为了研究煤自燃发火气体产物与煤分子官能团之间的内在联系，进一步揭示煤自燃发火过程的微观变化特性，利用程序升温实验装置和原位红外光谱分析实验系统，得出了气体产物生成量和活性官能团含量之间的关联性。结果表明：CO、C2H4等指标气体浓度伴随温度升高显示为抛物线模式增长；活性官能团中，随着温度的不断升高，脂肪烃含量先持续增大，之后开始逐渐下降，C=C双键含量不断下降，含氧官能团含量先趋于稳定后逐渐增加。根据指标气体浓度变化，获得了高温反应过程中的5个特征温度点，进一步将其分为临界温度阶段、干裂–活性–增速温度阶段、增速–燃点温度阶段和燃烧阶段4个阶段，并对三个高温氧化阶段进行关联性分析发现：在临界温度阶段，影响CO、CO2、CH4和C2H6气体释放的主要活性官能团是羰基；在干裂–活性–增速温度阶段烷基链和桥键发生大量断裂，影响气体产物的主要活性官能团是脂肪烃和羰基；在增速–燃点温度阶段气体浓度与羰基和羧基等官能团呈负相关。得出干裂–活性–增速温度阶段是高温氧化过程中的危险阶段，需在该阶段前对氧化反应进行控制，以减少人员和物质损失

在氩气气氛下,以粉煤灰为原料,石墨为还原剂,研究碳还原粉煤灰制备SiC/Al2O3系复合材料的反应过程,并探索其制备的工艺条件.利用X射线衍射分析还原产物的物相变化规律,使用扫描电镜和能谱仪观察复合材料的微观结构.结果表明：在1673 K粉煤灰中石英相与碳反应生碳化硅,1773 K莫来石相基本分解完全.随着反应温度的升高,生成碳化硅和氧化铝含量增加,较合适的温度条件为1773~1873 K;保温时间的延长,有利于碳化硅和氧化铝的生成,较好的保温时间为3~4 h;增加配碳量对碳化硅和氧化铝的生成有促进作用,较合适的C/Si摩尔比为4~5.在制备出的SiC/Al2O3复合材料中碳化硅在产物中分散较为均匀,并且粒度小于20μm

氧化还原滴定法是以氧化还原反应为基础的滴定分析 法。其反应比较复杂,往往伴随着副反应、诱导反应等, 其反应受到很多反应条件的影响。所以符合滴定分析的反 应不多,所以在滴定过程中要严格控制反应的条件(酸度 、温度、催化剂等)

通过化学气相沉积法制备三维(3D)泡沫石墨烯(GF),然后利用水热合成法在泡沫石墨烯表面生长氧化锌纳米线阵列(ZnO NWAs),再利用化学气相沉积法在其表面沉积碳(C),得到碳/氧化锌纳米线阵列/泡沫石墨烯(C/ZnO NWAs/GF)复合材料.用该复合材料做电极,采用电化学方法检测叶酸(FA).结果表明,三维泡沫石墨烯具有和模板泡沫镍一样的三维孔状结构,ZnO NWAs均匀且垂直地生长在泡沫石墨烯表面,碳沉积在ZnO NWAs表面.在线性范围为0~60 μmol·L-1内,C/ZnO NWAs/GF电极检测FA时,灵敏度为0.13 μA·μmol-1·L,且在尿酸(UA)干扰下检测FA具有良好的选择性.C/ZnONWAs/GF电极有良好的稳定性和重复性

研究了采用EF+VOD+IC工艺流程生产TP347H不锈钢时由于精炼渣成分产生的二次氧化及其氧化夹杂物的变性处理过程.试验中VOD精炼过程中采用Al进行终脱氧,降低精炼渣中FeO、SiO2含量,精炼渣四元碱度控制在1.3以上,保证钢中全氧质量分数小于0.003%.脱氧后使用喂Ca-Si线及钢包软吹的精炼手段,可将硬质Al2O3及MgAl2O4转变为CaO-Al2O3夹杂,减少硬质MgAl2O4夹杂总量并使夹杂物熔点低于1500℃.此类夹杂在炼钢温度下呈液态且更易于聚集与上浮,而在后续轧制、锻造过程中低熔点夹杂随基体发生形变,减少钢材裂纹的产生

尽管大多数生产商能够定做几乎任何色调的假发,但如 果你能够为他们提供这项服务,尤其是在他们想要的颜色无 法找到的情况下,就显得格外有意义。合成纤维的假发套和 假发块上不应使用颜色,因为它们的纤维没有多孔性,所以 颜色无法覆盖到发茎上或渗透进去。 真人发假发套和假发块可以用暂时性洗染剂、半永久性 染发剂、填充色或低色度(深色)氧化染发剂进行染发。但 不应使用有漂浅作用的氧化染发剂和漂浅剂。因为用于制造 假发的真人发已经经过化学处理,所以我们无法准确预测漂 浅剂或可漂浅的氧化染发剂所产生的效果

一、有氧氧化的三个阶段G2丙酮酸(同酵解) 2丙酮酸 2乙酰辅酶A 2乙酰辅酶ATCA循环 在有氧时,丙酮酸可进入线粒体内氧化脱羧,生成乙酰辅酶A再 进入三羧酸循环:

采用产氨菌种Providencia JAT-1,对云南某矿高碱性氧化铜矿进行氨浸体系下的摇瓶浸出试验.结果显示温度、矿浆液固质量比、助浸剂种类、助浸剂浓度以及细菌初始接种浓度对铜浸出率具有显著影响.在温度为30℃、矿浆液固质量比7:1、助浸剂硫酸铵浓度0.024 mol·L-1以及细菌初始接种浓度20%的条件下,产氨细菌浸出碱性氧化铜矿144 h后铜浸出率可达42.35%.通过对浸渣铜物相分析发现矿石中次生硫化铜浸出率最高

氧化沟工艺 氧化沟( oxidation ditch)又称循环曝气池,是一种改良的活性污泥法,其曝气池呈 封闭的渠形,污水和活性污泥混合液在其中循环流动。氧化沟的水力停留时间和污泥龄较 长,有机负荷很低[0.050.15/(·d],实质上相当于延时曝气活性污泥 系统

1．学习电极电势与氧化还原反应的关系； 2．学习浓度、介质的酸碱性对氧化还原反应的影响； 2．学习电化学腐蚀及其防止方法