§20-1 光的相干性 § 20-2 双缝干涉 空间相干性 § 20-3 薄膜的等倾干涉 § 20-4 薄膜的等厚干涉 § 20-5 干涉仪 相干长度 §20-6 偏振光的干涉

正电子衍射 正电子俄歇谱 正电子微束技术 正电子极化技术 正电子显微镜

实验一 光散斑的性质及测试实验 实验二 面内位移的散斑测量实验 实验三 物体形变的散斑测量实验 实验四 激光干涉精密测量实验 实验五 激光衍射计量技术实验 实验六 巴俾特原理及细丝直径测量实验 实验七 激光共焦三维测量实验 实验八 光学傅里叶变换及图像处理方法实验

本章所研究的问题是电磁波的辐射。方法和稳恒场情况一样，当考虑由电荷、电流分布激发电磁场的问题时，引入势的概念来描述电磁场比较方便。本章首先把势的概念推广到一般变化电磁场情况，然后通过势来解辐射问题。 §5. 1 电磁场的矢势和标势 Vector and Scalar Potential of Electromagnetic §5.2 推迟势 Retarded Potential §5.3 电偶极辐射 Electric Dipole Radiation §5.4 磁偶极辐射和电四极辐射 Radiation of Magnetic Dipole and Electric Quadrupole §5.6 电磁波的干涉和衍射 Interference and Diffraction Phenomenon of Electromagnetic Wave §5.7 电磁场的动量 Momentum of Electromagnetic Field

在SUS316L不锈钢基体上,采用HVOF和DGS两种不同的工艺方法,分别喷涂WC-12Co和FeAl涂层,观察WC-12Co和FeAl粉末的颗粒形貌、粒度组成以及DTA,研究它们对热喷涂涂层质量的影响.通过表面粗糙度、显微硬度、形貌相以及X射线衍射谱等分析表明,球化程度高,颗粒大小均匀的粉末可使涂层的组织均匀,致密性好,结合强度高.采用HVOF方法喷涂WC-12Co涂层的质量最好,而采用DGS工艺喷涂FeAl涂层的工艺参数还有待于进一步优化

仪器分析及其实验技术 讲义提纲 1引言 1.1光分析 1.1.1光的性质和光谱仪器的分类 光谱方法:基于测量辐射的波长和强度,每一个参数值对应于每一组分色,所记录的辐射 值。利用电磁辐射的本质,有:分子光谱、原子光谱法。根据辐射能传递方式,分为发射光 谱、吸收光谱、荧光光谱、拉曼光谱等。 非光谱方法:利用电磁辐射与物质的相互作用,引起电磁辐射在方向上的改变,或物理性质 的变化,有:折射、反射、散射、干涉、衍射、偏振

第一章 光的干涉 第二章 光的衍射 第三章 几何光学的基本原理 第四章 光学仪器的基本原理 第五章 光的偏振 第六章 光的传播速度 第七章 光的量子性 第八章 现代光学基础

一.光的相干性 二.分波面两束光的干涉 三光的空间相性 四.分振幅两束光的干涉

X-射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)、能谱(EDS)等的研究表明,硅砂表面存在吸附膜.高温改性使吸附膜被牢固烧结在砂粒表面,改变了吸附膜和砂粒表面的物理和化学特性,大大改善了湿润性,使粘结桥的断裂形式从附着断裂向内聚断裂转化,提高了水玻璃砂的强度

用磁控溅射法制备了以NiFeCr和Ta分别为缓冲层的两种NiCo薄膜样品,在不同温度下对两种样品退火.结果表明:在NiCo厚度相同的情况下,以NiFeCr作为缓冲层的样品的各向异性磁致电阻(AMR)值明显高于Ta作为缓冲层的样品.X射线衍射(XRD)的结果表明,NiFeCr/NiCo薄膜的晶粒平均尺寸大于Ta/NiCo薄膜,且两种样品的磁膜/缓冲层界面存在较大差异,这可能是造成两者AMR差异的原因.此外,对样品进行温度适当的热处理可以明显改善薄膜的物理性质