6.1 电偶极辐射对反射和折射现象的解释 6.2 光的吸收 6.3 光的散射 6.4 光的色散 6.5 色散的经典理论

• 薄透镜焦距的测定 • 分光仪的调整及折射率的测定 • 等厚干涉现象的研究 • 用透射光栅测光波波长及角色散率 • 迈克尔逊干涉仪的调整及使用

《普通物理学》课程教学资源（PPT课件）第十二章 几何光学 12-7 光的衍射现象、惠更斯-菲涅耳原理

《普通物理学》课程教学资源（PPT课件）第五章 气体动理论 5-8 气体的输运现象

《电磁场与电磁波理论》课程PPT教学课件（讲稿）第2章 宏观电磁现象的基本规律

1.简介 2.比表面和比表面能 3.润湿和铺展 4.高分散度对物理性质的影响 5.溶液表面的吸附 6.表面活性剂 7.固～气表面上的吸附 8.液～气表面上的吸附 9.粉体

5.5.4两类超导体 5.5.6超导现象的物理本质 5.5.5同位素效应和电子—声子相互作用

一、物理吸附和化学吸附 吸附：气体分子（吸附质）自动地富集，停留在固体（吸附剂）表面的现象 机制：物理吸附，化学吸附，或两者兼有

①掌握表面 Gibbs自由能和表面张力的概念;了解影响表面张力的因素。 ②理解弯曲表面附加压力产生的原因:掌握附加压力与曲率半径的关系;能够利用 Laplace公式进行计算。 ③了解弯曲液面上的蒸气压的特点:能够正确使用Km公式并能够解释常见的表面现象

对于中规模、大规模和某些VLSI的IC，前面介绍的基本光刻工艺完全适用，然而 ，对于ULSI/VLSI IC 这些基本工艺已经明显力不能及。在亚微米工艺时代，某些光刻工艺在0.3µm以下明显显示出它的局限性。存在地问题主要包括：光学设备的物理局限；光刻胶分辨率的限制；晶园表面的反射现象和高低不平现象等