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用恒电位和动电位极化法研究了表面粗糙度对非晶态NiCrFeSiB合金亚稳态小孔形核和生长的影响,粗糙表面显著促进亚稳态小孔的形核,在恒电位下,亚稳小孔的生长电流随时间的平方线性增长为I-I0=k(t-t0)2.生长速度参数k和亚稳态小孔的峰值电流都服从对数正态分布。在粗糙表面上亚稳态小孔的生长速度略高,且分布范围较大

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1. 络合掩蔽法 2. 氧化还原掩蔽法 3. 沉淀掩蔽法