7.1.1 基本概念 7.1.2 四种类型的反馈组态

7.1 软开关的基本概念 7.2 软开关电路的分类 7.3 典型的软开关电路

主要内容: 一、静态的场唯一性定理 二、分离变量方法 三、Green函数方法 四、镜像原理

重点 1.动态电路方程的建立及初始条件的确定; 2.一阶电路的零输入响应、零状态响应和全响应求解; 3.稳态分量、暂态分量求解; 4.一阶电路的阶跃响应和冲激响应

分析机床电气控制系统时应注意的问题: 了解机床主要技术性能及工作原理; 弄清电机安装部位、作用、规格和型号; 初步掌握各电器的安装部位、作用及各操纵 手柄、开关、控制按钮的功能和操纵方法; 了解与机床动作发生联系的各电器安装部位 及作用;

研究了炼钢交流电弧炉在冶炼期间电弧的电气特性,建立了交流电弧炉工作电抗模型,分析了电炉控制参数β、设备线路特征γ、废钢条件及冶炼不同阶段α等对操作电抗的影响

8.1负反馈放大器、8.2差分放大器

目标规划 一、某工厂计划生产A、B两种产品,每吨产品的耗电量指标、原材料消 耗、单位产品利润及资源限量如表所示。 二、厂长首先考虑要充分利用供电部门分配的电量限额66, 然后考虑利润不低于100元; 三、据市场调查结果,希望B产品的产量不低于A产品的产量, 问应如何制定产品A、B的产量

教学目的： 1. 了解氧化还原平衡及反应进行的程度；明确氧化还原反应的实质，能运用能斯特方程计算电极电位，并据此判断反应进行的方向及进行的程度。理解对称电对、对称反应。 2. 理解标准电极电位与条件电极电位的意义和它们之间的区别，掌握影响条件电位的因素，会计算特定介质中的条件电位。 3. 了解影响氧化还原反应速度的各种因素。掌握平衡常数的计算。 4. 掌握氧化还原滴定过程中电极电位和离子浓度的变化规律及计算方法，影响突跃范围的因素，指示剂的选择。 5. 掌握 KMnO4 法、K2Cr2O7法及碘量法的原理、条件、步骤、应用及有关标准溶液的配制，掌握分析结果的计算。 6. 了解氧化还原预处理的重要性及预处理常用的氧化剂和还原剂 教学重点： 1. 氧化还原平衡体系中有关电对的电极电位的计算， 2. 反应方向及进行程度的判断，平衡常数的计算，滴定过程中电极电位的计算， 3. 指示剂的选择和氧化还原滴定法的应用。 教学难点：条件电极电势概念的理解；非对称型滴定反应的相关计算

(1)胶体结构(双电层结构) 图3-1是胶体结构示意图。在粒子的中心是胶核,它由数百乃至数千个分散 相固体物质分子组成。在胶核表面,吸附了一层带同号电荷的离子,称为电 位离子层。为维持胶体离子的点中性,在电位离子层外吸附了电量与电位离 子层总电量相同,而电性相反的离子,称为反离子层。电位离子层与反离子 层就构成了胶体粒子的双电层结构。其中电位离子层构成了双电层的内层, 其所带电荷称为胶体粒子的表面电荷,其电性和电荷量决定了双电层电位的 符号和大小