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《化学物理学报》:半导体光催化研究进展与展望

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评述了目前半导体光催化在国内外的研究概况,并对存在的问题和未来的发展动向进行简要分析.列举了近30年来关于光催化研究的部分成果,内容涉及光催化剂的制备(包括新催化剂的开发,TiO2、ZnO、CdS等光催化剂的各种改性或修饰)、光催化作用机理研究、光催化技术的工程化、光催化技术的各种应用研究和产品开发等等从基础到应用研究的各个方面.
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第16卷第5期 化学物理学报 Vol 16, No 5 2003年10月 CHINESE JOURNAL OF CHEMICAL PHYSICS Oct.2003 1003-7713/2003/05-339-11 半导体光催化研究进展与展望 韩世同“,习海玲“,史瑞雪“,付贤智',王绪绪b* (a.中国人民解放军防化研究院,北京102205:b.福州大学光催化研究所,福州350002) 摘要:评述了目前半导体光催化在国内外的研究概况,并对存在的问题和未来的发展动向进行简要分析.列 举了近30年来关于光催化研究的部分成果,内容涉及光催化剂的制备(包括新催化剂的开发,TiO2、ZnO、Cds 等光催化剂的各种改性或修饰)光催化作用机理研究、光催化技术的工程化、光催化技术的各种应用研究和产 品开发等等从基础到应用研究的各个方面总体上来看,半导体光催化基本上是一个没有选择性的化学过程,所 以再进行大量的不同反应物的光催化活性的评价研究意义已不是很显著,认为未来的半导体光催化研究应该集 中在机理的深刻认识光响应范围宽和量子效率高的催化剂制备、半导体光催化技术工程化及新型光催化产品开 发方面 关键词:综述:半导体光催化:二氧化钛:环境污染治理 中图分类号:06144文献标识码:A Prospect and progress in the Semiconductor Photocatalysis Han Shitong,b, Xi Hailing, Shi Ruixue, Fu Xianzhi (a. The Academy of Chemical Defence, The People's Liberation Army, B 10220 b. Research Institute of Photocatalysis, Fuzhou University, Fuzhou 350002) Abstract The recent progress in the researches on semiconductor photocatalysis was surveyed, and some existed problems in the current study and the future trend of development were briefly analyzed. The main achievements in the studies of photocatalysis during the recent three decades were particularized, including the preparation of photo- catalyst(exploitation of novel catalyst, and the modifications to TiO,, ZnO and CdS etc. ) mechanism of photocat- alytic process, engineering design of photocatalytic reaction, research and development of the products based on photocatalytic principle. Photocatalytic, in the mass, is a nonselective chemical process, so it is no longer impor- tant to redoing a great deal of examination of photocatalytic activity for different reactants. In fact, some repeated reports on the semiconductorphotocatalytic phenomena, and explanations of the mechanism withuot or lack of exper- iment support have been frequently found in the publications. It is suggested that attention of the future investigation on the semiconductor photocatalysis should focus on the four aspects as followed, i. e. profound comprehension for photocatalytic mechanism, synthesis or preparation of novel photocatalyst with wide response to light and high phote quantum efficiency, engineering of photocatalytic reaction, and developing of new type photocatalytic products Key words Reviews, Semiconductor photocatalysis, Titanium dioxide, Environmental pollution control Project supported by the National Natural Science Foundation of China(20122010, 20073007, 20273014)and by the Natural cience Foundation of Fujian province( Do020003, E0210008, DO210006 *Correspondingauthor.E-mail:wang@fzu.edu.cnReceived2December2002:infinalform23April2003

第 16 卷 第 5 期 化 学 物 理 学 报 Vol. 16,No. 5 2003 年 10 月 CHINESE JOURNAL OF CHEMICAL PHYSICS Oct. 2003 1003-7713 / 2003 / 05-339-11 综 述 * Project supported by the National Natural Science Foundation of China(20122010,20073007,20273014)and by the Natural Science Foundation of Fujian province(D0020003,E0210008,D0210006). ** Corresponding author. E-mail:xwang@ fzu. edu. cn Received 2 December 2002;in final form 23 April 2003. 半导体光催化研究进展与展望* 韩世同a,b , 习海玲a , 史瑞雪a , 付贤智b , 王绪绪b** (a. 中国人民解放军防化研究院,北京 102205; b. 福州大学光催化研究所,福州 350002) 摘 要: 评述了目前半导体光催化在国内外的研究概况,并对存在的问题和未来的发展动向进行简要分析. 列 举了近 30 年来关于光催化研究的部分成果,内容涉及光催化剂的制备(包括新催化剂的开发,TiO2、ZnO、CdS 等光催化剂的各种改性或修饰)、光催化作用机理研究、光催化技术的工程化、光催化技术的各种应用研究和产 品开发等等从基础到应用研究的各个方面. 总体上来看,半导体光催化基本上是一个没有选择性的化学过程,所 以再进行大量的不同反应物的光催化活性的评价研究意义已不是很显著,认为未来的半导体光催化研究应该集 中在机理的深刻认识、光响应范围宽和量子效率高的催化剂制备、半导体光催化技术工程化及新型光催化产品开 发方面. 关键词: 综述;半导体光催化;二氧化钛;环境污染治理 中图分类号:O614. 4 文献标识码:A Prospect and Progress in the Semiconductor Photocatalysis * Han Shitonga,b , Xi Hailinga , Shi Ruixuea , Fu Xianzhi b , Wang Xuxub** (a. The Academy of Chemical Defence,The People's Liberation Army,Beijing 102205; b. Research Institute of Photocatalysis,Fuzhou University,Fuzhou 350002) Abstract The recent progress in the researches on semiconductor photocatalysis was surveyed,and some existed problems in the current study and the future trend of development were briefly analyzed. The main achievements in the studies of photocatalysis during the recent three decades were particularized,including the preparation of photo￾catalyst(exploitation of novel catalyst,and the modifications to TiO2,ZnO and CdS etc. ),mechanism of photocat￾alytic process,engineering design of photocatalytic reaction,research and development of the products based on photocatalytic principle. Photocatalytic,in the mass,is a nonselective chemical process,so it is no longer impor￾tant to redoing a great deal of examination of photocatalytic activity for different reactants. In fact,some repeated reports on the semiconductorphotocatalytic phenomena,and explanations of the mechanism withuot or lack of exper￾iment support have been frequently found in the publications. It is suggested that attention of the future investigation on the semiconductor photocatalysis should focus on the four aspects as followed,i. e. profound comprehension for photocatalytic mechanism,synthesis or preparation of novel photocatalyst with wide response to light and high photo quantum efficiency,engineering of photocatalytic reaction,and developing of new type photocatalytic products. Key words Reviews,Semiconductor photocatalysis,Titanium dioxide,Environmental pollution control

物理学报 第16卷 概述 联苯在TiO,/紫外光下的降解研究[9,为光催化的 迅速发展起到了极大的推动作用.到了80年代特别 20世纪以来,人类在享受迅速发展的科技所带是90年代,光催化的研究已相当活 如今 来的舒适和方便的同时,也品尝着盲目和短视造成光催化已发展成一门新兴的化学边沿学科.广泛而 的生存环境不断恶化的苦果.从上半叶震惊世界的深入的研究已经证明,许多半导体材料具有光催化 “八大公害事件”到近年来发现的全球变暖、臭氧层作用;光催化作用的机理也已经被深入地理解:发现 破坏和生物多样性的消失;从80年代上海爆发的数百种主要的有机或无机污染物都可用光催化氧化 “甲肝”事件到90年代末使全世界为之恐慌的“疯的方法分解,在土壤、水质和大气的污染治理方面展 牛病”和“二嗯英事件”,都是20世纪环境恶化的直现出十分光明的应用前景.国际上已开发出相应的 接结果.而环境污染的潜在影响远不止于此,已严重水质净化器、空气净化器及室内保洁材料、食品和花 地威胁着人类的继续繁衍和生存.所以,控制污染、卉保鲜膜、自洁和抗雾玻璃等性能优异的光催化产 保护环境,实现可持续发展是全人类的迫切愿望和品,显示出巨大的社会效益和经济效益 共同心声 然而,作为光催化技术核心是光催化剂,虽然已 在各种环境污染中,最普遍、最主要和影响最大经证明许多半导体材料都具有光催化活性,但除 的是化学污染.因而,有效地控制和治理各种化学污TO2外的其它半导体或由于活性低,或由于易被光 染物对构成人类生存最基本的水资源、土壤和大气腐蚀等原因尚难实际应用.而就TO2而言,也存在 环境的破坏是环境综合治理中的重点,开发能把各几个关键的技术难题制约着这一技术的大规模工业 种化学污染物无害化的实用技术是环境保护的关应用,首先是量子效率低(不到4%),难用于处理数 键目前使用的具有代表性的化学污染处理方法主量大、浓度高的工业废气和废水;其次是对太阳 要有:物理吸附法、化学氧化法、微生物处理法和高能的利用率较低,常用光催化剂TO,禁带宽度为 温焚烧法,这些方法对环境的保护和治理起了重大3.2eV,仅能吸收利用太阳光中波长小于380nm的 作用.但是这些技术不同程度地存在着或效率低,不紫外光[16:第三是难于在既保持较高的光催化活性 能彻底将污染物无害化,易产生二次污染;或使用范又满足特定的理化性能要求的条件下将其均匀地 围窄,仅适合特定的污染物;或能耗高,不适合大规牢固地负载在其它载体上[-19.因此,上述关键问 模推广等方面的缺陷.因而,开发高效、低能耗、适用题的解决是当前光催化领域研究的热点,我们针对 范围广和有深度氧化能力的化学污染物清除技术一这些问题简单综述已取得相关研究成果,最后对未 直是环保技术追求的目标光催化技术就是在这样来的研究趋势做简要分析 的背景下从20世纪70年代逐步发展起来的一门新 兴环保技术它利用半导体氧化物材料在光照下表2光催化作用原理 面能受激活化的特性,利用光能可有效地氧化分解 光催化现象是20世纪70年代 Fujishima和 有机物、还原重金属离子、杀灭细菌和消除异味.由 Honda等人在研究水在二氧化钛电极上的光致分解 于光催化技术可利用太阳能在室温下发生反应,比时发现的.他们借鉴植物的光合作用原理设计了 较经济:光催化剂TO2自身无毒、无害、无腐蚀性,一个太阳光伏打电池,即在水中插入一个n型半导 可反复使用:可将有机污染物完全矿化成H2O和无体二氧化钛电极和一个铂(铂黑)电极,当用波长低 机离子,无二次污染,所以有着传统的高温、常规催于415mm的光照射氧化钛电极时,发现在二氧化钛 化技术及吸附技术无法比拟的诱人魅力,是一种具电极上有氧气释放,在铂电极上有氢气释放产生这 有广阔应用前景的绿色环境治理技术1-3.最近发一现象的原因在于,光照使半导体二氧化钛阳极产 现TO2光催化剂同时具有超亲水性,可用于抗生了具有极高氧化还原能力的电子空穴对在上述 雾和自清洁材料的制备,另兼具杀灭癌细胞的作的光致半导体分解水的过程中,半导体仅作为一种 用07,还可用于医疗保健 媒介在反应前后是不变化的,但借助它却把光能转 光催化在环境保护与治理上的应用研究开始于化成了化学反应的推动力在这种意义上,半导体与 20世纪70年代后期Fank和Bard关于水中氰化物催化反应中催化剂起相类似的作用随后的大量研 在TO2上的光分解研究以及 Carey等关于多氯究发现,不用外电路直接将沉积有金属铂的二氧化

