电流的几个概念 电流连续性方程 恒温电流电场 欧姆定律 电流的功与功率 金属导电的经典微观理论 再论恒稳电流电场 电源与电动势 基尔霍夫定律 复杂电路计算 电容器充放电 一些练习

第四章 电气设备绝缘预防性试验 4.1 绝缘老化 4.2 绝缘电阻和吸收比和泄露电流的测量 4.3 介质损耗角正切tgδ的测量 4.4 局部放电及其测量（Partial Discharge,PD) 4.5 电压分布的测量 4.6 绝缘状态的综合判断 第五章 绝缘的高电压试验 5.1 工频交流耐压试验 5.2 直流高压试验 5.3 冲击高电压试验 5.4 高电压测试技术

10-5 基尔霍夫定律 10-6 电容器的充放电

2.1 集成电路运算放大器 2.2 理想运算放大器 2.3 基本线性运放电路 2.4 同相输入和反相输入放大电路的其他应用

§4.1 概述 一、集成运放的特点 二、集成运放电路的组成 三、集成运放的电压传输特性 四、集成运放的应用 §4.3 集成运放中的电流源 一、零点漂移现象及其产生的原因 二、长尾式差分放大电路的组成 三、长尾式差分放大电路的分析 四、差分放大电路的四种接法 五、具有恒流源的差分放大电路 §4.2 差分放大电路 §4.4 集成运放的电路分析及其性能指标

• 运算放大器的电路模型 • 理想运放的两条重要规则 • 含理想运放电路的分析要点 • 几个典型电路

2.1 真空热蒸发镀膜技术 2.1.1 真空热蒸发镀膜的原理 2.1.2 真空热蒸发镀膜的方式及特点 2.2 溅射镀膜技术 2.2.1 气体放电原理 2.2.2 溅射现象 2.2.3 溅射镀膜技术分类及特点 2.3 化学气相沉积技术 2.3.1 CVD原理 2.3.2 CVD技术种类及特点 2.4 光刻技术 2.4.1 光刻原理 2.4.2 光刻工艺概述 2.4.2 光刻胶 2.4.3 对位和曝光 2.4.4 显影 2.5 刻蚀 Eching 2.5.1 刻蚀工艺的品质因数 2.5.2 湿法刻蚀 2.5.3 干法刻蚀

2.1 集成电路运算放大器 2.2 理想运算放大器 2.3 基本线性运放电路 2.4 同相输入和反相输入放大电路的其他应用

2.1 集成电路运算放大器 2.2 理想运算放大器 2.3 基本线性运放电路 2.4 同相输入和反相输入放大电路的其他应用

7.5.1 负反馈放大电路的自激条件 7.5.2 用波特图判断自激