一、概述 液晶显示器（LCD）特点： 优点：功耗低、平面、体轻、无辐射。 缺点：低温特性差（反应时间长）。 反应时间与液晶盒两端电压以及材料的粘 度有关，而二者又与温度有关。 在0度以下，反应时间会大大降低，使显示 迟缓

在充分考虑RH平衡碳氧浓度的前提下,建立脱碳反应数学模型.以210 t超低碳钢RH冶炼工艺为背景,详细给出数学模型的建立原则与过程.将模拟结果与实际测量数据进行对比发现,数学模型与实际测量数据有很好的吻合度.碳元素在钢液内存在一定的不均匀性,真空室自由液面下降管上方碳元素质量分数最小,钢渣界面处上升管右侧碳元素质量分数最大,循环20 min后,二者相差0.0025%左右

用微电极研究了316L不锈钢楔形缝隙在3.5%NaCl溶液(室温)中的溶液化学变化规律。结果表明:在两种不同缝隙开口情况下,缝隙内各点的Cl-都发生了富集,pH也都降低;当缝隙开口为1.36mm时,缝隙内Cl-浓度随时间和与缝口距离的增大而增大,pH值随之下降,最高Cl-浓度为1.6mol/l,最低pH值为5.01;当缝隙开口为0.22mm,最高Cl-浓度为1.1mol/l,最低pH值为3.1.缝隙内溶液酸化是由于金属离子的水解和Cl-的共同作用,缝内金属氯化物浓度甚至可以达到饱和态

介绍了HSLC钢的力学性能、成分和纯洁度控制,讨论了HSLC钢的强化机理.结果表明,在σ8 ≤ 450MPa条件下,珠钢电炉-CSP工艺生产的HSLC钢的力学性能与国外同类钢相当.提出了HSLC钢的成分控制要点,开发了电炉终点碳控制和低氧控制技术,发现了低碳钢中存在纳米硫化物、氧化纳、氮化物和碳化物.与HSLA钢类似,HSLC钢亦具有沉淀强化机制,纳米铁碳化物应是主要沉淀强化相

对钙处理工艺过程中夹杂物变性处理需要的钙含量以及硫化钙的生成条件进行了热力学计算,确定了LF处理后硫含量需控制的上限和钙处理后钙含量所需的下限;实验研究了温度和喂钙线量对钙收得率的影响以及钙处理后弱吹氩时间与钢中钙和铝的损失的关系.以理论计算和实验结果为基础,优化钙处理工艺,保证LF处理后钢液含硫不大于0.007%(质量分数),按每炉钢喂钙线100~200 m、喂钙线后弱吹氩25 min,最终低碳冷镦钢夹杂物合格率达提高到92%

研究了采用射频反应溅射方法制备氧化铬耐磨镀层的技术和薄膜的性能.结果表明,采用金属靶材进行射频反应溅射时,由于靶材与反应气体的反应,会出现两种溅射模式,即金属态溅射和非金属态溅射,非金属态溅射模式的沉积速率很低.氧化铬薄膜的硬度主要决定于薄膜中Cr2O3含量,在供氧量不足时会生成低硬度的CrO,制备高硬度氧化铬薄膜需要采用尽可能高的氧流量进行溅射.采用在基片附近局域供氧,可以实现高溅射速率下制备出高硬度的氧化铬薄膜

1高分子化合物与低分子化合物有何区别? 答案: 高分子化合物与你分子化合物的最根本的区别在于两者的相对而言分子质量 的大小不同,通常低分子化合物的相对分子质量在1000以下,而高分子的相对 分子质量在5000以上,高分子化合物具有相对密度小,强度大,高弹性和可塑 性特殊性质

对复合添加少量Sn和Sb或Sn和Bi的低碳高硫易切削钢做了切削和高温热塑性实验.结果表明:试样在长时间的高速切削条件下刀具后刀面磨损很小,其易切削性能明显优于SAE1215钢.含Sn和Sb的钢样在750~950℃温度范围内塑性较差,在1050~1300℃范围内具有良好的塑性.扫描电镜及能谱分析表明:钢中Sn和Sb元素在晶界、MnS夹杂物内及MnS边界处均存在;大部分的Bi元素附着在MnS夹杂物上,一部分弥散分布在钢的基体中;钢中MnS夹杂主要呈球状和纺锤状

在气动式间接杆杆型冲击拉伸实验机上对工业生产的两种低碳Si-Mn系TRIP钢不同应变率下的高速冲击拉伸性能进行了研究,并和静态拉伸性能进行了比较.结果表明,两种钢的室温拉伸性能随应变率变化具有相同趋势,但动态下的应变率敏感性比静态下的要高得多.由于TRIP钢组织中残余奥氏体的变形诱发向马氏体的转变显著改善了材料的塑性

研究了低合金钢-硝酸盐溶液体系的应力腐蚀行为。测定了温度,浓度和电极电位对各种腐蚀类型及腐蚀强度的影响。建立了相应的温度-浓度-电位SCC图。确定了该体系的下临界电位和SCC敏感电位范围。讨论了采用阴极保护的可能性