1 概 述 20 世纪以来,人类在享受迅速发展的科技所带 来的舒适和方便的同时,也品尝着盲目和短视造成 的生存环境不断恶化的苦果. 从上半叶震惊世界的 “八大公害事件”到近年来发现的全球变暖、臭氧层 破坏和生物多样性的消失;从 80 年代上海爆发的 “甲肝”事件到 90 年代末使全世界为之恐慌的“疯 牛病”和“二噁英事件”,都是 20 世纪环境恶化的直 接结果. 而环境污染的潜在影响远不止于此,已严重 地威胁着人类的继续繁衍和生存. 所以,控制污染、 保护环境,实现可持续发展是全人类的迫切愿望和 共同心声. 在各种环境污染中,最普遍、最主要和影响最大 的是化学污染. 因而,有效地控制和治理各种化学污 染物对构成人类生存最基本的水资源、土壤和大气 环境的破坏是环境综合治理中的重点,开发能把各 种化学污染物无害化的实用技术是环境保护的关 键. 目前使用的具有代表性的化学污染处理方法主 要有:物理吸附法、化学氧化法、微生物处理法和高 温焚烧法,这些方法对环境的保护和治理起了重大 作用. 但是这些技术不同程度地存在着或效率低,不 能彻底将污染物无害化,易产生二次污染;或使用范 围窄,仅适合特定的污染物;或能耗高,不适合大规 模推广等方面的缺陷. 因而,开发高效、低能耗、适用 范围广和有深度氧化能力的化学污染物清除技术一 直是环保技术追求的目标. 光催化技术就是在这样 的背景下从 20 世纪 70 年代逐步发展起来的一门新 兴环保技术. 它利用半导体氧化物材料在光照下表 面能受激活化的特性,利用光能可有效地氧化分解 有机物、还原重金属离子、杀灭细菌和消除异味. 由 于光催化技术可利用太阳能在室温下发生反应,比 较经济;光催化剂 TiO2 自身无毒、无害、无腐蚀性, 可反复使用;可将有机污染物完全矿化成 H2O 和无 机离子,无二次污染,所以有着传统的高温、常规催 化技术及吸附技术无法比拟的诱人魅力,是一种具 有广阔应用前景的绿色环境治理技术[1 - 3] . 最近发 现 TiO2 光催化剂同时具有超亲水性[4,5] ,可用于抗 雾和自清洁材料的制备,另兼具杀灭癌细胞的作 用[6,7] ,还可用于医疗保健. 光催化在环境保护与治理上的应用研究开始于 20 世纪 70 年代后期. Fank 和 Bard 关于水中氰化物 在 TiO2 上的光分解研究[8]以及 Carey 等关于多氯 联苯在 TiO2 / 紫外光下的降解研究[9] ,为光催化的 迅速发展起到了极大的推动作用. 到了 80 年代特别 是 90 年代,光催化的研究已相当活跃[10 - 14] . 如今, 光催化已发展成一门新兴的化学边沿学科. 广泛而 深入的研究已经证明,许多半导体材料具有光催化 作用;光催化作用的机理也已经被深入地理解;发现 数百种主要的有机或无机污染物都可用光催化氧化 的方法分解,在土壤、水质和大气的污染治理方面展 现出十分光明的应用前景. 国际上已开发出相应的 水质净化器、空气净化器及室内保洁材料、食品和花 卉保鲜膜、自洁和抗雾玻璃等性能优异的光催化产 品,显示出巨大的社会效益和经济效益. 然而,作为光催化技术核心是光催化剂,虽然已 经证明许多半导体材料都具有光催化活性,但除 TiO2 外的其它半导体或由于活性低,或由于易被光 腐蚀等原因尚难实际应用. 而就 TiO2 而言,也存在 几个关键的技术难题制约着这一技术的大规模工业 应用,首先是量子效率低(不到 4% ),难用于处理数 量大、浓度高的工业废气和废水[15] ;其次是对太阳 能的利用率较低,常用光催化剂 TiO2 禁带宽度为 3. 2 eV,仅能吸收利用太阳光中波长小于 380 nm 的 紫外光[16] ;第三是难于在既保持较高的光催化活性 又满足特定的理化性能要求的条件下将其均匀地、 牢固地负载在其它载体上[17 - 19] . 因此,上述关键问 题的解决是当前光催化领域研究的热点,我们针对 这些问题简单综述已取得相关研究成果,最后对未 来的研究趋势做简要分析. 2 光催化作用原理 光催化现象是 20 世纪 70 年代 Fijishima 和 Honda 等人在研究水在二氧化钛电极上的光致分解 时发现的[20] . 他们借鉴植物的光合作用原理设计了 一个太阳光伏打电池,即在水中插入一个 n 型半导 体二氧化钛电极和一个铂(铂黑)电极,当用波长低 于 415 nm 的光照射氧化钛电极时,发现在二氧化钛 电极上有氧气释放,在铂电极上有氢气释放. 产生这 一现象的原因在于,光照使半导体二氧化钛阳极产 生了具有极高氧化还原能力的电子-空穴对. 在上述 的光致半导体分解水的过程中,半导体仅作为一种 媒介在反应前后是不变化的,但借助它却把光能转 化成了化学反应的推动力. 在这种意义上,半导体与 催化反应中催化剂起相类似的作用. 随后的大量研 究发现,不用外电路直接将沉积有金属铂的二氧化 340 化 学 物 理 学 报 第 16 卷

第5期 韩世同等:半导体光催化研究进展与展望 341 钛悬浮于水中,在光照下它也能导致水的分解.光催 TiO2+hu→→ht++ed,(~fs)(1) 化正是在这个概念和方法基础上发展起来的 荷电载流子诱捕过程: 目前发现的有光催化活性的物质主要是一些半ht++>Ti"OH→{>TiOH},快(10ns)(2) 导体材料,如TiO2、znO、a-Fe2O3、ZnS、CdS sb+>TiOH i>Ti OH) WO3、SnO2、 SrTio3等等.其中最有实用意义的仅有 浅捕获(100ps)(动力学平衡)(3a) TiO2,其廉价、易得、无毒无害、化学性质稳定、抗光cs-+>T"→>T;" 腐蚀性强.特别是其光致空穴的氧化性极高,还原电 深捕获(10ns)(不可逆) (3b) 位可达+2.53V,还可在水中形成还原电位都比臭载流子复合: 氧正的羟基自由基(OH).同时光生电子也有很强c-+5TF"OH→> Ti OH,慢(100ns)(4) 的还原性(氧化还原电位为-0.52V),可以把氧分h。+{>T"OH)→>Ti"OH,快(10 子还原成超氧负离子(O2),水分子岐化为过氧化界面间电荷转移,发生氧化还原反应 氢(H2O2).所以TO2具有很强的氧化还原催化能 (Ti OH .++Red ->Ti OH +Red 力,非常适合于环境催化应用[2.21 慢(100ns) (6) 由于光催化剂为固体半导体,而反应介质通常-+0x→>T"OH+0x:,很慢(ms)(7) 为气相或液相,所以常将光催化称之为多相光催化 上述反应式中,>TOH为初级水化TO2表 或半导体光催化更准确地讲,按照光催化剂和反应面:ed为导带电子;cn为被捕获的导带电子 底物的不同,光催化分为气固光催化和液固光催h·为价带空穴:Rcd为电子授体(如还原剂);O 化,前者因发生在固气表面又叫表面光催化,后者因为电子受体(如氧化剂):{>TFOH·}为在颗粒 发生在固液界面又叫界面光催化这两种情况下的表面捕获的价带空穴:>TioH}为颗粒表面捕获 反应机理是有区别的,在前一过程中氧气是氧化剂的导带电子反应式后的时间为通过激光脉冲光解 前躯物,在后一过程中氧气和水,特别是水分子是主实验测定的每一步骤的特征时间可见,界面电荷转 要的氧化剂前躯物根据光催化反应中初级过程的移的总效率决定于两个关键过程,一是荷电载流子 差异, Linsebigler等人把光催化反应分为两类2 复合与捕获的竞争(ps到ns),二是随后的已捕获载 A类称敏化光化反应( sensitized photoreaction),光激流子与界面电荷转移的竞争(As到ms).增加载流 发催化剂产生电子和空穴,电子和空穴转移到基态子复合的寿命和提高界面电荷转移速率可导致稳态 吸附分子并导致其分解:B类称催化光化反应(c光催化量子效率的提高这是对光催化过程机制的 alyzed photoreaction),光激发吸附分子,激发态吸附 一般认识,但是对一个特定的催化剂和特定的反应, 分子与基态催化剂相互作用,催化剂为吸附分子提对其具体机理的研究还很初步,推测多于证据 供了有利于反应进行的表面结构.最近金振声等认 为2,在一些体系中A和B两类光催化过程可能3影响半导体光催化反应的因素和提高光 同时发生,即存在C类一敏化催化光反应 催化活性的途径 目前,对半导体光催化过程较普遍的认识是,其 价带上的电子受光激发跃迁到导带,在导带形成光 多相光催化反应由一系列复杂的表面化学物理 生电子,在价带上产生空穴由于半导体导价能带过程构成,催化剂的组成、晶体结构、粒径、比表面 间存在禁带,光生电子和空穴在复合前有足够长的积、表面羟基、处理温度、外场等都对其可能产生影 寿命( nanosecond),这使得它们可迁移到催化剂表响围绕这些影响因素已经作了大量详实的研究工 面并与吸附在那里的分子(OH、O2、有机物等)发作,并取得了许多共识 生能量和电荷交换,产生具有强氧化能力的·OH、3.1催化剂结构对光催化活性的影响 H2O2、O2等物种这些基团是直接参与化学反应3.1.1晶相结构的影响:①晶型.常用的TO2 的主要活性物质,也不排除光生电子和空穴直接与光催化剂有两种晶型:锐钛矿型和金红石型.由于 反应基质作用的可能性.一般认为,光催化过程涉及两者的单位晶胞的八面体畸变程度和八面体间相互 如下主要过程4 联接的方式不同2,与金红石型(禁带宽度为 初级过程形成荷电载流子 3.0eV)相比,锐钛矿型二氧化钛(禁带宽度为

钛悬浮于水中,在光照下它也能导致水的分解. 光催 化正是在这个概念和方法基础上发展起来的. 目前发现的有光催化活性的物质主要是一些半 导 体 材 料,如 TiO2、ZnO、α-Fe2O3、ZnS、CdS、 WO3、SnO2、SrTiO3 等等. 其中最有实用意义的仅有 TiO2,其廉价、易得、无毒无害、化学性质稳定、抗光 腐蚀性强. 特别是其光致空穴的氧化性极高,还原电 位可达 + 2. 53 V,还可在水中形成还原电位都比臭 氧正的羟基自由基(·OH). 同时光生电子也有很强 的还原性(氧化还原电位为 - 0. 52 V),可以把氧分 子还原成超氧负离子(O2 - ),水分子岐化为过氧化 氢(H2O2). 所以 TiO2 具有很强的氧化还原催化能 力,非常适合于环境催化应用[21,22] . 由于光催化剂为固体半导体,而反应介质通常 为气相或液相,所以常将光催化称之为多相光催化 或半导体光催化. 更准确地讲,按照光催化剂和反应 底物的不同,光催化分为气-固光催化和液-固光催 化,前者因发生在固气表面又叫表面光催化,后者因 发生在固液界面又叫界面光催化. 这两种情况下的 反应机理是有区别的,在前一过程中氧气是氧化剂 前躯物,在后一过程中氧气和水,特别是水分子是主 要的氧化剂前躯物. 根据光催化反应中初级过程的 差异,Linsebigler 等人把光催化反应分为两类[23 ] , A 类称敏化光化反应(sensitized photoreaction),光激 发催化剂产生电子和空穴,电子和空穴转移到基态 吸附分子并导致其分解;B 类称催化光化反应(cat￾alyzed photoreaction),光激发吸附分子,激发态吸附 分子与基态催化剂相互作用,催化剂为吸附分子提 供了有利于反应进行的表面结构. 最近金振声等认 为[24] ,在一些体系中 A 和 B 两类光催化过程可能 同时发生,即存在 C 类—敏化催化光反应. 目前,对半导体光催化过程较普遍的认识是,其 价带上的电子受光激发跃迁到导带,在导带形成光 生电子,在价带上产生空穴. 由于半导体导-价能带 间存在禁带,光生电子和空穴在复合前有足够长的 寿命(nanosecond),这使得它们可迁移到催化剂表 面并与吸附在那里的分子(OH - 、O2、有机物等)发 生能量和电荷交换,产生具有强氧化能力的·OH、 H2O2、O2 - 等物种. 这些基团是直接参与化学反应 的主要活性物质,也不排除光生电子和空穴直接与 反应基质作用的可能性. 一般认为,光催化过程涉及 如下主要过程[4 〛: 初级过程形成荷电载流子: TiO2 + hv -→ hvb + + ecb - ,( ~ fs) (1) 荷电载流子诱捕过程: hvb + + > Ti IVOH→{> Ti IVOH·}+ ,快(10 ns)(2) ecb - + > Ti IVOH &{> Ti III OH} 浅捕获(100 ps)(动力学平衡) (3a) ecb - + > Ti IV → > Ti III 深捕获(10 ns)(不可逆) (3b) 载流子复合: ecb - +{> Ti IVOH·}+ → > Ti IVOH,慢(100 ns)(4) hvb + +{> Ti III OH}→ > Ti IVOH,快(10 ns) (5) 界面间电荷转移,发生氧化-还原反应: {> Ti IVOH·}+ + Red → > Ti IVOH + Red·+ , 慢(100 ns) (6) etr - + Ox→ > Ti IVOH + Ox·- ,很慢(ms) (7) 上述反应式中,> Ti IV OH 为初级水化 TiO2 表 面;ecb - 为导带电子;etr - 为被捕获的导带电子; hvb + 为价带空穴;Red 为电子授体(如还原剂);Ox 为电子受体(如氧化剂);{> Ti IV OH·}+ 为在颗粒 表面捕获的价带空穴;{> Ti III OH}为颗粒表面捕获 的导带电子. 反应式后的时间为通过激光脉冲光解 实验测定的每一步骤的特征时间. 可见,界面电荷转 移的总效率决定于两个关键过程,一是荷电载流子 复合与捕获的竞争(ps 到 ns),二是随后的已捕获载 流子与界面电荷转移的竞争(µs 到 ms). 增加载流 子复合的寿命和提高界面电荷转移速率可导致稳态 光催化量子效率的提高. 这是对光催化过程机制的 一般认识,但是对一个特定的催化剂和特定的反应, 对其具体机理的研究还很初步,推测多于证据. 3 影响半导体光催化反应的因素和提高光 催化活性的途径 多相光催化反应由一系列复杂的表面化学物理 过程构成,催化剂的组成、晶体结构、粒径、比表面 积、表面羟基、处理温度、外场等都对其可能产生影 响. 围绕这些影响因素已经作了大量详实的研究工 作,并取得了许多共识. 3. 1 催化剂结构对光催化活性的影响 3. 1. 1 晶相结构的影响: ① 晶型. 常用的 TiO2 光催化剂有两种晶型:锐钛矿型和金红石型. 由于 两者的单位晶胞的八面体畸变程度和八面体间相互 联接 的 方 式 不 同[25] ,与 金 红 石 型( 禁 带 宽 度 为 3. 0 eV)相 比,锐 钛 矿 型 二 氧 化 钛( 禁 带 宽 度 为 第 5 期 韩世同等:半导体光催化研究进展与展望 341

