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河南农业大学:《园林苗圃学》课程教学资源(PPT课件)第四章 苗木的播种繁殖
文档格式:PPT 文档大小:816KB 文档页数:96
第一节 播种繁殖的意义与特点 第二节 整地作床 第三节 播种前的种子处理 第四节 播种育苗技术 第五节 播种育苗的发育特点及管理
《LaTeX2e1》参考书籍PDF电子版:第八章 高级功能
文档格式:PDF 文档大小:3.73MB 文档页数:41
本章描述X用来调整所谓‘文档准备系统的那些功能,而前面几章 主要着重于文本处理。修饰词‘高级’可能会有误导作用,因为这里只是指这 些功能对于高效地创建长而复杂的文录是相当重要的。这里的内容包括把 个文档分成几个文件,文档中不同部分的选择处理,章节、插图和公式的交 叉引用,自动生成参考文献、索引和汇总,处理不同的字体集合,准备报告 材料
钙处理过程夹杂物演变及热力学分析
文档格式:PDF 文档大小:515.19KB 文档页数:5
通过检测分析钙处理前后钢中夹杂物的形貌和成分的变化,探讨钢液钙处理过程中夹杂物演变规律.利用热力学计算,优化钙处理工艺.结果表明,钙处理可以将钢液中不规则固态夹杂物改性为球形液态夹杂物;1873 K下,当[Al]为0.030%时,[O]控制在5×10-617×10-6,[Ca]控制在0.7×10-630×10-6,钢中夹杂物变性效果良好;当[Al]为0.030%时,[S]控制在6×10-619×10-6,既能使钢中Al2O3夹杂生成液态铝酸钙夹杂物,同时又可以减少CaS生成
《工业水处理》:水中硼的去除方法研究进展(天津大学环境科学与工程学院:侯若昕、顾平、韦晓竹、张光辉)
文档格式:PDF 文档大小:393.89KB 文档页数:5
硼广泛应用于现代工业的各个领域,随之而来的含硼废水也开始引起人们的关注。苦咸水和海水由于硼含量较高,作为饮用水或灌溉水之前必须进行除硼处理。水中硼的去除方法逐渐成为人们关注和研究的热点之一。概述了硼的相关环境标准及水中硼的去除方法,分析了各种方法的优缺点,探讨了除硼方法的发展趋势
北京大学:《量子力学》课程教学资源(PPT课件讲稿)第三章 一维定态问题
文档格式:PPT 文档大小:953.5KB 文档页数:59
在继续阐述量子力学基本原理之前,先用 Schrodinger 方程来处理一类简单的问题——一维定态问题。其好处有四: (1)有助于具体理解已学过的基本原理; (2)有助于进一步阐明其他基本原理; (3)处理一维问题,数学简单,从而能对结果进行细致讨论,量子体系的许多特征都可以在这些一维问题中展现出来; (4)一维问题还是处理各种复杂问题的基础
天津大学管理学院:《管理科学基础》课程PPT教学课件(运筹学)第十三章 排队系统分析(13.5)MG1排队模型
文档格式:PPT 文档大小:118KB 文档页数:4
以上讨论了M/M/1和M/M/C系统,其 前提均为泊松输入和负指数服务处理,这 类系统的工具是生灭工程状态转移图。在 实际中,有时到达仍为泊松过程,但服务 时间并不服从负指数分布,即M/G/1系统 这时不能用生灭过程处理,而主要依据布 拉切克-钦辛公式(P-K公式)
机械工业出版社:《MCS-51单片机原理及应用》课程教学资源(PPT讲稿)第5章 MCS-51单片机的中断系统
文档格式:PPT 文档大小:327KB 文档页数:12
定义:计算机在执行某一程序的过程中, 由于计算机系统之外的某种原因,有必要 尽快地中止当前程序的运行,而去执行相 应的处理程序,待处理程序结束后,再返 回来继续执行被中止了的那个程序。这种 某一程序在执行过程中由于外界的原因, 中间被打断的情况就称为“中断”
吉林大学:《外科护理学》课程电子教案(PPT课件)阑尾炎病人的护理
文档格式:PPT 文档大小:243KB 文档页数:16
第一节 解剖生理概要 第二节 急性阑尾炎与护理 病因 病理类型 临床表现 处理原则 术前、术后护理措施 其它类型的急性阑尾炎
山东大学:《机械制造》课程教学资源(讲义)第四十讲 数控加工后置处理技术
文档格式:DOC 文档大小:34KB 文档页数:5
本文分析了数控加工后置处理技术的特征、面临的问题和当前的发展趋势,介绍了应用通用后置处理 器开发定制专用后置处理器的实践。 关键词: 自动编程工具刀具路径文件数控代码后置处理器数控加工程序 数控编程是CAM的重要组成部分。它包括加工刀具路径文件的生成和机床数控代码指令集的生成
真空液相重结晶法改善InSb薄膜的组织和性能
文档格式:PDF 文档大小:473.14KB 文档页数:4
利用真空下氩气保护液相重结晶的方法,对热蒸镀和磁控贱射制得的Insb薄膜进行热处理.X射线衍射和组织分析的结果表明:热处理前薄膜为Insb,In,Sb各相的混合物;重结晶后,基本为InSb单相,InSb晶粒呈规则状外形长大.热处理后室温下的电子迁移率大大提高,由原来的1.31×104 cm2/(V·s)提高到4.47×104 cm2/(V·s)(热蒸镀)和2.15×103 cm2/(V·s)提高到2.04×104 cm2/(V·s)(磁控溅射)
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