6.1 基本概念 The primary concept of redox reaction 6.2 氧化还原反应方程式的配平 Balancing redox reaction equation 6.3 水溶液中氧化还原反应的自发性—电极 电势Spontaneity of redox reaction in aqueous solution — electrode potential 6.4 影响氧化还原反应的动力学因素 Influence of dynamic factors on redox 6.5 应用电化学简介 Introduction to application electrochemistry

本文研究了锰矿直接合金化过程中锰氧化物与钢液间的作用。碱度和钢中含硅量是影响还原反应的主要热力学因素,无论是FeSi还是SiC作还原剂,锰的还原速度均处于10-5mol Mn/s·cm2数量级。但SiC的溶入速度对还原过程有影响,反应5~15min基本趋于稳定,SiC作还原剂时,还原反应的表观反应级数开始为1,而后有所升高

1.1 单片机简介 1.2 单片机的发展历史 1.3 单片机的特点 1.4 单片机的应用 1.5 单片机的发展趋势 1.6 MCS-51系列与AT89S5x系列单片机 1.6.1 MCS-51系列单片机 1.6.2 AT89S5x系列单片机简介 1.7 各种衍生品种的8051单片机 1.7.1 STC系列单片机 1.7.2 C8051F×××单片机 1.7.3 ADµC812单片机11 1.7.4 华邦W77系列、W78系列单片机 1.8 PIC系列单片机与AVR系列单片机 1.8.1 PIC系列单片机 1.8.2 AVR系列单片机 1.9 其他的嵌入式处理器简介 1.9.1 嵌入式DSP处理器 1.9.2 嵌入式微处理器

《毕业设计》课程教学大纲 《单片机原理及应用》课程教学大纲 《单片机原理及应用课程设计》课程教学大纲 《辐射测温学》课程教学大纲 《光电测试技术》课程教学大纲 《光电仪器设计》课程教学大纲 《光机电一体化设计与设备》课程教学大纲 《光谱技术与仪器》课程教学大纲 《光纤通讯技术》课程教学大纲 《光学加工与检测技术》课程教学大纲 《光学系统设计》课程教学大纲 《红外与微光技术》课程教学大纲 《激光原理与技术》课程教学大纲 《精密测控电路与驱动技术》课程教学大纲 《企业专家讲座》课程教学大纲 《生产实习》课程教学大纲 《视觉检测技术》（双语）课程教学大纲 《数字图像处理》课程教学大纲 《数字信号处理》（双语）课程教学大纲 《微光机电系统概论》（双语）课程教学大纲 《物理光学》课程教学大纲 《误差理论与不确定度分析》课程教学大纲 《显示技术》课程教学大纲 《信号与系统Ⅱ》课程教学大纲 《信息光学》课程教学大纲 《应用光学》课程教学大纲 《专业导论课》课程教学大纲 《专业综合实践》课程教学大纲

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