342 物理学报 第16卷 3.2eV)表面态活性中心较多,所以光催化活性更 表ITiO2表面羟基数量随热处理温度的变化[s 高3近年一些研究表明,通过在锐钛矿型晶体的 Table 1 Amount of TiO, surface hydroxyls as function 表面生长薄的金红石型结晶层,能有效地促进锐钛 of treatment temperature 351 矿型晶体中电子与空穴的电荷分离,形成高催化活 Temperature/C Ambience Density of surface OH"/(ueg) 性的光催化剂.②晶格缺陷.研究表明,晶格缺 陷是光催化反应中的活性位.例如,在晶体表面的 Ti3-V(空位)缺陷是反应中将H2O氧化为H2O2过 程的活性中心缺陷点的Ti3-T3+间距(0.259mm) 37 比无缺陷金红石型晶体中T+Ti1的(0.459mm) 间距小得多,因而它使所吸附羟基的反应活性增敏剂,引入过渡金属离子、非金属元素及复合其它半 加21.但过多的缺陷也可能成为电子空穴的复合中导体等方法都能一定程度改善光催化的量子效率 心而降低反应活性3.③晶面光催化剂不同晶3.2.1促进光生电子和空穴的分离:①有机染 面上粒子的排布不同,因而该晶面的光催化活性和料光敏化和].将光活性化合物(光敏剂)通过化学或 选择性就会有很大的差异.已经证明,在二氧化钛表物理方法紧密结合于光催化剂表面,光照时,光敏剂 面,晶面(100和(101)只吸附分子水,是表面羟基受激将电子注入到半导体的导带,可获得与单独半 的来源如 导体受光激发一样的效果.由于光敏剂能被更宽波 3.1.2粒径的影响:粒径是影响光催化活性的重长范围的光所激发,所以引入光敏剂可提高光半导 要因素与体相TiO2比较,纳米TiO2有更高的光催体对可见光的响应这种方法多用于光电转换和太 化氧化还原能力这是由于纳米半导体粒子的量子阳能电池的制备,对于光催化能否应用,取决于 尺寸效应使其导带和价带能级变得更为分立,吸收有机光敏剂本身的光稳定性以及能否紧密结合在光 波长蓝移禁带宽度E变宽,导带电位更负,价带电催化剂表面②复合半导体复合半导体可以分为 位更正.同时,当颗粒粒径小于载流子复合前迁移的半导体绝缘体和半导体半导体复合两类在前 距离时,电子与空穴复合几率降低,催化剂的表面积类复合体中,绝缘体起载体作用,这将在载体部分叙 提高,使比表面积对反应速率的约束减小,表面缺陷述;后一类复合体中,杂质半导体的作用则依赖于两 和活性中心增加:3.这些对提高光催化活性都是者的相对禁带宽度当浅带半导体CdS与TO,复合 有利的 时,光生电子产生于CdS并迁移到TO2,一方面需 3.1.3比表面积的影响:光催化过程不同于一般要的激发光频率低,另一方面这种迁移有利于电荷 的多相催化反应,催化剂表面不存在固定的活性中的分离,所以光催化活性随着CdS浓度的增大有明 心,比表面积大小可能不是决定光催化反应的关键显提高.对宽带隙半导体掺杂,如SnO2与TO2 因素但对于气固相光催化反应,大比表面积的载体的复合,光催化活性的改善被认为是由于空间效 能起到富集气相中低浓度气态污染物的作用,有利应促进了电子和空穴的分离.不过,这些认识尚比较 于提高基质反应的机会[3 肤浅,事实上,依赖于沉积条件复合半导体的活性差 3.1.4表面羟基的影响:二氧化钛表面存在着两别很大,过量的掺杂往往适得其反.③贵金属沉 种类型的OH,在T(Ⅳ)上弱键结合的呈碱性,易积.当给TO2表面沉积某些贵金属(如:Pt、An41 被加热脱除,一般不会影响光催化活性,而桥连在两等)时,费米能级的持平使得电子从n型半导体向 个相邻T(V)离子上的为 Bronsted酸中心,对光催金属流动,形成能捕获光生电子的肖特基势垒 化活性有重要影响.研究表明,随着焙烧温度的( Schottky barrier.),可抑制电子和空穴的复合付贤 提高,光催化剂表面OH的密度迅速下降(表1),智等人的研究表明,铂修饰的TO2比单一TO2 光催化活性逐渐减弱 对苯有更高的降解率和矿化率. Parade研究了 3.2外加组分对催化剂性能的影响 P/TO2对水中有机磷杀虫剂的降解4,发现其反 TO2半导体的禁带宽度较大,仅能利用太阳光应速度比TO2高6倍但需要注意的是,沉积过多 中的近紫外线,且量子效率较低为了提高光催化剂的贵金属会减少催化剂的比表面积,同时还易形成 的效率,对ToO2掺杂研究有很多报道通过添加光电子空穴的复合中心,且铂的加入方法对活性也有

3. 2 eV)表面态活性中心较多,所以光催化活性更 高[26] . 近年一些研究表明,通过在锐钛矿型晶体的 表面生长薄的金红石型结晶层,能有效地促进锐钛 矿型晶体中电子与空穴的电荷分离,形成高催化活 性的光催化剂[27] . ② 晶格缺陷. 研究表明,晶格缺 陷是光催化反应中的活性位. 例如,在晶体表面的 Ti 3 + -V(空位)缺陷是反应中将 H2O 氧化为 H2O2 过 程的活性中心. 缺陷点的 Ti 3 + -Ti 3 + 间距(0. 259 nm) 比无缺陷金红石型晶体中 Ti 4 + -Ti 4 + 的(0. 459 nm) 间距小得多,因而它使所吸附羟基的反应活性增 加[21] . 但过多的缺陷也可能成为电子空穴的复合中 心而降低反应活性[28,29] . ③ 晶面. 光催化剂不同晶 面上粒子的排布不同,因而该晶面的光催化活性和 选择性就会有很大的差异. 已经证明,在二氧化钛表 面,晶面(100)和(101)只吸附分子水,是表面羟基 的来源[30] . 3. 1. 2 粒径的影响: 粒径是影响光催化活性的重 要因素. 与体相 TiO2 比较,纳米 TiO2 有更高的光催 化氧化还原能力. 这是由于纳米半导体粒子的量子 尺寸效应使其导带和价带能级变得更为分立,吸收 波长蓝移,禁带宽度 Eg 变宽,导带电位更负,价带电 位更正. 同时,当颗粒粒径小于载流子复合前迁移的 距离时,电子与空穴复合几率降低,催化剂的表面积 提高,使比表面积对反应速率的约束减小,表面缺陷 和活性中心增加[31,32] . 这些对提高光催化活性都是 有利的. 3. 1. 3 比表面积的影响: 光催化过程不同于一般 的多相催化反应,催化剂表面不存在固定的活性中 心,比表面积大小可能不是决定光催化反应的关键 因素. 但对于气固相光催化反应,大比表面积的载体 能起到富集气相中低浓度气态污染物的作用,有利 于提高基质反应的机会[33] . 3. 1. 4 表面羟基的影响: 二氧化钛表面存在着两 种类型的 OH - ,在 T(i IV)上弱键结合的呈碱性,易 被加热脱除,一般不会影响光催化活性,而桥连在两 个相邻 T(i IV)离子上的为 Brönsted 酸中心,对光催 化活性有重要影响[34] . 研究表明,随着焙烧温度的 提高,光催化剂表面 OH - 的密度迅速下降(表 1), 光催化活性逐渐减弱. 3. 2 外加组分对催化剂性能的影响 TiO2 半导体的禁带宽度较大,仅能利用太阳光 中的近紫外线,且量子效率较低. 为了提高光催化剂 的效率,对 TiO2 掺杂研究有很多报道. 通过添加光 表 1 TiO2 表面羟基数量随热处理温度的变化[35] Table 1 Amount of TiO2 surface hydroxyls as function of treatment temperature [35] Temperature / ℃ Ambience Density of surface OH - (/ µeq / g) 600 Ar 106 700 Ar 67 800 Ar 43 900 Ar 17 敏剂,引入过渡金属离子、非金属元素及复合其它半 导体等方法都能一定程度改善光催化的量子效率. 3. 2. 1 促进光生电子和空穴的分离: ① 有机染 料光敏化[36] . 将光活性化合物(光敏剂)通过化学或 物理方法紧密结合于光催化剂表面,光照时,光敏剂 受激将电子注入到半导体的导带,可获得与单独半 导体受光激发一样的效果. 由于光敏剂能被更宽波 长范围的光所激发,所以引入光敏剂可提高光半导 体对可见光的响应. 这种方法多用于光电转换和太 阳能电池的制备[ 37] ,对于光催化能否应用,取决于 有机光敏剂本身的光稳定性以及能否紧密结合在光 催化剂表面. ② 复合半导体. 复合半导体可以分为 半导体-绝缘体和半导体-半导体复合两类. 在前一 类复合体中,绝缘体起载体作用,这将在载体部分叙 述;后一类复合体中,杂质半导体的作用则依赖于两 者的相对禁带宽度. 当浅带半导体 CdS 与 TiO2 复合 时,光生电子产生于 CdS 并迁移到 TiO2,一方面需 要的激发光频率低,另一方面这种迁移有利于电荷 的分离,所以光催化活性随着 CdS 浓度的增大有明 显提高[38 〛. 对宽带隙半导体掺杂,如 SnO2 与 TiO2 的复合[39] ,光催化活性的改善被认为是由于空间效 应促进了电子和空穴的分离. 不过,这些认识尚比较 肤浅,事实上,依赖于沉积条件复合半导体的活性差 别很大,过量的掺杂往往适得其反[40] . ③ 贵金属沉 积. 当给 TiO2 表面沉积某些贵金属(如:Pt、Au [41] 等)时,费米能级的持平使得电子从 n 型半导体向 金属流动,形成能捕获光生电子的肖特基势垒 (Schottky barrier),可抑制电子和空穴的复合. 付贤 智等人的研究表明[42] ,铂修饰的 TiO2 比单一 TiO2 对苯 有 更 高 的 降 解 率 和 矿 化 率. Harade 研 究 了 Pt / TiO2对水中有机磷杀虫剂的降解[43] ,发现其反 应速度比 TiO2 高 6 倍. 但需要注意的是,沉积过多 的贵金属会减少催化剂的比表面积,同时还易形成 电子空穴的复合中心,且铂的加入方法对活性也有 342 化 学 物 理 学 报 第 16 卷

