4.理想气体的温度() (A)与分子的平均动能成正比; (B)与气体的内能成正比; (C)与分子的平均平动动能成正比; (D)与分子的平均速度成正比

underground['^ n d agr a u n d]a.地下的 via['vaia]prep.经过,通过 keyboard[ki:b:d]n.键盘 visual[' vi zj ual]a.视觉的,光学的 originate[a' r i si ne i tJv.发生,开始 originating call发端呼叫

• 8.1 表面自由能和表面张力 • 8.2 纯液体的表面现象 • 8.3 气体在固体表面的吸附 • 8.4 溶液的表面吸附 • 8.5 表面活性剂及其作用 • 8.6 分散系统的分类 • 8.7 溶胶的光学及力学性质 • 8.8 溶胶的电性性质 • 8.9 溶胶的聚沉和凝聚 • 8.10溶胶的制备与净化

2.1紫外-可见吸收光谱 (UV-Vis Absorption Spectroscopy) 2.2 Lambert-Beer定律 (Lambert-Beer's Law) 2.3紫外-可见分光光度计 (UV-Vis Spectrophotometer) 2.4分析条件的选择 (Optimization of Analytical Conditions) 2.5紫外-可见分光光度法的应用 (Applications of UV-Vis Spectrophotometry)

第一章半导体材料导电型号、电阻率、少数载流子寿命的测量 第二章化学腐蚀一光学方法检测晶体缺陷和晶向 第三章霍尔系数、迁移率和杂质补偿度的测量 第四章外延片的物理测试 第五章红外吸收光谱在半导体测试技术中的应用 第六章扫描电子显微镜及其在半导体测试技术中的应用 第七章透射电子显微镜晶体缺陷分析 第八章Ⅹ射线在半导体测试技术中的应用 第九章结电容和CV测试技术 第十章半导体中痕量杂质分析

1.掌握立体异构、光学异构、对称因素(主要指对称面、对称中心)手性碳原子、手性分子、对映体、非对映体、外消旋体、内消旋体等基本概念。 2.掌握书写费歇尔投影式的方法。 3.掌握构型的D、L和R、S标记法。 4.掌握判断分子手性的方法

1.掌握立体异构、光学异构、对称因素(主要指对称面、对称中心)、手性碳原子、手性分子、对映体、非对映体、外消旋体、内消旋体等基本概念。 2.掌握书写费歇尔投影式的方法。 3.掌握构型的D、L和R、S标记法。 4.掌握判断分子手性的方法。 5.初步掌握亲电加成反应的立体化学

采用X射线衍射、光学显微镜、扫描电镜和电子探针微区分析等方法,研究金川镍闪速熔炼水淬渣的主要物相组成和有价金属铜、镍在炉渣中的存在形式.结果表明,水淬渣的主要结晶物相为铁镁橄榄石,结晶相之间由玻璃相填充,细小的铜镍铁硫化物以星散状分布于炉渣中.有价金属铜、镍主要以硫化物形态存在于炉渣中,还有部分存在于铁镁橄榄石相中

研制了一种具有相当遮盖力和白度的新型分相乳浊釉,其主要成分为SiO2、B2O3、Al2O3、CaO、MgO、ZnO、K2O和Na2O.通过电子显微镜观察,证实这种釉是分相乳浊釉.引用玻璃分相理论进行分析,探讨其产生分相现象的原因和其光学乳浊原理

针对高炉布料过程操作者无法直接观察炉内料流轨迹、料面形状等信息,利用光学原理,提出极坐标激光栅格测试技术,对料面进行标定测量.引入模式识别中的双目视觉技术进行轨迹检测,对布料轨迹图像采用边缘分析算子,优化算子阈值,获得布料过程中料流信息,重现料流轨迹的动态图像,为高炉布料模型提供数据支撑