本章重点： 离子注入工艺机理、注入方法； 核、电子阻止，杂质分布函数、特点； 注入损伤：原因、种类、主要影响因素； 退火：机理、方法； 离子注入和热扩散比较； 6.1 概述 6.2 离子注入原理 6.3 注入离子在靶中的分布 6.4 注入损伤 6.5 退火 6.6 离子注入设备与工艺 6.7 离子注入的其它应用

本章将讨论多媒体应用系统的特点 、常用的开发工具和多媒体应用系统的 创作,并通过一个完整的电子相册的制 作示例,介绍多媒体创作工具 Authorware的特点和功能,以及如何完 成一个多媒体应用系统的开发

5.1 典型半导体材料晶体结构类型 5.2 半导体材料晶体结构与性能 5.3 电子材料中其他几种典型晶体结构 5.4 固溶体晶体结构 5.5 液晶的结构及特征 5.6 纳米晶体的结构及特征

1. 周期性破缺问题 缺陷（点缺陷、表面和界面） 2. 定性描写——周期性破缺体系电子态特征 束缚态(bound states)？ 共振态(resonances)？ 3. 定量描写——微扰（格林函数）方法 4. 模型方法

采用离子注入和高压电镜原位观察的方法,研究了氢对国产ODS铁素体钢辐照性能的影响.结果表明:室温注氢前后ODS铁素体钢的微观结构无明显变化;将其加热到500℃并电子辐照,未观察到辐照空洞,注氢与未注氢ODS铁素体钢室温电子辐照的结果表明:氢对点缺陷的迁移和聚集起着十分重要的作用

——以氧化还原反应为基础的滴定分析法 本质：电子转移 包括：高锰酸钾法 、重铬酸钾法 、碘量法。 滴定三原则：定量、快速、易确定终点 与前不同的是：涉及到电子转移、结构变 化

一、目的要求： 1．说出苷的含义和结构特点、结构分类。 2．简述苷类的一般理化性状。 3．详述苷的水解作用及其水解前后结构、性质的变化规律

1．熟悉镧系元素的电子结构、名称，镧系收缩概念及其产生的原因和影响； 2．了解镧系元素的存在，制备及用途； 3．重点掌握镧系元素氧化物，氢氧化物的性质； 4．了解镧系元素的分离方法，特别注意溶剂萃取法及离子交换法的原理； 5. 简单了解锕系元素电子结构、名称及与镧系元素的相似性。 16.1 镧系元素 Lanthanides 16.2 锕系元素简介 Introduction of actinides

教学要求： 1．熟悉镧系元素的电子结构、名称，镧系收缩概念及其产生的原因和影响； 2．了解镧系元素的存在，制备及用途； 3．重点掌握镧系元素氧化物，氢氧化物的性质； 4．了解镧系元素的分离方法，特别注意溶剂萃取法及离子交换法的原理； 5. 简单了解锕系元素电子结构、名称及与镧系元素的相似性。 18.1 镧系元素 Lanthanides 18.1.1 基本性质概述 Generality of basic properties 18.1.2 重要化合物 Important compounds 18.1.3 镧系元素的相互分离 Interseparation lanthanides 18.1.4 存在、提取和应用 Occurrence, abstraction and applications 18.2 锕系元素简介 Introduction of actinides

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