第5期 韩世同等:半导体光催化研究进展与展望 343 较大的影响 3.3.2电场助光催化:电场助光催化反应是通过 3.2.2增加表面活性中心的数量:①过渡金属将TO2负载到钛片、导电玻璃(OTE)等材料上制成 粒子掺杂.过渡金属掺杂的一般方法是通过少量可二维(三维)TO2光电极,插入含污染物的溶液中, 溶性金属盐类浸渍半导体粉末,随后经焙烧制通过加阳极偏压的方式来实现.其原理是:对浸在 成4].适当的过渡金属离子掺杂可以在半导体晶体电解质溶液中的TO2膜施加阳极偏压,能在距膜表 中引入晶格缺陷,使之形成更多的光催化活性位,但面一定距离的区域(用W表示)内产生电势降(内 过多的掺杂量会增加催化剂表面载流子复合中心的部电场),其方向由溶液指向TO2膜的内部.W区 数目,使活性下降.Choi等研究了21种金属离子对域电场梯度的大小与TiO,膜表面吸附阴离子的种 TO2的掺杂效果,发现0.1%~0.5%的Fe3+、类和数量及阳极偏压的大小有关在一定波长光的 Mo2+、Ru2+、O32+、Re5、V+和Rh3等离子掺杂激发下,W区域内的光生空穴受内部电场的作用可 能够提高TiO2光催化反应活性,掺入Co2和A迅速迁移到表面,而光生电子则通过外电路迁移到 则有负作用.②超强酸化固体超强酸对烷烃的异对电极表面,导致氧化还原反应发生.施加阳极偏压 构化和裂解都有极高的催化活性.付贤智等人发现可得到比单纯光催化过程更高的反应效率. Vinod- SO42/TiO2固体超强酸光催化剂同样具有非常高gopa研究了染料AO7在TO2/SnO2/OTE上的光催 的光催化活性4。41.给TO2引入SO42-,可有效抑化降解,发现在单通氧气的条件下,反应150min 制TO2在焙烧时所发生的晶相转变、晶粒长大以及时AO7的浓度只下降84%,而在氮气气氛下,当把 比表面积的下降,并在表面形成强的 Lewis酸和阳极偏压的数值由0.43V提高到0.83V(小于 Fronted酸中心.表面酸性中心可加速光生电子向O7的氧化电位)时,AO7则可完全降解. TO2表面活性中心的转移,增加界面电子转移的速3.3.3微波场助光催化:将微波场引入光催化反 度,减少光致空穴复合的几率:另外,SO2-的强诱应体系可产生微波光耦合催化现象付贤智等发 导效应还可增强钛离子对表面氧的吸附这些对提现,施加微波能提高TO2催化剂对C2H4的光催化 高催化剂的活性和反应量子效率都是有利的 氧化活性[43,活性从单纯光催化条件下的27%提 3.3外场效应的影响 高到相应微波光催化时的32%.认为微波场的存 光催化反应性能除与催化剂的组成、晶相结构在,①可增加催化剂的光吸收,微波场通过对催化 和表面性质等有关外,各种外场,如热场、电场、微波剂的极化作用使其表面可产生更多的悬空键和不饱 场和超声波场等,也对其有促进作用.电场对催化剂和键,从而在能隙中形成了更多的附加能级(缺陷 表面的电子和空穴有定向分离,减少复合几率的作能级),使光吸收红移,吸收利用率提高:②可抑制 用:微波场通过强极化作用能提高光生电子的跃迁载流子的复合,微波场可使催化剂的缺陷成为电子 几率;超声作用则通过其超空泡效应在催化剂表面或空穴的捕获中心,降低电子空穴的复合率;③可 产生瞬间的高温、高压极限条件可加速反应的进行.促进水的脱附,在气-固光催化反应过程中,环境空 3.3.1光热耦合催化:加热对光催化有如下作气中的水及光催化产物水在催化剂表面强烈吸附 用:通常意义上的“热”催化作用,即通过反应体系对光催化反应有抑制作用在微波场下,吸附的水分 温度的提高来提高反应的速率;增加催化剂的光吸子可从催化剂表面脱附,促使更多的表面活性中心 收,常用的TO2半导体的本征光吸收是间接跃迁过参与反应:④可促进表面羟基生成游离基,微波辐 程,需要吸收或发射声子,使跃迁的动量守恒.热场射使表面振动激发态羟基的数目增多,有利于羟基 的引入使TO2微晶内的晶格振子热运动加剧,增加游离基的生成0 导带电子在光照作用下吸收和发射声子的几率,从3.3.4超声波场的作用:超声波有超声空化作 而增加了带间间接跃迁几率,提高了光吸收效率.付用,通过使液体中微小气泡快速的形成和破裂在气 贤智等在P/TO2催化剂光化分解苯的研究中发泡附近很小的区域产生瞬间高压(可达几千个大气 现],光催化和热催化具有耦合效应:TO2在35℃压的激流)高温(可达104K)和高速冲流,可加速 光催化反应和120℃纯热催化反的苯转化率分别为降解产物从催化剂表面的脱附:可在液固界面引起 3.3%和16.2%,而120℃在紫外光照射下反应转化空化效应、微喷射冲击和激波破坏,引起光催化剂微 率达52.3%,是前二者之和的2.7倍 粒间高速碰撞,使光催化剂颗粒变小,比表面积增

较大的影响. 3. 2. 2 增加表面活性中心的数量: ① 过渡金属 粒子掺杂. 过渡金属掺杂的一般方法是通过少量可 溶性金属盐类浸渍半导体粉末,随后经焙烧制 成[44] . 适当的过渡金属离子掺杂可以在半导体晶体 中引入晶格缺陷,使之形成更多的光催化活性位,但 过多的掺杂量会增加催化剂表面载流子复合中心的 数目,使活性下降. Choi 等研究了 21 种金属离子对 TiO2 的掺杂效果[45] ,发现 0. 1% ~ 0. 5% 的 Fe3 + 、 Mo 2 + 、Ru2 + 、Os 2 + 、Re 5 + 、V4 + 和 Rh3 + 等离子掺杂 能够提高 TiO2 光催化反应活性,掺入 Co 2 + 和 Al 3 + 则有负作用. ② 超强酸化. 固体超强酸对烷烃的异 构化和裂解都有极高的催化活性. 付贤智等人发现 SO4 2 - / TiO2 固体超强酸光催化剂同样具有非常高 的光催化活性[46,47] . 给 TiO2 引入 SO4 2 - ,可有效抑 制 TiO2 在焙烧时所发生的晶相转变、晶粒长大以及 比表面积的下降,并在表面形成强的 Lewis 酸和 Brönted 酸中心. 表面酸性中心可加速光生电子向 TiO2 表面活性中心的转移,增加界面电子转移的速 度,减少光致空穴复合的几率;另外,SO4 2 - 的强诱 导效应还可增强钛离子对表面氧的吸附. 这些对提 高催化剂的活性和反应量子效率都是有利的. 3. 3 外场效应的影响 光催化反应性能除与催化剂的组成、晶相结构 和表面性质等有关外,各种外场,如热场、电场、微波 场和超声波场等,也对其有促进作用. 电场对催化剂 表面的电子和空穴有定向分离,减少复合几率的作 用;微波场通过强极化作用能提高光生电子的跃迁 几率;超声作用则通过其超空泡效应在催化剂表面 产生瞬间的高温、高压极限条件可加速反应的进行. 3. 3. 1 光热耦合催化: 加热对光催化有如下作 用:通常意义上的“热”催化作用,即通过反应体系 温度的提高来提高反应的速率;增加催化剂的光吸 收,常用的 TiO2 半导体的本征光吸收是间接跃迁过 程,需要吸收或发射声子,使跃迁的动量守恒. 热场 的引入使 TiO2 微晶内的晶格振子热运动加剧,增加 导带电子在光照作用下吸收和发射声子的几率,从 而增加了带间间接跃迁几率,提高了光吸收效率. 付 贤智等在 Pt / TiO2 催化剂光化分解苯的研究中发 现[48] ,光催化和热催化具有耦合效应:TiO2 在 35℃ 光催化反应和 120℃纯热催化反的苯转化率分别为 3. 3% 和 16. 2% ,而 120℃在紫外光照射下反应转化 率达 52. 3% ,是前二者之和的 2. 7 倍. 3. 3. 2 电场助光催化: 电场助光催化反应是通过 将 TiO2 负载到钛片、导电玻璃(OTE)等材料上制成 二维(三维)TiO2 光电极,插入含污染物的溶液中, 通过加阳极偏压的方式来实现. 其原理是:对浸在 电解质溶液中的 TiO2 膜施加阳极偏压,能在距膜表 面一定距离的区域(用 W 表示)内产生电势降(内 部电场),其方向由溶液指向 TiO2 膜的内部. W 区 域电场梯度的大小与 TiO2 膜表面吸附阴离子的种 类和数量及阳极偏压的大小有关. 在一定波长光的 激发下,W 区域内的光生空穴受内部电场的作用可 迅速迁移到表面,而光生电子则通过外电路迁移到 对电极表面,导致氧化还原反应发生. 施加阳极偏压 可得到比单纯光催化过程更高的反应效率. Vinod￾gopa 研究了染料 AO7 在 TiO2 / SnO2 / OTE 上的光催 化降解[49] ,发现在单通氧气的条件下,反应 150 min 时 AO7 的浓度只下降 84% ,而在氮气气氛下,当把 阳极偏压的数值由 0. 43 V 提高到 0. 83 V( 小于 AO7 的氧化电位)时,AO7 则可完全降解. 3. 3. 3 微波场助光催化: 将微波场引入光催化反 应体系可产生微波-光耦合催化现象. 付贤智等发 现,施加微波能提高 TiO2 催化剂对 C2H4 的光催化 氧化活性[48] ,活性从单纯光催化条件下的 27% 提 高到相应微波光催化时的 32% . 认为微波场的存 在,① 可增加催化剂的光吸收,微波场通过对催化 剂的极化作用使其表面可产生更多的悬空键和不饱 和键,从而在能隙中形成了更多的附加能级(缺陷 能级),使光吸收红移,吸收利用率提高;② 可抑制 载流子的复合,微波场可使催化剂的缺陷成为电子 或空穴的捕获中心,降低电子-空穴的复合率;③ 可 促进水的脱附,在气-固光催化反应过程中,环境空 气中的水及光催化产物水在催化剂表面强烈吸附, 对光催化反应有抑制作用. 在微波场下,吸附的水分 子可从催化剂表面脱附,促使更多的表面活性中心 参与反应;④ 可促进表面羟基生成游离基,微波辐 射使表面振动激发态羟基的数目增多,有利于羟基 游离基的生成[50] . 3. 3. 4 超声波场的作用: 超声波有超声空化作 用,通过使液体中微小气泡快速的形成和破裂在气 泡附近很小的区域产生瞬间高压(可达几千个大气 压的激流)、高温(可达 104 K)和高速冲流,可加速 降解产物从催化剂表面的脱附;可在液固界面引起 空化效应、微喷射冲击和激波破坏,引起光催化剂微 粒间高速碰撞,使光催化剂颗粒变小,比表面积增 第 5 期 韩世同等:半导体光催化研究进展与展望 343

