在现代光测中,全息法测微小位移是常用的方法之一。它又分为时实法和二次曝光 法。本文仅就后一种方法做一简单介绍。二次曝光法即在同一底片上对被测弹性物体受 力前后的信息全部记录下来。底片经冲洗后在原参考照射下再现时,因物体形变前后的 光波相位有差异,所以形成干涉条纹,利用这些干涉条纹图,就可以计量被测物体各点的 位移和形变

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4.10.1周期误差的测定 一、周期误差 测距信号为e1,串扰信号为e2,相位差为,串扰信号与测距信号的强度比为K=e2/e1,串扰信号引起的附加相位移为△。K大,ΔΦ大

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