一、 网络层概论 二、 IP的基本概念 三、 IPv6 四、高速IP网络技术 五、 第三层 (L3) 交换

目的：制作一个如图 57.1 所示的风扇。 要点：主要是各种图层效果的应用。本例主 要应用 Bevel and Emboss、Gradient Overlay、Stroke 和 Satin 等各种图层 效果来完成

目的：制作图 43.1 所示的层叠字效果。 要点：步骤比较简单，主要使用图层操作来 完成，对图层进行不同的操作可以得 到不同的层叠效果。本例主要应用 Horizontal Type Tool、Duplicate Layer 命令、Rotate 操作等工具完成

1 概述 2 积层多层板用材料 3 积层多层板的关键工艺 4 积层多层板盲孔的制造技术 5 积层多层板工艺制程的实例分析

利用常规电镜及高分辨电镜等方法,研究了热锻Ti-45Al-8Nb-2.5Mn-0.05B合金中具有较高应变能的非平衡片层界面,在随后的800℃,15min与1000℃,4min退火过程中的结构变化.这些结构松弛主要有:片层界面趋于更加弯曲,α2片层的缩颈与球化和γ片层中形成许多小角度晶界等

电渣重熔过程渣皮存在明显的分层现象.本文对生产过程渣皮进行取样分析,揭示不同位置渣皮分层的组织结构和成分分布.结合激冷层的生成机制,提出以激冷层成分反映渣池成分的设想.通过同一支电渣锭生产过程不同位置(高度)渣皮的激冷层成分测定,得到冶炼过程渣池成分的变化规律

用磁控溅射镀膜方法，制成了巨磁电阻自族间多层膜Ta/NiFe/Cu/NiFe/FeMn/Ta.它具有优良的特性.其室温磁电阻比率MR＞2%，自由层矫顽力Hc1<160A/m，自由层零磁场漂Hf<800A/m和钉扎层交换场Hex≈20×103 A/m.作为新型磁功能材料，它满足高灵敏磁性传感器和硬盘读出头的要求.对多层膜制备的方法也作了系统研究，并讨论了缓冲层和钉扎层的制备工艺和微结构对磁性能的影响

采用静态氧化增重实验及扫描电镜、能谱分析和X射线衍射分析等手段，研究了ODS-310合金在高温环境下的氧化行为，分析了氧化层的形貌、成分和物相，并对其高温氧化动力学曲线进行拟合.实验发现各个温度下的氧化动力学曲线均基本符合抛物线规律.在700℃和900℃氧化100 h以后，ODS-310合金均表现出优异的抗氧化性能.但是，当氧化温度为1100℃时，氧化层厚度明显增厚，而且氧化层有疏松和不连续的现象，不利于氧化层对基体的保护.氧化程度随着氧化温度的提高和氧化时间的延长而加剧.通过能谱和X射线衍射综合分析可知氧化层的物相为Cr2O3

§1层流速度边界层的相似解 §2低速、常物性的层流边界层能量方程 §3壁温为常数的平壁上换热 §4楔型流的换热 §5壁温任意变化的情况 §6任意形状物体上换热

研究了Ta种子层的厚度、溅射速率对Ta/Ni65Co35双层膜各向异性磁电阻值(△ρ/ρ)、矫顽力和织构的影响.研究表明,适当的Ta层厚度和较高的Ta层溅射速率对提高Ta/Ni65Co35双层膜的△ρ/ρ是有效的.Ta种子层的使用增大了Ta/Ni65Co35双层膜的矫顽力而其溅射速率对Ta/Ni65Co35双层膜矫顽力的影响很小