344 物理学报 第16卷 大,产生更多的活性中心;产生超空泡效应,形成有后,直接使用).虽然这种方法简单易行,但负载的 利于反应进行的瞬间局部高温高压条件.王涵慧等牢固性欠佳,分布不均,透光性也比较差.②溶胶- 人利用超声作用与光催化作用耦合降解硫化氢∞,凝胶法[5-”,以钛的无机盐类(如TCl4)或钛酸酯 发现反应10min,反应中释放的氢气量比单纯光催类(如Ti(OCH)4)作为前躯物,将其溶于醇中(液 化提高了15.8倍 体无机钛盐类可直接使用),再在室温下加入到中 3.4载体效应 强酸度的水溶液中,当其发生强烈水解形成溶胶后 虽然纳米尺寸的光催化剂有着较强的光催化活采用旋转或浸渍-提拉等方法将溶液涂于衬底上,再 性,但是纳米粉体在实际使用时,对固液过程存在易经热处理可形成纳米薄膜光催化剂.溶胶-凝胶法形 团聚和反应后难回收的问题;对气固过程,则存在易成的光催化薄膜,粒径分布集中、比表面积大、分布 堵塞,传质阻力高的弊病.因此,光催化剂的负载化均匀、结合牢固这种方法是目前最为常用的负载方 对光催化技术的实用化非常重要.合适的载体材料法,适用不同形状载体如在玻璃、不锈钢、钛片等材 可以增加反应的有效比表面积、提供适合的孔结构、料表面光催化功能膜的制备.m1.③偶联法],将 提高催化剂的机械强度、热稳定性和抗毒性能,并降硅偶联剂、环氧粘合剂等偶联剂与纳米光催化剂的 低催化剂的生产成本2 均匀混合物涂抹在载体表面或同时加入载体,均匀 3.4.1常用载体:①硅质材料,包括富含硅的玻搅拌后,经干燥可制成负载型光催化剂.该法简单方 璃类、陶瓷类、硅质类载体材料.玻璃类,如普通玻璃便,但由于偶联剂多为有机物,这种催化剂的耐腐蚀 片、环、珠、弹簧、纤维、二氧化硅片、硅片,光纤性较差,同时由于粘合作用,光催化剂的比表面积也 等5-571,价格便宜、购买方便、透光性好,是实验室比较小.④掺杂法3,在载体尚未成型前,在载体 的首选载体.玻璃类材料的缺点主要在于对光催化原料中加入光催化剂或加入光催化剂的前躯物,使 剂的负载量少,同时在制备过程中,玻璃中的钠离子光催化剂直接负载在载体上.日本石原产业开发的 会渗入光催化剂层,对催化活性有负面影响3.陶PST-H1光催化剂就是将二氧化钛粉末加入到活 瓷类,如瓷珠、瓷砖、蜂窝陶瓷等-ω,其价廉、稳定性炭、无机纤维和纸浆中,经抄制成纸再复合成蜂窝 且坚固耐用.硅质类,包括水泥、珍珠岩、粘土状而得到的二次加工产品,其已被用于除臭抗菌室 等6-6,稳定性强,可以粘结光催化剂于表面,但是内空气净化机m].⑤水解沉淀法,根据OH与 负载量少,耐久性差这些常用于空气净化、水净化TO3反应生成T(OH)4的原理,通过一个可控制 辅助功能材料制备方面.②金属类,常用的有镍片的、缓慢的化学反应释放出的OH与可溶性钛酸盐 (泡沫镍)铝片、钛片、铜片和不锈钢片等一些耐腐进行反应生成Ti(OH)4,将其在原位沉积在载体表 蚀的金属材料:6,主要用于电助光催化反应.③面,随后经过焙烧制成负载型光催化剂这种方法的 有机聚合物类,包括 Nafion树脂(全氟磺酸薄膜)等反应条件温和、设备简单,可适用于多种载体,但制 耐腐蚀的有机材料的.如将聚四氟乙烯微粒和二氧备时间长、沉积过程受多种因素影响,所形成的膜均 化钛混合烧结并压制成薄板,由于氟树脂可以形成匀性也较凝胶法差.⑥电泳沉积法,以TO2光 多孔结构,外部气体可以扩散到内部,这已被用于隧催化剂为例,在新制备的TO2溶胶中,以导电性载 道内的汽车尾气光催化消除{6.④其他类,如分子体为阴极,惰性导体为阳极,在恒电位下通过TO2 筛、活性炭、无纺布、纸等-m.分子筛有极大的比溶胶的电泳使其沉积到载体上,从而得到均匀的 表面积和规则的孔洞结构,不但可以富集污染物,而TO2光催化剂薄膜.⑦分子吸附沉积法利用大 且其有可剪裁的内外表面,是一种较好的载体材料:比表面积载体强物理或化学吸附性能将钛的无机盐 活性炭有负载量大、吸附性强、耐腐蚀,价廉等特点,类(如TiCl4)或钛酸脂类(如Ti(OCH,)4)等吸附 是一种有广阔应用前景的载体.用纸负载的光催化在载体表面,然后让其在潮湿空气中水解,再经高温 剂可作为墙纸使用于室内空气净化 煅烧即可制备出负载型二氧化钛薄膜.⑧离子東 3.4.2负载方法:①粉体烧结法,这是采用溅射注入法(ICB),在不同气氛中,利用荷能粒 最早的负载方法.它将光催化剂纳米粉体分散在水子轰击靶材表面,使被轰击出的粒子在基片上沉积 中或其它溶液中用载体浸渍,经常温下或100℃左如以高纯钛为靶材料,在氧气气氛和加速电场的作 右脱水干燥,然后在550℃左右焙烧而成(也可干燥用下可使二氧化钛沉积在负载基片板上.用这种方

大,产生更多的活性中心;产生超空泡效应,形成有 利于反应进行的瞬间局部高温高压条件. 王涵慧等 人利用超声作用与光催化作用耦合降解硫化氢[50] , 发现反应 10 min,反应中释放的氢气量比单纯光催 化提高了 15. 8 倍. 3. 4 载体效应 虽然纳米尺寸的光催化剂有着较强的光催化活 性,但是纳米粉体在实际使用时,对固液过程存在易 团聚和反应后难回收的问题;对气固过程,则存在易 堵塞,传质阻力高的弊病. 因此,光催化剂的负载化 对光催化技术的实用化非常重要. 合适的载体材料 可以增加反应的有效比表面积、提供适合的孔结构、 提高催化剂的机械强度、热稳定性和抗毒性能,并降 低催化剂的生产成本[52,53] . 3. 4. 1 常用载体: ① 硅质材料,包括富含硅的玻 璃类、陶瓷类、硅质类载体材料. 玻璃类,如普通玻璃 片、环、珠、弹 簧、纤 维、二 氧 化 硅 片、硅 片,光 纤 等[54 - 57] ,价格便宜、购买方便、透光性好,是实验室 的首选载体. 玻璃类材料的缺点主要在于对光催化 剂的负载量少,同时在制备过程中,玻璃中的钠离子 会渗入光催化剂层,对催化活性有负面影响[38] . 陶 瓷类,如瓷珠、瓷砖、蜂窝陶瓷等[58 - 60] ,其价廉、稳定 且坚 固 耐 用. 硅 质 类,包 括 水 泥、珍 珠 岩、粘 土 等[61 - 63] ,稳定性强,可以粘结光催化剂于表面,但是 负载量少,耐久性差. 这些常用于空气净化、水净化 辅助功能材料制备方面. ② 金属类,常用的有镍片 (泡沫镍)、铝片、钛片、铜片和不锈钢片等一些耐腐 蚀的金属材料[64,65] ,主要用于电助光催化反应. ③ 有机聚合物类,包括 Nafion 树脂(全氟磺酸薄膜)等 耐腐蚀的有机材料[66] . 如将聚四氟乙烯微粒和二氧 化钛混合烧结并压制成薄板,由于氟树脂可以形成 多孔结构,外部气体可以扩散到内部,这已被用于隧 道内的汽车尾气光催化消除[67] . ④ 其他类,如分子 筛、活性炭、无纺布、纸等[68 - 70] . 分子筛有极大的比 表面积和规则的孔洞结构,不但可以富集污染物,而 且其有可剪裁的内外表面,是一种较好的载体材料; 活性炭有负载量大、吸附性强、耐腐蚀,价廉等特点, 是一种有广阔应用前景的载体. 用纸负载的光催化 剂可作为墙纸使用于室内空气净化. 3. 4. 2 负载方法: ① 粉体烧结法[62] ,这是采用 最早的负载方法. 它将光催化剂纳米粉体分散在水 中或其它溶液中用载体浸渍,经常温下或 100℃ 左 右脱水干燥,然后在 550℃左右焙烧而成(也可干燥 后,直接使用). 虽然这种方法简单易行,但负载的 牢固性欠佳,分布不均,透光性也比较差. ② 溶胶- 凝胶法[55 - 57] ,以钛的无机盐类(如 TiCl4)或钛酸酯 类(如 T(i OC4H9)4)作为前躯物,将其溶于醇中(液 体无机钛盐类可直接使用),再在室温下加入到中 强酸度的水溶液中,当其发生强烈水解形成溶胶后, 采用旋转或浸渍-提拉等方法将溶液涂于衬底上,再 经热处理可形成纳米薄膜光催化剂. 溶胶-凝胶法形 成的光催化薄膜,粒径分布集中、比表面积大、分布 均匀、结合牢固. 这种方法是目前最为常用的负载方 法,适用不同形状载体如在玻璃、不锈钢、钛片等材 料表面光催化功能膜的制备. [71] . ③ 偶联法[72] ,将 硅偶联剂、环氧粘合剂等偶联剂与纳米光催化剂的 均匀混合物涂抹在载体表面或同时加入载体,均匀 搅拌后,经干燥可制成负载型光催化剂. 该法简单方 便,但由于偶联剂多为有机物,这种催化剂的耐腐蚀 性较差,同时由于粘合作用,光催化剂的比表面积也 比较小. ④ 掺杂法[73] ,在载体尚未成型前,在载体 原料中加入光催化剂或加入光催化剂的前躯物,使 光催化剂直接负载在载体上. 日本石原产业开发的 P-ST-H11 光催化剂就是将二氧化钛粉末加入到活 性炭、无机纤维和纸浆中,经抄制成纸再复合成蜂窝 状而得到的二次加工产品,其已被用于除臭抗菌室 内空气净化机[74] . ⑤ 水解沉淀法[75] ,根据 OH - 与 TiO2 + 反应生成 T(i OH)4 的原理,通过一个可控制 的、缓慢的化学反应释放出的 OH - 与可溶性钛酸盐 进行反应生成 T(i OH)4,将其在原位沉积在载体表 面,随后经过焙烧制成负载型光催化剂. 这种方法的 反应条件温和、设备简单,可适用于多种载体,但制 备时间长、沉积过程受多种因素影响,所形成的膜均 匀性也较凝胶法差. ⑥ 电泳沉积法[76] ,以 TiO2 光 催化剂为例,在新制备的 TiO2 溶胶中,以导电性载 体为阴极,惰性导体为阳极,在恒电位下通过 TiO2 溶胶的电泳使其沉积到载体上,从而得到均匀的 TiO2 光催化剂薄膜. ⑦ 分子吸附沉积法[77]利用大 比表面积载体强物理或化学吸附性能将钛的无机盐 类(如 TiCl4)或钛酸脂类(如 T(i OC4H9)4)等吸附 在载体表面,然后让其在潮湿空气中水解,再经高温 煅烧即可制备出负载型二氧化钛薄膜. 离子束 溅射注入法(ICB)[78] ,在不同气氛中,利用荷能粒 子轰击靶材表面,使被轰击出的粒子在基片上沉积. 如以高纯钛为靶材料,在氧气气氛和加速电场的作 用下可使二氧化钛沉积在负载基片板上. 用这种方 344 化 学 物 理 学 报 第 16 卷

第5期 韩世同等:半导体光催化研究进展与展望 45 法可以制备高纯、致密的TO,薄膜,并且通过对反咽喉发干和皮炎,损害DNA,长期吸入甚至可以引 应气氛的改变,可以注入不同的非金属元素.Anpo起白血病、癌症等难治之症.研究表明,利用光催化 利用离子束溅射注入法制备出了不同离子掺杂的技术可以高效降解或完全矿化这些常见的气相有机 TO2,使TO2的吸收光谱大范围红移,对太阳光污染物,而不产生二次污染.目前,对于大气及室 谱的利用率达到20%~30%.⑨电化学水解法,以内污染物的光催化净化主要集中在研制高活性的负 载体钛片为阴极,惰性导体为阳极,通过电解在钛片载型光催化剂以及对含负载型光催化剂的空气净化 上表面形成TO2薄层.⑩化学气相沉积法,装置的设计方面美、日已经有利用光催化技术制备 通过使钛的挥发性化合物的蒸气在加热的载体上凝的空气净化设备,用于处理室内、隧道、医院内的有 聚、反应转化成TiO 害气体;家用和车用光催化空气净化器有良好的净 4光催化技术在环境污染治理中的应用 化空气、杀菌、除尘的效果 4.2水中污染物的光催化降解 4.1大气及室内污染物的光催化氧化 水中的污染物主要来源于工业废水、生活废水 从汽油、建筑材料、家具、香烟和电器等释放到以及水处理过程中引入的污染物,其中包括有机磷 大气的挥发性有机化学物质多达350种,其中包含化合物(杀虫剂,农药等)、含卤素化合物、表面活性 甲醛、氨、二氯(三氯)乙烯、二甲苯、一氧化碳,二氧剂、染料、烃类、苯类、油类、酚类、醚类以及重金属离 化氮,二氧化硫等高危险、高毒害气体.这些化学物子等.研究表明,利用光催化技术不但可以使这些有 质会引发人类和动物中枢神经系统、呼吸系统、生殖机物彻底地降解为无机盐和CO2,而且能使重金属 系统、循环系统和免疫系统的功能异常,出现头痛、离子还原消除,见表2.在生活废水中,氯代物、表 表2光催化氧化降解水中有害、有毒污染物实例 Table 2 Some examples for oxidation of pollutants in water phase by photoctalysis Wastewater Contaminations ght source Main prodi Living waste water [82-86] UV, Solar light Dye and textile waster Alizarin Red, Acid Rose Red B, Active chlorine Active red X-3B, Rhodamine dye, Azo dye, Methy- UV, Solar light CO2, H, O, Inorganic ion Pesticides, insecticides Deltamethin, Phorate, Atrazine, Methyl para- UV, Solar light and herbicides F. Cl,SO thion, Fenitrothion ef al Hydrocarbon, Surfactant. et al PO43-,NO3”,C1,CO2 Industry waste water 86,96.971 Cr( V), CN, Oil and surfactant, et al UV, Solar light Cr(Ⅲ),NO 面活性剂和油类等是主要的污染物. calza等人研究活废水的报道o.染料废水因其色度高和毒害 了CCl3Br、CBr3F、CHC12Br和CH2BrCl的光催化降作用强而难于处理,而利用光催化技术在几个小时 解反应],发现该反应由Cl自由基引发后经链增内就可将多种染料彻底脱色和氧化.农药废水由于 长、链终止,最终生成CO2、HC.对于含苯基和长链其高毒害作用一直是困扰科研人员的一个难题,而 烷烃的表面活性剂,虽然光催化作用很难将其彻底光催化剂无疑是解决这个问题的一条最佳方法光 氧化为CO2和H2O,但是光催化通过打碎苯环和长催化技术能将含磷和含氮的有机化合物的结构彻底 链烷烃可减少其在微生物处理中对细菌的毒害作破坏而使其丧失毒性.利用悬浮在油表面的负载光 用,有利于进行微生物处理胡将军发现利用光催化催化剂也可以实现对大面积水域油污染的有效处 处理10m,废水的CD值仅有原值的1/21.目理.含有其它有机物,如含醇废水的半导体光催化也 前,已有利用光催化和微生物处理技术联合处理生

