复旦大学：《仪器分析和物理化学》课程教学资源（PPT实验课件）电势—pH曲线的测定（Potential-pH Diagram）

用光催化剂Y2O3/WO3对含酸性红B染料的废水处理进行了研究.探讨了光催化剂作用机理,讨论了光催化剂组成、光催化剂用量、试液pH值、双氧水用量、光照时间与酸性红B溶液脱色率的关系.实验结果表明:w(Y2O3)=3.0%,50mL试液起始质量浓度为20mg·L-1,催化剂用量为0.4g,pH=6.0,双氧水用量为7.35mmol·L-1,光照6h,酸性红B溶液的脱色率可达99.3%

系统地研究了耐高温菌sulfolobus的生长特性.sulfolobus在65℃以上能良好地生长,并对亚铁和元素硫均具有较好的氧化作用;在75℃时,sulfolobus氧化Fe2+和元素硫的活性最强,细菌的生长曲线和细菌氧化Fe2+和元素硫的趋势一致.给出了细菌生长过程溶液SO42-和pH的变化趋势;以黄铜矿精矿为培养基对sulfolobus进行了适应性培养,并在75℃下进行了黄铜矿摇瓶浸出研究.结果显示:适应性驯化后的sulfolobus在黄铜矿精矿上生长与浸矿性能良好;当矿浆质量分数在10%以下,浸出150h,Cu浸出率可达90%以上;而矿浆质量分数在15%以上时,浸出350h,浸出率仅80%.同时还研究了浸出体系溶液氧化还原电位Eh和pH随时间的变化规律

福建紫金山含砷低品位硫化铜矿年产300tCu和1000tCu生物堆浸工业试验结果表明:铜浸出率随着矿石粒度的减小而提高,矿石粒度为-30mm,浸出周期为270d,铜的浸出率达到80.58%;铜萃取率和电积电流效率随着浸出液pH值的降低和电积液中铁的质量浓度的增加而降低,当浸出液pH值下降到1.19时,铜萃取率下降到了50%;通过增加堆高、定期中和萃余液、增加负载有机相洗涤和活性炭+沙滤+气浮塔脱除电积原液中有机物等工艺改进后,降低了萃取剂、煤油和电能的消耗量,提高了铜的浸出速率,浸出周期为200d,铜浸出率为81.31%,铜萃取-电积的耗电量为2679.98kW·h·t-1,高纯阴极铜生产成本1.05万元·t-1

根据铜坑矿矿坑水的水质特征,选取了复合混凝法对其进行处理,通过单因素及正交试验,研究了混凝剂和助凝剂配比、溶液pH值、搅拌速度和搅拌时间等因素对矿坑水中Zn2+去除效果的影响,确定了各因素的较佳水平.当聚合氯化铝(PAC)/聚丙烯酰胺(PAM)为2:1,协同效应达到最好;pH值为9,搅拌速度为80 r·min-1,搅拌时间为10 min时,处理效果最佳.经实际水样处理试验结果表明:Zn2+去除率达93.9%,出水中Zn2+质量浓度满足国家排放标准要求

以煤油作为辉钼矿的主要捕收剂,以气溶胶形式进行加药,进行了煤油用量实验、浮选时间实验、pH值和磨矿细度影响实验,研究采用气溶胶浮选技术提高某铜钼矿钼回收率.气溶胶浮选技术可使铜钼混合浮选阶段钼回收率提高3%,且浮选时间缩短20%左右;在相同的回收率下,气溶胶浮选法使用的煤油用量可节省40%;气溶胶浮选的最佳磨矿细度为0.074mm占65%,浮选矿浆最佳pH值为9.与传统浮选工艺相比,气溶胶浮选技术具有浮选效率高、药剂用量少等特点,在低品位难选矿石浮选方面具有一定优势

对光合细菌的生长条件进行了较系统的研究与观察,发现温度、照度和pH值影响光合细菌的生长,并且三者之间又相互制约.实验结果表明,温度为30℃,照度为2 250 lx,pH值为7~8时光合细菌的光密度最大,生长态势最好

利用双碱法进行烧结烟气脱硫过程中,脱硫副产物亚硫酸钙的氧化是工艺中很重要的化学过程.设计实验室实验,模拟工程中亚硫酸钙氧化过程,通过改变反应时间、温度、初始pH值、搅拌强度、曝气量和固含量等,研究亚硫酸钙氧化效率的影响因素及变化规律.添加锰离子作催化剂,研究其对亚硫酸钙的氧化是否有促进作用.结果表明,亚硫酸钙的氧化受反应时间、温度、初始pH值、搅拌强度、曝气量和固含量的影响,且锰离子可以显著促进亚硫酸钙的氧化,并确定了最适合的工艺条件

利用纯二氧化锰在微酸性条件下对异化金属还原菌进行驯化,二氧化锰的颜色由黑色逐渐变浅至白色,X射线衍射分析表明微生物可有效还原二氧化锰成为碳酸锰;以发酵制氢废液为还原底物,利用异化金属还原菌在不同酸性条件下直接浸出低品位软锰矿,通过单因素实验研究厌氧条件、pH值对锰浸出率的影响,并对制氢废液化学需氧量(COD)的去除率及浸出机理进行研究.结果表明,异化金属还原菌利用发酵制氢废液还原软锰矿,厌氧浸出优于好氧浸出,最佳pH值为3.0~3.5,浸出时间为3 d时,最大浸出率达到98%;用软锰矿对发酵制氢废液在微酸性条件下进行降解,COD质量浓度为2612 mg·L-1时最大去除率达到84%,COD去除率随软锰矿量的增加而增大

采用交流阻抗技术研究了钝化304不锈钢在pH8.4,H3BO3(0.2Mol/t-Na2B4O7(0.05mol/1)及pH9.2,Na2B4O7(0.05mol/l)的含氯介质中的点蚀行为;提出了点蚀的反应机理及发展阶段的界面等效电路模型,并认为在点蚀的发生和发展阶段都可能有复合物(MOHCl)及其进一步的吸附产物(MOHCl-Cln-)ad形成