、透射电子显微镜技术 (一)基本原理与结构 把小于0.2μum的细微结构称为亚显微结构( submicroscopic structures)或超 微结构( ultramicroscopic structures; ultrastructures)。1932年 Ruska发明了以电 子束为光源的透射电子显微镜( transmission electron microscope,TEM),电子束 的波长要比可见光和紫外光短得多,并且电子束的波长与发射电子束的电压平方 根成反比,也就是说电压越高波长越短,目前TEM的分辩力可达02nm,放大 倍数最高可达近百万倍。 电子显微镜主要由四部分组成(图1-1-3):①电子束照明系统:包括电子枪、 聚光镜。由高频电流加热钨丝发出电子,经高压使电子加速,经过聚光镜汇聚成 电子東;②成像系统:包括物镜、中间镜与投影镜等。它们是若干精密加工的中 空圆柱体,里面装置线圈,通过改变线圈的电流大小,调节圆柱体空间的磁场强 度。电子束经过磁场时发生螺旋式运动,最终的结果如同光线通过玻璃透镜时 样,聚焦成像;③真空系统:用两级真空泵不断抽气,保持电子枪、镜筒及纪录 系统内的高真空;④记录系统:电子成像须通过荧光屏显示用于观察,或用感光 胶片记录下来。 图1-13透射电子显微镜的结构组成示意图 另外,由于电子在空气里穿透力很弱,所以电镜的镜筒必须抽成真空,否则 髙速运动的电子核气体分子相互碰撞,会使高速电子散射而偏离轨道,使电镜不 能正常工作。电镜镜筒的真空度越高,其使用性能也就越好。 (二)电镜制样技术 1.超薄切片的制备由于电子束的穿透能力有限,为了获得较高分辨率,需 要使用超薄切片机制成厚度一般仅为40~50nm的超薄切片。 (1)固定是电镜样品制备过程中最重要的一个环节,若固定方法选得适当, 样品的超微结构尽能十分接近活体状态。目前常用的固定剂为四氧化锇(OsO4) 和戊二醛等。 (2)包埋的目的是要使样品中各种细微结构在切片中得到均匀良好的支撑,一、透射电子显微镜技术 （一）基本原理与结构 把小于 0.2μm 的细微结构称为亚显微结构（submicroscopic structures）或超 微结构（ultramicroscopic structures；ultrastructures）。1932 年 Ruska 发明了以电 子束为光源的透射电子显微镜（transmission electron microscope，TEM），电子束 的波长要比可见光和紫外光短得多，并且电子束的波长与发射电子束的电压平方 根成反比，也就是说电压越高波长越短，目前 TEM 的分辩力可达 0.2nm，放大 倍数最高可达近百万倍。 电子显微镜主要由四部分组成（图 1-1-3）：①电子束照明系统：包括电子枪、 聚光镜。由高频电流加热钨丝发出电子，经高压使电子加速，经过聚光镜汇聚成 电子束；②成像系统：包括物镜、中间镜与投影镜等。它们是若干精密加工的中 空圆柱体，里面装置线圈，通过改变线圈的电流大小，调节圆柱体空间的磁场强 度。电子束经过磁场时发生螺旋式运动，最终的结果如同光线通过玻璃透镜时一 样，聚焦成像；③真空系统：用两级真空泵不断抽气，保持电子枪、镜筒及纪录 系统内的高真空；④记录系统：电子成像须通过荧光屏显示用于观察，或用感光 胶片记录下来。 图 1-1-3 透射电子显微镜的结构组成示意图 另外，由于电子在空气里穿透力很弱，所以电镜的镜筒必须抽成真空，否则 高速运动的电子核气体分子相互碰撞，会使高速电子散射而偏离轨道，使电镜不 能正常工作。电镜镜筒的真空度越高，其使用性能也就越好。 （二）电镜制样技术 1．超薄切片的制备 由于电子束的穿透能力有限，为了获得较高分辨率，需 要使用超薄切片机制成厚度一般仅为 40～50nm 的超薄切片。 （1）固定是电镜样品制备过程中最重要的一个环节，若固定方法选得适当， 样品的超微结构尽能十分接近活体状态。目前常用的固定剂为四氧化锇（OsO4） 和戊二醛等。 （2）包埋的目的是要使样品中各种细微结构在切片中得到均匀良好的支撑