法可以制备高纯、致密的 TiO2 薄膜,并且通过对反 应气氛的改变,可以注入不同的非金属元素. Anpo 利用离子束溅射注入法制备出了不同离子掺杂的 TiO2 [79] ,使 TiO2 的吸收光谱大范围红移,对太阳光 谱的利用率达到 20% ~ 30% . ⑨ 电化学水解法,以 载体钛片为阴极,惰性导体为阳极,通过电解在钛片 上表面形成 TiO2 薄层[80] . ⑩ 化学气相沉积法[81] , 通过使钛的挥发性化合物的蒸气在加热的载体上凝 聚、反应转化成 TiO2 . 4 光催化技术在环境污染治理中的应用 4. 1 大气及室内污染物的光催化氧化 从汽油、建筑材料、家具、香烟和电器等释放到 大气的挥发性有机化学物质多达 350 种,其中包含 甲醛、氨、二氯(三氯)乙烯、二甲苯、一氧化碳,二氧 化氮,二氧化硫等高危险、高毒害气体. 这些化学物 质会引发人类和动物中枢神经系统、呼吸系统、生殖 系统、循环系统和免疫系统的功能异常,出现头痛、 咽喉发干和皮炎,损害 DNA,长期吸入甚至可以引 起白血病、癌症等难治之症. 研究表明,利用光催化 技术可以高效降解或完全矿化这些常见的气相有机 污染物,而不产生二次污染[6] . 目前,对于大气及室 内污染物的光催化净化主要集中在研制高活性的负 载型光催化剂以及对含负载型光催化剂的空气净化 装置的设计方面. 美、日已经有利用光催化技术制备 的空气净化设备,用于处理室内、隧道、医院内的有 害气体;家用和车用光催化空气净化器有良好的净 化空气、杀菌、除尘的效果. 4. 2 水中污染物的光催化降解 水中的污染物主要来源于工业废水、生活废水 以及水处理过程中引入的污染物,其中包括有机磷 化合物(杀虫剂,农药等)、含卤素化合物、表面活性 剂、染料、烃类、苯类、油类、酚类、醚类以及重金属离 子等. 研究表明,利用光催化技术不但可以使这些有 机物彻底地降解为无机盐和 CO2,而且能使重金属 离子还原消除,见表 2. 在生活废水中,氯代物、表 表 2 光催化氧化降解水中有害、有毒污染物实例 Table 2 Some examples for oxidation of pollutants in water phase by photoctalysis Wastewater Contaminations Light source Main production Living waste water [82 - 86] Halogen、Oil、Surfactants. et al. UV,Solar light CO2,Cl - ,H2O Dye and textile waster water [87 - 90] Alizarin Red,Acid Rose Red B,Active chlorine, Active red X-3B,Rhodamine dye,Azo dye,Methy￾lorange,Shangdacid and Green B. et al. UV,Solar light CO2,H2O,Inorganic ion Pesticides,insecticides, and herbicides [91 - 95] Methymol,Dichlorvos,Monocrotophos,Imidaclo￾prid,Deltamethin,Phorate,Atrazine,Methyl para￾thion,Fenitrothion. et al. UV,Solar light CO3 2 - , NO3 - , PO4 3 - , F - ,Cl - ,SO4 2 - Oil [59 - 63] Hydrocarbon,Surfactant. et al. UV PO4 3 - ,NO3 - ,Cl - ,CO2 Industry waste water [86,96,97] C(r Ⅵ),CN - ,Oil and surfactant,et al. UV,Solar light C(r Ⅲ),NO3 - ,Cl - ,CO2 面活性剂和油类等是主要的污染物. Calza 等人研究 了 CCl3Br、CBr3F、CHCl2Br 和 CH2BrCl 的光催化降 解反应[98] ,发现该反应由 Cl 自由基引发后经链增 长、链终止,最终生成 CO2、HCl. 对于含苯基和长链 烷烃的表面活性剂,虽然光催化作用很难将其彻底 氧化为 CO2 和 H2O,但是光催化通过打碎苯环和长 链烷烃可减少其在微生物处理中对细菌的毒害作 用,有利于进行微生物处理. 胡将军发现利用光催化 处理 120 min,废水的 COD 值仅有原值的 1 / 2 [99] . 目 前,已有利用光催化和微生物处理技术联合处理生 活废水的报道[100,101] . 染料废水因其色度高和毒害 作用强而难于处理,而利用光催化技术在几个小时 内就可将多种染料彻底脱色和氧化. 农药废水由于 其高毒害作用一直是困扰科研人员的一个难题,而 光催化剂无疑是解决这个问题的一条最佳方法. 光 催化技术能将含磷和含氮的有机化合物的结构彻底 破坏而使其丧失毒性. 利用悬浮在油表面的负载光 催化剂也可以实现对大面积水域油污染的有效处 理. 含有其它有机物,如含醇废水的半导体光催化也 第 5 期 韩世同等:半导体光催化研究进展与展望 345

物理学报 第16卷 有详细的研究 本上是一个没有选择性的化学过程,所以再进行大 4.3光催化氧化技术的其它应用 量的不同反应物的光催化活性的评价研究意义已不 光催化氧化技术还在制备自洁功能建筑材料和是很显著,当前重复研究、无明显根据的解释已时有 超亲水材料及医疗等方面有广泛的应用,这方面有出现所以作者认为未来的光催化研究应该集中在 大量的研究和新闻报道.已有多家研究单位成功研机理的深刻认识、光响应范围宽和量子效率高的催 制出光催化膜功能材料,这种净化膜涂层可用于建化剂制备、和光催化剂技术工程化及新型光催化产 筑物的外墙及内墙面,实现室内外大气的同时净化,品开发四个方面 集环境保护与建筑功能于一体.最近,福州大学研制 首先要高度重视反应机理的研究.从一开始人 的光催化自清洁灭菌陶瓷已投入生产.日本TOTO们一直沿用半导体能带理论来解释光催化过程,虽 (东陶)公司研制成功的自洁玻璃和自洁瓷砖也已然这一理论已经被普遍的接受,但不是所有的实验 用于装饰医院的墙壁.还可利用TiO2光催化剂的超结果都能完全用它可给出清楚的解释.比如,TO2 亲水性制备抗雾功能材料.在生命科学领域,TO2经金属离子或硫酸根修饰后,有时光催化剂的能带 分散体系可杀灭细菌和病毒,如酵母菌和大肠杆菌结构、光吸收及其带边并没有发生明显的改变,而光 等利用TO,的光催化活性借助光纤传导紫外光可催化活性却有显著的提高;有时光催化剂的吸光度 杀死癌细胞,显然是一种很有前途的制癌方法[101.显著降低,其活性反倒提高再如关于杂质掺入量对 光催化技术还可用于有机合成,如以QZnS为光催催化剂活性的影响,掺杂使活性提高时认为杂质是 化剂,以甲醇水溶液为原料,在光照下可使乙二醇的载流子的分离中心,而掺杂使活性降低时认为杂质 产率高达90%[01 又是载流子的复合中心,来自能带理论的这种解释 并不能告诉人们杂质影响的本质原因.最近有研究 5结语与展望 表明,沸石分子筛也是一种好的光催化剂,作为 我们仅列举了近30年来关于光催化研究的部绝缘体,其作用机理尚难从半导体的概念上去认识 分成果,事实上,光催化研究的内容涉及光催化剂的因此,应该结合当代对多相催化的理解寻求从分子 制备(包括新催化剂的开发,TO2、ZnO、Cds等光水平上了解光催化的本质,这就要求研究者一方面 催化剂的各种改性或修饰)、光催化作用机理研究、要加强光催化动力学,特别是反应中间体测定的研 光催化技术的工程化、光催化技术的各种应用研究究,另一方面要采用先进的物理表征手段原位测定 和产品开发等等从基础到应用研究的各个方面.作光照下所发生在催化剂表面的微观物理和化学过 者一直在思考现今光催化研究的活跃局面能否长久程,并通过机理的认识来指导高效光催化剂的合成 的持续下去?过去的研究可以说已经积累了大量的 其次是光催化剂的开发.目前公认的真正能实 资料,获得了不少理性认识,未来的研究应该朝哪个际使用的光催化剂只有TO2,其已采用各种方法制 方向发展?从当今全球对社会经济持续发展的强烈备,如 Sol-Gel法、改进的sol-Gel法、 MOCVD法、磁 关注考虑,由于光催化学科从一开始致力于清洁能控溅射射法、反向胶束法等:能够获得的各种钛源, 源的开发(光解水制氢)到现在与环境保护及治理如各种有机钛酸酯、各种无机钛、金属钛和其它有机 紧密结合,它始终没有离开人类所关注的重大问题,钛化物等;能使用的可种沉淀剂,如各种有机的和无 其强大的生命力和发展潜力是不应怀疑的然而,正机的化合物等进行了合成制备研究,也进行了大量 如在前面所论述的那样,现今所知道的光催化剂的的各种掺杂、复合等体相和表面的修饰研究,这些方 效率和太阳能的利用率很低,目前已开发出的各种法都没有获得光催化活性的重大改进的效果最近 光催化产品远没有达到人们所预期的功能,所以光 Asahi通过溅射法和氨气气氛焙烧法合成TO2-N 催化未来的发展取决于其是否能在能源和环境治理光催化剂粉体及膜,它对小于500m的光波有 中真正地起到应有的作用.要做到这一点,必须深化响应,可在太阳光及室内微光条件下,光催化降解甲 对光催化现象的认识和提高催化剂的制备水平.目基蓝,气态乙醛,并维持较高的亲水性,同时TO2 前关于光催化剂对各种有机物氧化降解的普适性已N光催化剂还具有耐酸、碱、H2O2腐蚀的特点 成为共识,虽然不同的有机物由于结构,组成上的差 Shahed通过在天然气火焰上有控制的燃烧金属 别在降解活性上有一些差别,但总体上看,光催化基T,得到了一种C改性的nTiO2,吸收波长小于

