鲜叶是茶树顶端新梢的总称,包括芽、叶、梗。鲜叶又称生叶、荼草、青叶等。采摘 下来的茶叶嫩梢,经过不同的加工之后,便形成各种不同品质特征的成品茶。 鲜叶是形成茶叶品质的物质基础。茶叶质量的高低,主要取决于鲜叶质量的高低,制 茶技术是否合理。鲜叶的质量是形成茶叶品质的内在根据,制茶技术则是茶叶形质转化的外 在条件

简要介绍了传统专家系统知识库所存在的问题,提出了一个基于神经网络的碳钢和低合金钢大气腐蚀知识库系统,并着重阐述了这种新型知识库系统的知识获取、知识表示和系统的实现等问题

近年来路径跟踪控制的发展十分迅猛，研究者们发表了大量的研究成果。考虑到在相同或相近工况下的路径跟踪控制存在一些共性的技术问题与解决思路，从低速路径跟踪控制和高速路径跟踪控制两个角度对近年来的研究成果进行了回顾。在关于低速路径跟踪控制的研究工作中，研究者们较为重视前轮转角速度约束等系统约束对路径跟踪精确性的影响。目前减少系统约束影响的方法包括在规划参考路径时将系统约束纳入考虑，采用预瞄控制使控制器提前响应，以及采用线性模型预测控制（LMPC）或非线性模型预测控制（NMPC）等模型预测控制方法作为路径跟踪控制方法等。考虑到NMPC既能减少系统约束的影响，又无需人为设置预瞄距离，且对定位误差等扰动因素具有较强的鲁棒性，加之低速路径跟踪控制对实时性的需求较低，因此可以认为NMPC能够满足低速路径跟踪控制的绝大多数需求。高速路径跟踪控制在受系统约束影响之外，还面临着较高车速带来的行驶稳定性不足问题的挑战，因此常采用能够将动力学层面的复杂系统约束纳入考虑且计算成本较低的LMPC作为路径跟踪控制方法。不过仅采用动力学层面的LMPC控制方法无法完全解决高速路径跟踪控制中路径跟踪精确性和车辆行驶稳定性之间存在耦合的问题，目前常见的解决思路是在路径跟踪控制中加入额外的速度调节或权重分配模块。此外，在高速路径跟踪控制中，地面附着系数等环境参数的影响也较大，因此地面附着系数等环境参数的估算也成为了高速路径跟踪控制领域的重要研究方向

低压电器(Low voltage Apparatus)通 常指工作在交、直流电压1200V以下的电路中起通 断、控制、保护和调节作用的电气设备。 本章主要介绍常见的接触器、继电器 低压断路器、万能转换开关、熔断器等设备的基本 结构、功能及工作原理

1.1 概述 1.2 常用低压电器 •低压电器的基本知识 •电气的图形符号和文字符号 •电气图的分类与作用 •按钮及开关 •接触器、继电器 1.3 基本控制电路 •单向运动控制线路 •多地控制线路 •双向(可逆)运动控制线路 •顺序控制线路 •行程开关控制线路 1.4 电动机起动控制 •定子串电阻起动控制线路 •电动机的Y—△起动控制线路 •自耦变压器降压起动控制线路 •三相交流绕线式异步电动机的起动控制 1.5 三相异步电动机制动控制电路

提出了一种夹杂物控制技术——反应诱发微小异相净化钢水技术,采用转盘造粒工艺制备了具有该种功能的复合球体,并在RH精炼后期加入上述球体进行工业现场试验.结果表明:反应诱发微小异相净化钢水技术是一种成本低、效率高且简便易行的夹杂物控制技术,它可以短时间(大约10min)内显著降低钢液中的非金属夹杂物的数量;与传统工艺相比,采用该技术对钢液进行处理后,铸坯中氧化物夹杂的数量明显减少,尺寸变小,铸坯的平均全氧T[O]最低可达6×10-6,吨钢成本可降低5~10元

从炼铁新技术及基础理论研究方面介绍了烧结球团提质降耗新技术、焦炭在高炉内行为解析研究、高炉喷吹清洁燃料技术、高炉长寿技术、高炉炼铁数据建模技术以及冶金尘泥再处理技术。从基础研究出发，提出了目前最具有潜力的炼铁新技术；然后在国家碳中和战略的大背景下，综述了目前国际上的非高炉炼铁技术研究进展，为我国低碳炼铁发展提供依据；最后从最新微观研究手段出发，介绍了目前炼铁研究领域在微观尺度的研究进展，多尺度综合调控研究高炉炼铁过程机理，为未来低碳炼铁发展方向提供思路

低压电器( Low voltage Apparatus)通常指工作在交、直流电压1200V以下的电路中起通断、控制、保 护和调节作用的电气设备。本章主要介绍常见的接触器、继电器、低压断路器、万能转换开关、熔断器等设 备的基本结构、功能及工作原理

随着深空探测任务发展,飞船返回舱和星际探测器的大底和侧壁等部位的高热流密度、高值和长气动加热时间的热环境对热防护系统及材料的气动外形保持能力、轻量化、防热效率、隔热性能和长时间服役能力提出了更高的要求,使得具有烧蚀、隔热性能优异和结构重量轻等特点的低密度烧蚀材料备受关注

研究了采用射频反应溅射方法制备氧化铬耐磨镀层的技术和薄膜的性能.结果表明,采用金属靶材进行射频反应溅射时,由于靶材与反应气体的反应,会出现两种溅射模式,即金属态溅射和非金属态溅射,非金属态溅射模式的沉积速率很低.氧化铬薄膜的硬度主要决定于薄膜中Cr2O3含量,在供氧量不足时会生成低硬度的CrO,制备高硬度氧化铬薄膜需要采用尽可能高的氧流量进行溅射.采用在基片附近局域供氧,可以实现高溅射速率下制备出高硬度的氧化铬薄膜