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《工程科学学报》:MOF晶体薄膜材料的制备及应用(上海大学、卡尔斯鲁厄理工学院、湖北大学、亚伯大学)
文档格式:PDF 文档大小:1.15MB 文档页数:15
作为纳米技术领域的一种新材料,金属--有机骨架( metal-organic framework,MOF) 薄膜材料( 也称为 SURMOFs) 获得了越来越多研究者的关注. 多种合成方法的不断提出,为大量合成膜厚度、均匀性、形态、甚至维度均可控的 MOF 薄膜材料提供了可能性,并为薄膜材料在更多领域中的应用提供了机会.
钛合金表面扩散焊接轴承钢硬化层厚度的优化设计
文档格式:PDF 文档大小:601.07KB 文档页数:4
为了确定钛合金表面扩散焊接轴承钢硬化层的合适厚度,利用先进的纳米显微力学探针测量了材料的弹性模量.采用ANSYS有限元软件,对钛合金表面扩散焊接轴承钢硬化层在受压情况下的应力分布以及尺寸稳定性进行了分析,以此对轴承钢硬化层的厚度进行了模拟.结果表明,当轴承钢硬化层厚度在0.10~0.50mm内时,最大等效应力发生在镍与铜之间,容易引起界面处裂纹的产生;合适的轴承钢硬化层厚度范围应为1.00~2.00mm,最佳的厚度为1.50mm左右
《无机材料学报》:碳纳米管金属接触改善方法的研究进展(上海交通大学:陈长鑫、金铁凝、张亚非)
文档格式:PDF 文档大小:987.49KB 文档页数:9
本文综述了近年来CNT/金属接触改善方法的研究进展,结合本课题组的研究对目前有代表性的接触改善方法进行介绍.阐述了各种改善方法的原理和加工工艺,讨论了采用这些方法获得的接触特性和器件性能,并对各方法的特点进行了比较
北京科技大学材料科学学院:《薄膜材料与纳米技术 Thin Film Materials & Nanotechnology》第二讲 薄膜材料制备的真空蒸发法 Preparation of thin films by vacuum evaporation
文档格式:PPT 文档大小:326KB 文档页数:56
一、元素的热蒸发 二、 化合物与合金的热蒸发 三、蒸发沉积薄膜的均匀性 四、制备薄膜材料的各种蒸发方法
山东大学:《生物医学工程导论》课程电子教案(PPT课件)04 生物材料
文档格式:PPT 文档大小:937KB 文档页数:84
• 生物医学材料的发展概况 • 生物材料的分类及性能 • 医用金属材料 • 医用高分子材料 • 其他生物医学材料 • 生物医学材料的安全性 • 生物材料的发展趋势 • 纳米医学材料简介
北京科技大学材料科学学院:《薄膜材料与纳米技术 Thin Film Materials & Nanotechnology》第二讲 薄膜材料制备的真空蒸发法 Preparation of thin films by vacuum evaporation
文档格式:PPT 文档大小:611.5KB 文档页数:56
一、元素的热蒸发 二、化合物与合金的热蒸发 三、蒸发沉积薄膜的均匀性 四、制备薄膜材料的各种蒸发方法
《导电高分子材料及其运用》课程教学资源(PPT课件讲稿)导电高分子在隐身材料方面的应用
文档格式:PPT 文档大小:48.5KB 文档页数:10
隐身材料在当今时代有着重要的应用。 目前,世界军事大国正在开发的几种新隐身 材料有:手性材料、纳米隐身材料、导电高 分子材料、陶瓷类吸收剂、盐类吸收剂、多 晶铁纤维吸收剂、等离子体吸收剂等。由于 导电高分子材料的结构多样化、密度小和独 特的物理化学性质,引起科学界的广泛重视。 以下主要对导电高分子在隐身材料方面的应 用做简要介绍
《林业工程学报》:生物质基光学材料研究进展(东北林业大学:陈志俊、高鹤、李伟、李淑君、刘守新、李坚)
文档格式:PDF 文档大小:8.27MB 文档页数:13
对生物质基光学功能性材料方面的代表性成果进行梳理与总结,主要包括林木芳香生物质荧光材料、糖生物质荧光材料、林木生物质光热材料、纳米纤维素光子晶体材料、生物质基光热材料,以及以上材料在食品检测、生物成像、加密打印、发光器件、光热动能转换领域中的应用,并且对该领域内存在的问题及未来发展方向作了展望
北京科技大学材料科学学院:《薄膜材料与纳米技术 Thin Film Materials & Nanotechnology》第五讲 薄膜材料制备的CVD方法 Preparation of thin films by CVD methods
文档格式:PPT 文档大小:706.5KB 文档页数:74
一、 CVD过程中典型的化学反应 二、 CVD过程的热力学 三、 CVD过程的动力学 四、CVD过程的数值模拟技术 五、 CVD薄膜沉积装置
北京科技大学材料科学学院:《薄膜材料与纳米技术 Thin Film Materials & Nanotechnology》第六讲 薄膜材料制备的等离子体辅助CVD方法 Preparation of thin films by plasma enhanced CVD process
文档格式:PPT 文档大小:576.5KB 文档页数:38
一、 等离子体的一般性质 二、等离子体辅助CVD的机理和特点 三、等离子体辅助的CVD方法
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