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工艺条件对电积法制备铜粉的影响
文档格式:PDF 文档大小:875.25KB 文档页数:6
采用不溶阳极电积法制备铜粉,研究了Cu2+质量浓度、硫酸质量浓度、电流密度、电解液温度和刮粉周期对电积过程和铜粉中位粒径的影响.结果表明:优化工艺为Cu2+质量浓度15 g·L-1、硫酸质量浓度140 g·L-1条件下,控制电流密度为1 800 A·m-2、温度为35℃、刮粉周期为30min、循环流量为14 L·h-1以及极距为4.5 cm,可得到高品质的铜粉,其粒度呈正态分布,微观形貌呈树枝状;增加铜离子质量浓度、硫酸质量浓度和电解液温度有利于降低槽电压;增加Cu2+质量浓度、电解液温度和刮粉周期有利于提高电流效率;大电流密度、高硫酸质量浓度和低Cu2+质量浓度有利于得到粉末粒度小的铜粉
电沉积因瓦合金镀层成分的影响因素
文档格式:PDF 文档大小:789.54KB 文档页数:5
采用电沉积方法在硫酸盐体系中制得了Fe-Ni合金镀层.研究了Fe2+与Ni2+的摩尔比、氯化亚铈浓度、抗坏血酸浓度、镀液温度、pH、阴极电流密度和电沉积时间对镀层铁含量的影响规律,确定了适宜电沉积因瓦合金的最佳工艺条件,并采用EDS,XRD和TEM对所得镀层进行了分析.验证性实验结果表明,制备的镀层具有与因瓦合金相似的成分,其Fe和Ni质量分数分别为61.8%~62.1%和37.9%~38.1%,它是由单一的纳米晶γ固溶体组成
电子技术:《模拟电路与数字电路》课程电子教案(PPT课件讲稿,数字电路)第二章 门电路
文档格式:PPT 文档大小:753KB 文档页数:60
第二章门电路 2.1概述 2.2分离元件门电路 2.3TTL与非门 2.4其它类型的TTL门电路 2.5MOS门电路
《电子技术》课程习题解答(模拟电子技术)第四章 集成运算放大电路
文档格式:PDF 文档大小:291.03KB 文档页数:15
一、选 择合适答 案填入空 内 。 ( 1) 集 成运放电 路采用直 接耦合方 式是因为 。 A.可获 得很大的 放大倍数 B. 可 使温漂小 C. 集 成 工艺难于 制造大容 量电容
脉冲电场对取向硅钢磁性能及织构的影响
文档格式:PDF 文档大小:545.63KB 文档页数:5
采用硅钢自动测量装置及X射线衍射仪检测出样品在实验前后的磁性能参数和织构强度.结果表明:较低的电压、9 Hz、较长的处理时间以及退火温度为650℃有利于增高铁损降低比例;较低的电压、较高的频率以及退火温度为650℃有利于增加磁感应强度增高比例.最佳的提高磁性能的实验参数是:频率为9 Hz,电压为500 V,处理时间为6 min,退火温度为650℃.通过织构分析可以验证:取向硅钢磁感应强度的变化取决于{110}晶粒取向度值,而{110}取向度值可看成是一个反映总体平均偏离角大小情况的综合值
高职高专计算机系列教材:《Protel 99 SE原理图与PCB设计教程》课程教学资源(PPT课件讲稿)第13章 PCB元件库
文档格式:PPT 文档大小:1.57MB 文档页数:69
在SCH元件编辑器中修改二极管引脚编号: F:\\及力\\protel\\电子社教材教案\\电子社 电子社教材ddb Documents ch113_3ti ch13_3ti... Schlib1. Lib
辽宁石油化工大学:《模拟电子技术基础》课程教学资源(PPT课件讲稿,童诗白第三版)第五章 放大电路的频率响应
文档格式:PPT 文档大小:1.31MB 文档页数:59
5.1 频率响应概述 5.2 晶体管的高频等效模型 5.4 单管放大电路的频率响应 5.5 多级放大电路的频率响应 5.3 场效应管的高频等效模型 5.6 集成运放的频率响应和频率补偿
《电力电子装置设计与应用》单相C型变压器计算
文档格式:PPT 文档大小:63KB 文档页数:7
C型变压器是采用晶粒取向冷轧硅钢带卷绕而 成的一种变压器。具有材料利用率高、电磁性能好、 工装简单、体积小、重量轻和效率高等优点
《电子测量技术》PPT电子课件(共八章)
文档格式:PPT 文档大小:254.5KB 文档页数:51
第1章绪论 学习辅导内容 学习和掌握基本概念和基础知识对学习以后各章的内容均有促进和提高的作用,尤其是一些专用名词要深刻理解对理论学习、实验操作是必不可少的、十分重要的。 一I、本章需要掌握的内容(基础知识)测量与计量的基本概念测量的定义11个专用名词电子测量的内容、特点与方法
广东海洋大学:《无机及分析化学》第十章 氧化还原平衡及氧化还原滴定法(李先文)
文档格式:PPT 文档大小:2.31MB 文档页数:138
一、基本概念 1、氧化数 1970年IUPAC定义:氧化数是某元素 一个原子的荷电数,这种荷电数是把成 键电子指定给电负性较大的原子而求得
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