利用扫描电镜(SEM)、透射电镜(TEM)等实验方法,研究了不同回火温度对屈服强度600MPa级Fe-Mn-Nb-B系低碳贝氏体高强钢组织和性能的影响.结果表明:回火温度对屈服强度和抗拉强度均有较大影响.各回火温度下的低碳贝氏体钢性能与回火前相比,屈服强度均有不同程度的升高,而抗拉强度则均有不同程度的下降;600℃回火时屈服强度比回火前高出105MPa.随着回火温度的升高,屈服强度先上升后又略有下降并在600℃时达到最大值,抗拉强度下降明显,伸长率略有升高,屈强比升高.分析认为:回火前后力学性能的变化主要与回火后有更多弥散的尺寸在20nm以下的新的细小粒子析出以及马氏体占绝大多数的大块M/A岛的分解和发生位错多边形的回复有关

10.1物质的光学活性 10.2含有一个手性碳原子的化合物 10.3含有两个手性碳原子的化合物 10.4不含手性碳原子的旋光异构

解好有机合成题的基础是将有机反应按官能团转化、 增长碳链、减少碳链、重组碳架、环扩大、环缩小、开 环、关环等进行归纳、熟记、灵活应用

一、基本概念 二、分子的结构与旋光活性 三、含一个手性碳原子化合物的旋光异构 四、含两个手性碳原子化合物的旋光异构 五、环状化合物的立体异构体 六、不含手性碳原子化合物的旋光异构 七、旋光异构体的性质

第一节 平面偏振光及比旋光度 第二节 分子的对称性和手性 第三节 含一个手性碳的化合物 第四节 含两个手性碳的化合物 第五节 外消旋体的拆分 第八节 不对称合成 第六节 取代环烷烃的立体异构 第七节 不含手性碳原子的手性分子 1.有手性中心的旋光异构体 2.有手性轴的旋光异构体 3.有手性面的旋光异构体 一 外消旋化 二 差向异构化 三 外消旋体的拆分 四 不对称合成

采用激光电子散斑干涉技术、电化学阻抗技术和扫描电化学显微镜技术实时、动态和原位观测了涂覆丙烯酸聚氨酯涂层的碳钢在质量分数为3.5%的NaCl溶液中浸泡初期的界面腐蚀行为,并对比了纳米TiO2的添加对界面腐蚀行为的影响.在浸泡初期无宏观缺陷存在时,激光电子散斑干涉技术成功检测到涂层界面的微小变化,电化学阻抗技术显示不同涂层低频阻抗膜值的变化情况,均与扫描电化学显微镜技术获得的腐蚀电化学形貌结果一致,即在浸泡初期,未添加纳米TiO2的涂层其界面变化速度(即锈蚀萌生速度)较添加涂层明显得多,表明纳米TiO2可延缓涂层/碳钢的界面失效

手性、手性分子、手性碳原子、对映体、非对映体、 外消旋体和内消旋体的概念；对映异构体命名方法（R/S）；立体异构体表示法——费歇尔投影式、透视式。 第一节 物质的旋光性 第二节 分子的手性和不对称性 第三节 含有一个手性碳原子的对映异构 第四节 构型标记法 第五节 含有两个手性碳原子的对映异构

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第一节 分子手性与旋光性 Molecular Chirality: Enantiomers 第二节 对称性、手性、手性碳与构型标记 ❖对称性与手性 ❖手性碳与分子手性 ❖手性、对称性与旋光性 ❖构型标记 ◼ 绝对构型 ◼ 相对构型 第三节 不含手性碳原子化合物的对映异构体 第四节 光活性物质的性质与旋光性的测定 1. 旋光异构体的物性比较 2. 旋光性的测定 第五节 反应中的立体化学与手性化合物制备 ❖反应中的立体化学 ◼加成反应 ◼亲核取代 ◼消除反应 ❖手性化合物制备 第六节 外消旋体的拆分

第一节 物质的旋光性 第二节 对映异构现象与分子结构的关系 第三节 含一个手性碳原子化合物的对映异构 第四节 含二个手性碳原子化合物的对映异构 第五节 构型的R、S命名规则 第六节 环状化合物的立体异构 第七节 不含手性碳原子化合物的对映异构 第八节 外消旋体的拆分 第九节 亲电加成反应的立体化学