评述了目前半导体光催化在国内外的研究概况，并对存在的问题和未来的发展动向进行简要分析.列举了近30年来关于光催化研究的部分成果，内容涉及光催化剂的制备（包括新催化剂的开发，TiO2、ZnO、CdS等光催化剂的各种改性或修饰）、光催化作用机理研究、光催化技术的工程化、光催化技术的各种应用研究和产品开发等等从基础到应用研究的各个方面

§5.1 光的偏振状态 §5.2 线偏振光的获得与检验 §5.3 反射和折射光的偏振 ， *散射光的偏振 §5.4 双折射现象 §5.5 椭圆偏振光和圆偏振光 §5.6 偏振光的干涉 §5.7 人工双折射 §5.8 旋光现象

1关键器件 以光网络构建高速、大容量的信息网络系统需要重点解决高速光传输、复用与解复用技术等问题。 (1)光纤传输 通常单模光纤(SMF)色散很大,对抑制四波混频(FWM)引起的干扰有一定作用,但需要很多的色散来补偿光纤(DCF)实践表明 SMF(G.652)和DSF(G.653)用于DWDM系统时,其自相位调制(SPM)、交叉相位调制(XPM)的危害较小,没有想象的那么严重。 过去DSF光纤的FWM干扰严重,不宜作WDM系统,然而采用拉曼放大后,其放大作用是沿光纤分布而不是集中的,因而发送的光功 率可减小,FWM干扰可降低。色散补偿是长距离大容量WDM系统必然遇到的一个问题,如果想得到一个又宽又平的波段,那么对色散 补偿器件的色散和色散斜率须有一定要求

第二章光的性质 2.1光的电磁理论 2.2光的干涉 2.3光的衍射 2.4光的偏振 2.5光的吸收、色散和散射 2.6光的量子性 2.7激光

17.1光源相千光 一、光和光波的波动方程 光是一种电磁波

§2.1 电磁波与光辐射 §2.2 光辐射的度量 §2.3 黑体辐射 §2.4 光源 §2.5 光源调制与旋光效应调制器

一、红外光区的划分及主要应用 红外光谱在可见光区和微波光区之间，其波数范围约为 12 800~10cm-1 （0.75~1 000μm）。根据仪器及应用不同，习惯上又将红外光区分为三个区：近 红外光区；中红外光区；远红外光区。每一个光区的大致范围及主要应用如表 10-1 所示

外光电效应: 在光线作用下使物体的电子逸出表面的现象。 如光电管、光电倍增管 内光电效应: 在光线作用下能使物体电阻率改变的现象， 如光敏电阻等属于这类光电器件。 阻挡层光电效应(光生伏特效应): 在光线作用下能使物体产生一定方向的电动 势的现象

一、概念 基于光波的衍射理论，运用计算机辅助设计， 并运用超大规模集成电路制作工艺，在片基上刻蚀 产生两个或多个台阶深度的浮雕结构，形成纯相位、 同轴再现、具有极高衍射效率的一类衍射光学元件。 随之形成的一门新的学科分支，称二元光学

§2.1 电磁波与光辐射 §2.2 光辐射的度量 §2.3 黑体辐射 §2.4 光源 §2.5 光源调制与旋光效应调制器