采用静态氧化增重实验及扫描电镜、能谱分析和X射线衍射分析等手段，研究了ODS-310合金在高温环境下的氧化行为，分析了氧化层的形貌、成分和物相，并对其高温氧化动力学曲线进行拟合.实验发现各个温度下的氧化动力学曲线均基本符合抛物线规律.在700℃和900℃氧化100 h以后，ODS-310合金均表现出优异的抗氧化性能.但是，当氧化温度为1100℃时，氧化层厚度明显增厚，而且氧化层有疏松和不连续的现象，不利于氧化层对基体的保护.氧化程度随着氧化温度的提高和氧化时间的延长而加剧.通过能谱和X射线衍射综合分析可知氧化层的物相为Cr2O3

以0.1 mol·L-1NaCl+0.01 mol·L-1 NaHSO3溶液为腐蚀介质，采用干/湿周浸加速腐蚀实验、腐蚀失重、X射线衍射、扫描电镜和能谱分析等方法，研究了湿热工业海洋大气中低碳钢的腐蚀行为.结果表明：实验钢的腐蚀过程均遵循幂函数d=Atn分布规律，钢种不同，常系数A、n的值不同；腐蚀产物主要由非晶物质和少量Fe3O4、α-FeOOH、β-FeOOH、γ-FeOOH晶体组成.所得锈层可分为主体锈层和界面疏松带两部分，由内至外锈层中Fe、O含量梯度变化很小.Cl-、SO2与水分的长期协同作用会导致内锈层结构变差，而添加稳定性或耐蚀性较高的元素可以改善锈层质量，进而增强钢材的耐腐蚀性能

第4章图层、线型及颜色 4.1图层、线型和颜色的概念 4.1.1图层 4.1.2线型 4.1.3颜色 4.2图层特性管理器

在常温下,采用固体颗粒层进行过滤除尘的实验研究,并对实验结果进行分析,探索了过滤介质粒径、过滤层厚度和过滤速度对除尘效率和床层压力差的影响.根据实验结果,确定了最佳的过滤介质粒径、过滤层厚度和过滤速度

层次分析法（AHP评价法） 层次分析法是一种定性与定量相结合的多目标决策分析方法，为分析相互关联, 相互制约的复杂问题提供了一种简单实用的分析方法. 通过分析复杂系统的有关要素及其相互关系，简化为有序的递阶层次结构，使这些要素归并为不同的层次，形成一个多层次的分析结构模型. 最终把系统分析归结为最低层(供决策的方案,措施等)相对于最高层(总目标)的相对重要性权值的确定问题. 模糊综合评价法 灰色关联分析法 （一）、灰色系统理论 （二）、灰色关联分析 （三）、案例应用

本文通过对合成镁白云石砂及其使用后炉衬的岩相（金监）定,论述了合成镁白云石制品的岩相特征。并指出在使用中反应层形成一以方镁石为主,以硅酸三钙为胶结相的方镁石密集层,是这种产品性能所以优良的主要根据。如果方镁石密集层与炉渣中的Fe2O2不断作用,则其体积大增,从而在反应层中就产生过大的应力,产生平行热面的应力裂纹,进而造成层状剥落,导致炉衬趋于损毁。文章还通过与日本产品的对比,找出差距

选用侧链含有双元光敏基团的梯形聚硅氧烷材料作为光取向材料,采用偏光显微镜(POM)及晶体旋转法,研究了梯形聚硅氧烷光取向层的制备条件,包括取向剂浓度、紫外光辐照度及光照时间对光取向层的取向行为的影响.结果表明,取向剂浓度越大,光敏基团更易于组装成垂直取向状态,进而诱导液晶分子形成垂直取向的分子排列方式.在一定的紫外光辐照度范围内可以有效地引起偶氮苯光敏基团的面内、面外异构化及再取向,有利于取向层诱导液晶分子形成平面取向的分子排列方式.紫外光光照时间的增加有利于取向层诱导液晶分子形成平面取向的分子排列方式

层次分析法（AHP）是美国运筹学家匹茨堡大学教授萨蒂(T.L.Saaty)于上世纪70年代初，为美国国防部研究“根据各个工业部门对国家福利的贡献大小而进行电力分配”课题时，应用网络系统理论和多目标综合评价方法，提出的一种层次权重决策分析方法。 引言 层次分析法原理 层次分析法模型举例

综放开采过程中顶煤和覆岩由连续向非连续和散体介质状态转变，描述矿压在断裂覆岩和碎裂顶煤中的形成、传递方式和作用机理是综放开采矿压理论研究的难点.基于光弹试验原理，借助散体介质双轴加载双向流动光弹试验装置，对综放开采过程中散体顶煤与非连续覆岩关键层中力链网络结构及演化特征进行研究.研究发现：地层载荷在煤岩体中构成了错综复杂的弱-强力链网络.综放开采打破了初始力链网络结构的平衡，顶煤与覆岩中形成梁-拱复合力链拱结构，覆岩荷载以强力链形式传递到工作面前方煤体.随着工作面推进和顶煤放出，覆岩梁-拱力链网络不断扩展和演化，形成更大规模的力链拱结构.关键层弯曲、断裂和失稳运动，使工作面前方的强力链拱脚出现回缩现象，力链分布密度和强度增加，导致工作面来压现象.地层内水平力作用使顶煤与覆岩内的梁-拱力链结构效应较更加明显，整体拱结构形态愈加完整，强力链网络结构更加紧致，关键层断裂失稳时力链拱对工作面煤层的作用力更加显著

用磁控溅射法制备了以NiFeCr和Ta分别为缓冲层的两种NiCo薄膜样品,在不同温度下对两种样品退火.结果表明:在NiCo厚度相同的情况下,以NiFeCr作为缓冲层的样品的各向异性磁致电阻(AMR)值明显高于Ta作为缓冲层的样品.X射线衍射(XRD)的结果表明,NiFeCr/NiCo薄膜的晶粒平均尺寸大于Ta/NiCo薄膜,且两种样品的磁膜/缓冲层界面存在较大差异,这可能是造成两者AMR差异的原因.此外,对样品进行温度适当的热处理可以明显改善薄膜的物理性质