二、尺寸缩小对工艺技术的挑战 1、光刻(lithography)技术 目前纳米结构制作的主要途径是采用光刻手段在 物体上制作纳米量级图形。 随着光学光刻的极限分辨率可以达到光源波长的 一半，193nm波长的光源分辨率则可以达到 100nm,1 57nm波长的光源分辨率将达到70nm。 而由于深紫外线能被各种材料强烈吸收，继续缩 短波长将难以找到制作光学系统的材料。 Ultraviolet(UV,紫外)，Deep Ultraviolet(DUV,深紫 外)，ExtremeUltraviolet(EUV,极紫外)1、光刻（lithography）技术 • 目前纳米结构制作的主要途径是采用光刻手段在 物体上制作纳米量级图形。 • 随着光学光刻的极限分辨率可以达到光源波长的 一半，193nm波长的光源分辨率则可以达到 100nm，157nm波长的光源分辨率将达到70nm。 而由于深紫外线能被各种材料强烈吸收，继续缩 短波长将难以找到制作光学系统的材料。 • Ultraviolet（UV，紫外）, Deep Ultraviolet(DUV，深紫 外) ,ExtremeUltraviolet(EUV，极紫外)