有详细的研究[102] . 4. 3 光催化氧化技术的其它应用 光催化氧化技术还在制备自洁功能建筑材料和 超亲水材料及医疗等方面有广泛的应用,这方面有 大量的研究和新闻报道. 已有多家研究单位成功研 制出光催化膜功能材料,这种净化膜涂层可用于建 筑物的外墙及内墙面,实现室内外大气的同时净化, 集环境保护与建筑功能于一体. 最近,福州大学研制 的光催化自清洁灭菌陶瓷已投入生产. 日本 TOTO (东陶)公司研制成功的自洁玻璃和自洁瓷砖也已 用于装饰医院的墙壁. 还可利用 TiO2 光催化剂的超 亲水性制备抗雾功能材料. 在生命科学领域,TiO2 分散体系可杀灭细菌和病毒,如酵母菌和大肠杆菌 等. 利用 TiO2 的光催化活性借助光纤传导紫外光可 杀死癌细胞,显然是一种很有前途的制癌方法[7,10] . 光催化技术还可用于有机合成,如以 Q-ZnS 为光催 化剂,以甲醇水溶液为原料,在光照下可使乙二醇的 产率高达 90%[103] . 5 结语与展望 我们仅列举了近 30 年来关于光催化研究的部 分成果,事实上,光催化研究的内容涉及光催化剂的 制备(包括新催化剂的开发,TiO2、ZnO、CdS 等光 催化剂的各种改性或修饰)、光催化作用机理研究、 光催化技术的工程化、光催化技术的各种应用研究 和产品开发等等从基础到应用研究的各个方面. 作 者一直在思考现今光催化研究的活跃局面能否长久 的持续下去?过去的研究可以说已经积累了大量的 资料,获得了不少理性认识,未来的研究应该朝哪个 方向发展?从当今全球对社会经济持续发展的强烈 关注考虑,由于光催化学科从一开始致力于清洁能 源的开发(光解水制氢)到现在与环境保护及治理 紧密结合,它始终没有离开人类所关注的重大问题, 其强大的生命力和发展潜力是不应怀疑的. 然而,正 如在前面所论述的那样,现今所知道的光催化剂的 效率和太阳能的利用率很低,目前已开发出的各种 光催化产品远没有达到人们所预期的功能,所以光 催化未来的发展取决于其是否能在能源和环境治理 中真正地起到应有的作用. 要做到这一点,必须深化 对光催化现象的认识和提高催化剂的制备水平. 目 前关于光催化剂对各种有机物氧化降解的普适性已 成为共识,虽然不同的有机物由于结构,组成上的差 别在降解活性上有一些差别,但总体上看,光催化基 本上是一个没有选择性的化学过程,所以再进行大 量的不同反应物的光催化活性的评价研究意义已不 是很显著,当前重复研究、无明显根据的解释已时有 出现. 所以作者认为未来的光催化研究应该集中在 机理的深刻认识、光响应范围宽和量子效率高的催 化剂制备、和光催化剂技术工程化及新型光催化产 品开发四个方面. 首先要高度重视反应机理的研究. 从一开始人 们一直沿用半导体能带理论来解释光催化过程,虽 然这一理论已经被普遍的接受,但不是所有的实验 结果都能完全用它可给出清楚的解释. 比如,TiO2 经金属离子或硫酸根修饰后,有时光催化剂的能带 结构、光吸收及其带边并没有发生明显的改变,而光 催化活性却有显著的提高;有时光催化剂的吸光度 显著降低,其活性反倒提高. 再如关于杂质掺入量对 催化剂活性的影响,掺杂使活性提高时认为杂质是 载流子的分离中心,而掺杂使活性降低时认为杂质 又是载流子的复合中心,来自能带理论的这种解释 并不能告诉人们杂质影响的本质原因. 最近有研究 表明,沸石分子筛也是一种好的光催化剂[104] ,作为 绝缘体,其作用机理尚难从半导体的概念上去认识. 因此,应该结合当代对多相催化的理解寻求从分子 水平上了解光催化的本质,这就要求研究者一方面 要加强光催化动力学,特别是反应中间体测定的研 究,另一方面要采用先进的物理表征手段原位测定 光照下所发生在催化剂表面的微观物理和化学过 程,并通过机理的认识来指导高效光催化剂的合成. 其次是光催化剂的开发. 目前公认的真正能实 际使用的光催化剂只有 TiO2,其已采用各种方法制 备,如 Sol-Gel 法、改进的 Sol-Gel 法、MOCVD 法、磁 控溅射射法、反向胶束法等;能够获得的各种钛源, 如各种有机钛酸酯、各种无机钛、金属钛和其它有机 钛化物等;能使用的可种沉淀剂,如各种有机的和无 机的化合物等进行了合成制备研究,也进行了大量 的各种掺杂、复合等体相和表面的修饰研究,这些方 法都没有获得光催化活性的重大改进的效果. 最近, Asahi 通过溅射法和氨气气氛焙烧法合成 TiO2 - xNx 光催化剂粉体及膜[105] ,它对小于 500 nm 的光波有 响应,可在太阳光及室内微光条件下,光催化降解甲 基蓝,气态乙醛,并维持较高的亲水性,同时 TiO2 - x Nx 光催化剂还具有耐酸、碱、H2O2 腐蚀的特点. Shahed 通过在天然气火焰上有控制的燃烧金属 Ti [106] ,得到了一种 C 改性的 n-TiO2,吸收波长小于 346 化 学 物 理 学 报 第 16 卷

第5期 韩世同等:半导体光催化研究进展与展望 47 535m,禁带宽度为2.3eV,发现其在0.3V的电场[14] Romero m, Blanco j, Sanchez b, Vidal a, Malato s, 和40×10°W/cm2的可见光辐照下能有效分解水 Cardona A I, Garcia E. Solar Energy, 1999, 66: 169 这些非常规制备技术的应用为TO2的性能修饰研151 Herrmann J M.cant.ray,193:15 究注入了新的活力,但是未来除了探索新的二氧化[161iXZ,LFB, Yang CL,ceWk.J, Photochem.Ph 钛合成和改性方法外,还应特别重视非氧化钛,包括 tobiol. A: Chem., 2001, 141: 209 钛基的和非钛基的光催化剂的合成和开发 [17] Fu xianzhi(付贤智).2000 National Conference on pho catalysis(2000全国光催化学术会议会议论文集) 第三是进行光催化技术的工程化研究和开发光 Fuzhou(福州),2000.19 催化剂的新应用.目前已开发的光催化产品效率不[18] Ray a K, Antonie A C, Beenackers M.cul.rud, 高的原因不仅仅在于催化剂活性偏低,还与光催化 技术工程化研究的滞后有关.以空气和污水净化器[19]LesH, Kang M, Cho S M, Han g y, Kim B w,Yo 为例,对催化剂的负载化、光源布局、待净化流体与 K J, Chung C H. J. Photochem. Photobiol. A: Chem. 催化剂接触方式等可以最大限度的提高催化剂的利 2001,146:121 用率的影响因素还缺乏系统的研究.此外,在环境污[201 Fujishima A, Honda K. Nature,1972,238 染日益严重的今天,既然现用催化剂的效率决定了[21 Shen weiren(沈伟韧), Zhao Wenkuan(赵文宽),He 其难于处理高浓度和量大的污染物,就应该把更多 Fei(贺飞), Fang youling(方佑龄). Progress in chem- isy(化学进展),1998,10:349 照的场合,如室内空气、饮用水的灭菌和净化建筑[2WmKH,mHB,y1Omy,g 物的外墙面等方面的研究,同时寻求开发其它的新[23] Linsebigler A L, Lu Guangquan, Yates Jr T.Chem 应用领域,如在医疗、新材料光催化合成等等 Re.,1995,95:735 [24] Jin Zhengsheng(金振声).2000 National conference on Photocatalysis(2000全国光催化学术会议会议论文 [1] Fujishima A, Rao T N, Tryk D A.J. Photochem. Photobi 集), Fuzhou(福州):2000.4 ol. C: Photochem. Rev., 2000, 1: I [25] Fan chongzhen(范崇政), Xiao Jiaoping(肖建平), [2] Farrauto R J, Heck R M. Catal. Today, 2000, 55:179 Ding yanwei(丁延伟).Chin.Sci.Bmll(科学通报), [3] Mills A, Lehuntes S. J. Photochem. Photobiol. A: Chem [26] Pecchi G, Reyes P, Sanhueza P, Villasenor J. Chemo- [4] Hoffman M R, Mattin S T, Choi W, Bahnemann DW phere.,2001,43:141 Chem.Re.,1995,95:69 [27] Wei zhidong(魏子栋), Yin fei(殷菲), Tan Jun(谭 [5] Zhang pengxi(张彭义), Yu gang(余刚), Jiang Zhan- 君), Tang WZ, Hou Wanguo(侯万国).Chem.Bull peng(蒋展鹏).Adm. Environ.Sci.(环境科学进展), (化学通报),2001,64:76 1997,5:1 [28] Gao Wei(高伟), Wu Fengqin(吴凤清), Luo Zhen [6] Fujishima A, Tryk D A, Honda K. Electrochimica Acta. (罗臻), Fu juxian(富菊霞), Wang Dejun(王德军), Baokun(徐宝琨 (高等学校 [7] Ollis D F. CR Acad. Sci. Paris, Serie llc, Chimie: Chemis- 化学学报),2001,22:6 ry,2000,3:405 [29]Bilmes S A, Mandelbaum P, Alvarez F, Victoria N M.J [8] Fank S N, Bard A J. J Phys. Chem.,1977,81:1484 Phys.Chem.B,2000,104:9851 [9] Carey j H, Lawrence I.Bu. Environ. Contam. Toxico.,[30] Da zhiming(戴智铭), Zhu zhongnan(朱中南) Hongchen(古宏晨). Chemical reaction engineerin [10] Fox M A, Dulay M T. Chem. ReD,1993,93:341 Technology(化学反应与工艺),200,16:185 [11] Stafford U, Gray K A, Kamat P V. Chem. Rev., 1996, [31] Li Fengsheng(ASE). Technology of Super Fine Pow- der(超细粉体技术), Beijing(北京): National defence [12] Han zhaohui(韩兆慧), Zhao huaqiao(赵华侨).Po dustry press(国防工业出版社),2000 gress in Chemistry(化学进展),1999,11:1 [32] Tomkiewicz M. Catal. Today, 2000, 58:115 [13] Robert d, Malato s. Environ.Sci. Technot.,2002,291:[33] Li Xueping(李学萍), Yi feng(尹峰), Xiao xurui(肖 绪瑞).2000 National Conference on Photocatalysis

535 nm,禁带宽度为 2. 3 eV,发现其在 0. 3 V 的电场 和 40 × 106 W/ cm2 的可见光辐照下能有效分解水. 这些非常规制备技术的应用为 TiO2 的性能修饰研 究注入了新的活力,但是未来除了探索新的二氧化 钛合成和改性方法外,还应特别重视非氧化钛,包括 钛基的和非钛基的光催化剂的合成和开发. 第三是进行光催化技术的工程化研究和开发光 催化剂的新应用. 目前已开发的光催化产品效率不 高的原因不仅仅在于催化剂活性偏低,还与光催化 技术工程化研究的滞后有关. 以空气和污水净化器 为例,对催化剂的负载化、光源布局、待净化流体与 催化剂接触方式等可以最大限度的提高催化剂的利 用率的影响因素还缺乏系统的研究. 此外,在环境污 染日益严重的今天,既然现用催化剂的效率决定了 其难于处理高浓度和量大的污染物,就应该把更多 的注意力先放在某些污染处理量不大或者有显著光 照的场合,如室内空气、饮用水的灭菌和净化,建筑 物的外墙面等方面的研究,同时寻求开发其它的新 应用领域,如在医疗、新材料光催化合成等等. 参 考 文 献 [1]Fujishima A,Rao T N,Tryk D A. J. Photochem. Photobi￾ol. C:Photochem. Rev. ,2000,1:1 [2]Farrauto R J,Heck R M. Catal. Today,2000,55:179 [3]Mills A,Lehuntes S. J. Photochem. Photobiol. A:Chem. , 1997,108:1 [4]Hoffman M R,Mattin S T,Choi W,Bahnemann D W. Chem. Rev. ,1995,95:69 [5]Zhang Pengyi(张彭义),Yu Gang(余刚),Jiang Zhan￾peng(蒋展鹏). Adv. Environ. Sci.( 环境科学进展), 1997,5:1 [6]Fujishima A,Tryk D A,Honda K. Electrochimica Acta. , 2000,45:2363 [7]Ollis D F. CR Acad. Sci. Paris,Serie IIc,Chimie:Chemis￾try,2000,3:405 [8]Fank S N,Bard A J. J. Phys. Chem. ,1977,81:1484 [9]Carey J H,Lawrence J. Bull. Environ. Contam. Toxicol. , 1976,16:697 [10]Fox M A,Dulay M T. Chem. Rev. ,1993,93:341 [11]Stafford U,Gray K A,Kamat P V. Chem. Rev. ,1996, 96:77 [12]Han Zhaohui(韩兆慧),Zhao Huaqiao(赵华侨). Pro￾gress in Chemistry(化学进展),1999,11:1 [13]Robert D,Malato S. Environ. Sci. Technol. ,2002,291: 85 [14]Romero M,Blanco J,S^nche_ B,Vidal A,Malato S, Cardona A ‘,Garcia a. Solar Energy. ,1999,66:169 [15]Herrmann J M. Catal. Today,1999,53:115 [16]Li b Z,Li F B,Yang C L,Ge W K. J. Photochem. Pho￾tobiol. A:Chem. ,2001,141:209 [17]Fu bian_hi(付贤智). 2000 National Conference on Pho￾tocatalysis(2000 全国光催化学术会议会议论文集), Fu_hou(福州),2000. 19 [18]Ray A K,Antonie A C,Beenackers M. Catal. Today, 1998,52:73 [19]Lee S H,Kang M,Cho S M,Han G Y,Kim B W,Yoon K J,Chung C H. J. Photochem. Photobiol. A:Chem. , 2001,146:121 [20]Fujishima A,Honda K. Nature,1972,238:37 [21]Shen Weiren(沈伟韧),Zhao Wenkuan(赵文宽),He Fei(贺飞),Fang Youling(方佑龄). Progress in Chem￾istry(化学进展),1998,10:349 [22]Wang K H,Tsai H H,Hsieh Y H. Chemosphere. ,1998, 36:2763 [23]Linsebigler A L,Lu Guangquan,Yates Jr T. Chem. Rev. ,1995,95:735 [24]Jin Zhengsheng(金振声). 2000 National Conference on Photocatalysis(2000 全国光催化学术会议会议论文 集),Fu_hou(福州):2000. 4 [25]Fan Chong_heng(范崇政),biao Jiaoping(肖建平), Ding Yanwei(丁延伟). Chin. Sci. Bull.( 科学通报), 2001,46:265 [26]Pecchi G,Reyes P,Sanhue_a P,Villasenor J. Chemo￾sphere. ,2001,43:141 [27]Wei Zhidong(魏子栋),Yin Fei(殷菲),Tan Jun(谭 君),Tang W Z,Hou Wanguo(侯万国). Chem. Bull. (化学通报),2001,64:76 [28]Gao Wei(高伟),Wu Fengqing(吴凤清),Luo Zhen (罗臻),Fu Juxia(富菊霞),Wang Dejun(王德军), bu Baokun(徐宝琨). Chem. J. Chin. Univ.(高等学校 化学学报),2001,22:660 [29]Bilmes S A,Mandelbaum P,Alcare_ F,Victoria N M. J. Phys. Chem. B,2000,104:9851 [30]Da Zhiming(戴智铭),Zhu Zhongnan(朱中南),Gu Hongchen(古宏晨). Chemical Reaction Engineering and Technology(化学反应与工艺),2000,16:185 [31]Li Fengsheng(李凤生). Technology of Super Fine Pow￾der(超细粉体技术),Beijing(北京):National defence ‘ndustry Press(国防工业出版社),2000. [32]Tomkiewic_ M. Catal. Today,2000,58:115 [33]Li bueping(李学萍),Yi Feng(尹峰),biao burui(肖 绪 瑞 ). 2000 National Conference on Photocatalysis 第 5 期 韩世同等:半导体光催化研究进展与展望 347

