 翁 涂 层 表 面形 貌 与 能谱 （ 低倍表 面形貌 ； （ ■ 高倍表 面 形 貌 ； （ 能 谱 ： ； ； 其他元素 ， 说明 ； 氧 化 时 基 体抗 高 温氧 化性 能 存在 ， 出 现 了 和 相 的 衍射峰 在 得到 明 显改善 高 温 氧化 后涂层 表面 衍射 峰值 很 低 （ 图 高 温 氧化 后 表 面 射线衍射分 析 （ ， 说 明 此时 的 氧化膜 以 为 主 ， 具有 良 好 的 图 为 涂层 高 温 氧 化后 射线 衍射谱 抗高温氧化性能 经 ° 高 温氧化 后涂层 中 和 相仍 〇 〇门 ▲ 〇 基体 秦 哄 沐 □ □ ° ° ° 图 涂 层 高 温 氧 化 后 表 面 射线 衍 射谱 ； ： ° ； ° 收 、 、 不一 的 凹坑 ， 涂层厚度 为 与 基体结 』 论 合 良 好 利 用 阴 极 弧离子镀法制 备 的 涂层 主 （ 射线光 电 子谱结果表 明 ： 峰谱 的 结 要成分为 、 和 元素 表 面较平整 ， 存在着大小 合键 为 — 键 和 少 量 — 键 ， 对 应 物 分 别 为