348 物理学报 第16卷 (2000全国光催化学术会议论文集), Fuzhou(福州), try(感光科学与光化学),1998,16:182 2000.158 [52] Zhu hongfa(朱洪法). Preparation of Catalyst Support [34] Shang jing(尚静), Du yaoguo(杜尧国), Xu zili(徐 and Applied Techniques(催化剂载体制备及应用技 Ht) Techniques and Equipments for Environmental Pol- 术), Beijing(北京): Petroleum Industry Press(石油工 lution Control(环境污染治理技术与设备),2000,1: 业出版社),2002. [53] He fei(贺飞), Tang Huaijun(唐怀军), Zhao Wen- [35] Barbeni M, Morello M, Pramauro E,Pelizzetti E, Vin- kuan(赵文宽), Fang youling(方佑龄). Techniqu N. Chemosphere., 19 and equipment for Environmental Pollution Control(#KE 16:1165 污染治理技术与设备),2001,2:47 [36] Wang Chuanyi(王传义), Liu Chunyan(刘春艳),Shen[54] Sun r d, Akira n,anW, Toshiya W, Kazuhito h.J Tao(沈涛).Chem..Chin.Uni.(高等学校化学学 Photochem. PhotobioL. A: Chem., 2000, 136: 111 报),1998,19:2013 [55] Robert D, Piscopo A,Heintz0,Weber JV.Catal.To- [37] Chen H, An T C, Fang Y J. J Mol Catal.,1999, 147 [56] u Y, Zheng W, Liu W. J. Photochem. Photobiol. A [38]Kumar A, Jain A K.J.Mol Catal. A: Chemical,2001 165: [57] Grieken R, Aguado J, Lopez-Muoz M J, Marugan J. J. [39] Shi livi(施利毅), Li cunzhong(李春忠),Gu Photochem. PhotobioL. A: Chem., 2002, 148: 315 Hongchen(古宏晨), Fang Dinge(房鼎业).Chin..[58] Zhao Qingnan(赵青南), Yu jiaguo(余家国),Zhao Chem.Phys.(化学物理学报),2000,13:336 Jianxiu(赵建修), Fen Weiming(冯为民). China ce. [40] Liu ping(刘平), Zhou Tingyun(周廷云), Lin huan ramics(中国陶瓷), iang(林华香), Fu xianzhi(付贤智). Acta Physice [59] Fang youling(方佑龄), Zhao Wenkuan(赵文宽),Yi Chimica sinica.(物理化学学报),2001,17:265 Shaohua(尹少华), Dong Qinghua(董庆华), Sun yu [41]LiX Z, Li F B. Environ. Sci. Technol.,2001 bin(孙育斌).Chin.J.Ap.Chem.(应用化学),1997, [42]Fu X, Zeltner W A, Anderson M A. Appl.CataL. B:En- 14:81 iron.,1995,6:209 [60] Moazzem M, Gregory Hossain, Raupp B. Chem. Eng 43] Harade K, Hisanaga T, Tanaka K. Wat. Res,1990, 24 Sci.,1999,54:3027 [61] Fan Changchun(程沧沧), Hu dewen(胡德文),Zhao [44] Marta I L. Appl. Catal. B: Environ., 1999, 23: Limin(赵俐敏). Chongqing Environmental. Chemistry [45] Choi W Y, Termin A, Hoffmann M R. J. Phys. Chem (重庆环境化学),1998,20:28 3669 [62] Hu Chun(胡春), Wang Yizhong(王怡中). Acta scien [46] Fu Xianzhi(付贤智), Ding Zhengxin(丁正新),St tiae circumstantiae(环境科学学报),2001,21:123 Wenyue(苏文悦), Li lanzheng(李旦振).Chin.J.[63] Yang yang(杨阳), Chen Aiping(陈爱平),Cu atal.(催化学报),1999,20:321 Hongchen(古宏晨), Dai ziming(戴智铭),GuZh [47] Su Wenyue(苏文悦), Fu xianzhi(付贤智), Wei Ke grong(古政荣), Tao Yong(陶咏).Chin.J. Catal mei(魏可镁). Acta Physico- Chimica sinica.(物理化学 化学报),2001,22:177 学报),2001,17:28 [64] Italo M, Paolo P. Chem Eng. Sci., 1999, 54: 3107 [48] Fu xianzhi, Zeltner wa, Anderson a, Kamat p\,[65] Liu hong(刘鸿), Cheng shaoan(陈少安),Zhng Meisel D, Eds, Application Photocatalytic Purification of Jianqing(张鉴清), Cao chunan(曹楚南).Chin.Eni Air, Amsterdam: Elsevier Science B v, Vol 103, 1996 ron.Sci.(中国环境科学),1998,18:548 [66]藤山岛,桥本和仁.光触媒ε匹受⑦制造方法.日本 [49]K Vinodgopal, Kamat P V J. Environ. Sci. Technol 公开特许公报,平7171408,199507-11 [67]西方聪,西村智明,北野功污染物质除去用O光触媒 [50] Zheng yi(郑宜), Li danzhen(李旦振), Fu xianzhi 卜.日本:公开特许公报,平957096,199703404 (付贤智).Chem.,J. Chin. unit.(高等学校化学学报),[68] Durgakumari v, Subrahmanyan M, Subba K v, Ratnam 2001,22:44 la A, Noorjahan M, Keichi T. Appl. Catal. A: General [51] Wan Hanhui(王涵慧), Yu jiayong(俞稼镛),Iuo 2002,234:155 Nanyi( X). Photographic Science and Photochemis- [69] Shoji N, Yu H, Ishihara S I, Nagata M, lio K, Nagasawa

(2000 全国光催化学术会议论文集),Fuzhou(福州), 2000. 158 [34]Shang Jing(尚静),Du Yaoguo(杜尧国),Xu Zili(徐 自力). Techniques and Equipments for Environmental Pol￾lution Control(环境污染治理技术与设备),2000,1: 67 [35]Barbeni M,Morello M,Pramauro E,Pelizzetti E,Vin￾centi M,Borgarello E,Serpone N. Chemosphere. ,1987, 16:1165 [36]Wang Chuanyi(王传义),Liu Chunyan(刘春艳),Shen Tao(沈涛). Chem. J. Chin. Univ.( 高等学校化学学 报),1998,19:2013 [37]Chen H,An T C,Fang Y J. J. Mol. Catal. ,1999,147: 165 [38]Kumar A,Jain A K. J. Mol. Catal. A:Chemical. ,2001, 165:265 [39] Shi Liyi( 施 利 毅),Li Cunzhong( 李 春 忠),Gu Hongchen(古宏晨),Fang Dingye(房鼎业). Chin. J. Chem. Phys.(化学物理学报),2000,13:336 [40]Liu Ping(刘平),Zhou Tingyun(周廷云),Lin Huax￾iang(林华香),Fu Xianzhi(付贤智). Acta Physico - Chimica Sinica.(物理化学学报),2001,17:265 [41]Li X Z,Li F B. Environ. Sci. Technol. ,2001,35:2381 [42]Fu X,Zeltner W A,Anderson M A. Appl. Catal. B:En￾viron. ,1995,6:209 [43]Harade K,Hisanaga T,Tanaka K. Wat. Res. ,1990,24: 1415 [44]Marta I L. Appl. Catal. B:Environ. ,1999,23:89 [45]Choi W Y,Termin A,Hoffmann M R. J. Phys. Chem. , 1994,98:13669 [46]Fu Xianzhi(付贤智),Ding Zhengxin(丁正新),Su Wenyue(苏文悦),Li Danzheng(李旦振). Chin. J. Catal.(催化学报),1999,20:321 [47]Su Wenyue(苏文悦),Fu Xianzhi(付贤智),Wei Ke￾mei(魏可镁). Acta Physico-Chimica Sinica.(物理化学 学报),2001,17:28 [48]Fu Xianzhi,Zeltner W A,Anderson M A,Kamat P V, Meisel D,Eds. ,Application Photocatalytic Purification of Air,Amsterdam:Elsevier Science B V,Vol. 103,1996. 44 [49] K Vinodgopal,Kamat P V J. Environ. Sci. Technol, 1995,29:841 [50]Zheng Yi(郑宜),Li Danzheng(李旦振),Fu Xianzhi (付贤智). Chem. J. Chin. Univ.(高等学校化学学报), 2001,22:443 [51]Wan Hanhui( 王涵慧),Yu Jiayong( 俞稼镛),Luo Nanyi(罗南义). Photographic Science and Photochemis￾try(感光科学与光化学),1998,16:182 [52]Zhu Hongfa(朱洪法). Preparation of Catalyst Support and Applied Techniques( 催化剂载体制备及应用技 术),Beijing(北京):Petroleum Industry Press(石油工 业出版社),2002. [53]He Fei(贺飞),Tang Huaijun(唐怀军),Zhao Wen￾kuan(赵文宽),Fang Youling( 方佑龄). Techniques and Equipment for Environmental Pollution Control(环境 污染治理技术与设备),2001,2:47 [54]Sun R D,Akira N,Itaru W,Toshiya W,Kazuhito H. J. Photochem. Photobiol. A:Chem. ,2000,136:111 [55]Robert D,Piscopo A,Heintz O,Weber J V. Catal. To￾day,1999,54:291 [56]Xu Y,Zheng W,Liu W. J. Photochem. Photobiol. A: Chem. ,1999,122:57 [57]Grieken R,Aguado J,L_pez-Muoz M J,Marug‘n J. J. Photochem. Photobiol. A:Chem. ,2002,148:315 [58]Zhao aingnan(赵青南),Yu Jiaguo(余家国),Zhao Jianxiu(赵建修),Fen Weiming(冯为民). China Ce￾ramics(中国陶瓷),1999,35:16 [59]Fang Youling(方佑龄),Zhao Wenkuan(赵文宽),Yi Shaohua(尹少华),Dong ainghua(董庆华),Sun Yu￾bin(孙育斌). Chin. J. Appl. Chem.(应用化学),1997, 14:81 [60]Moazzem M,Gregory Hossain,Raupp B. Chem. Eng. Sci. ,1999,54:3027 [61]Fan Changchang(程沧沧),Hu Deben(胡德文),Zhao Limin( 赵 俐 敏). Chongqing Environmental. Chemistry (重庆环境化学),1998,20:28 [62]Hu Chun(胡春),Wang Yizhong(王怡中). Acta Scien￾tiae Circumstantiae(环境科学学报),2001,21:123 [63] Yang Yang( 杨 阳),Chen Aiping( 陈 爱 平),Gu Hongchen(古宏晨),Dai Ziming(戴智铭),Gu Zhen￾grong(古政荣),TaoYong(陶咏). Chin. J. Catal.(催 化学报),2001,22:177 [64]Italo M,Paolo P. Chem. Eng. Sci. ,1999,54:3107 [65]Liu Hong( 刘鸿),Cheng Shaoan( 陈少安),Zhang Jianqing(张鉴清),Cao Chunan(曹楚南). Chin. Envi￾ron. Sci.(中国环境科学),1998,18:548 [66]藤山岛,桥本和仁. 光触媒ぉょびその制造方法. 日本: 公开特许公报,平 7-171408,1995-07-11 [67]西方聪,西村智明,北野功. 污染物质除去用の光触媒 ツ!ト. 日本:公开特许公报,平 9-57096,1997-03-04 [68]Durgakumari V,Subrahmanyan M,Subba K V,Ratnama￾la A,Noorjahan M,Keichi T. Appl. Catal. A:General. , 2002,234:155 [69]Shoji N,Yu H,Ishihara S I,Nagata M,Iio K,Nagasaba 348 化 学 物 理 学 报 第 16 卷

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