第一节 概述 第二节 加氢脱氢反应规律 第三节 甲醇生产工艺 第四节 苯乙烯生产工艺 第五节 丁二烯生产工艺

光刻的目的和意义第四章已做过简单的描 述,这一章主要介绍基本光刻工艺中的表面准 备至曝光的工艺步骤及光刻胶的特性

1 概述 2 积层多层板用材料 3 积层多层板的关键工艺 4 积层多层板盲孔的制造技术 5 积层多层板工艺制程的实例分析

2.2塑料的工艺性能 一、热塑性塑料的工艺性能 1.收缩性 塑件从塑模中取出冷却到室温后,塑件的各部分尺寸都比原来在塑模中的尺寸有所缩小,这种性能称为收缩性。 成型收缩的形式: (1)塑件的线尺寸收缩 (2)收缩方向性 (3)后收缩 (4)后处理收缩

在20钢基材上,利用双层辉光离子渗金属技术进行Ni-Cr-Mo-Cu多元共渗正交实验工艺研究.结果表明,工艺参数对渗层的元素总含量以及渗层的厚度有较大的影响,并确定了最佳工艺参数为源极电压1050V,工件电压250V,气压35Pa,极间距15mm

随着现代人们生活水平的提高,空调系统的运用越来越广泛。为了进一步降 低空调系统的生产成本,有关人员在工艺方面进行了改进和优化设计,建立模型, 确定主要工艺参数与系统传热传质之间的关系,得到了局部条件下的最优解。不 管是从工艺上还是从设备上,任何改进和优化的目的都是想得到相应条件下的最 优解。但是,参数的改变不仅影响到工艺的改变,还影响到设备的投资和运行性 能的变化

食品工厂设计是食品工程专业的专业课,本大纲根据食品工程专业的教学特点,按照教 学计划,并参考兄弟院校食品工程专业的食品工厂设计教学大纲、结合本校实际编写而成。 本课程的教学目的,是要求学生运用《食品工程原理》、《食品工艺学》、《食品工厂机械与设 备》等知识,掌握工厂设计的原理,工艺设计,工厂设计中工艺人员与其他各专业设计人员 之间的分工及配合;物料衡算、水、电、汽冷、热的衡算,生产工艺设备的选型和技术经 济的设计计算方法

在传统氧化工艺的基础上,结合低温湿氧二次氧化退火制作4H-SiCMOS电容.通过I-V测试,结合Fowler-Nordheim(F-N)隧道电流模型分析了氧化膜质量;使用Terman法计算了SiO2/SiC界面态密度;通过XPS测试对采取不同工艺的器件界面结构进行了对比.在该工艺下获得的氧化膜击穿场强为10MV·cm-1,SiC/SiO2势垒高度2.46eV,同时SiO2/SiC的界面性能明显改善,界面态密度达到了1011eV-1·cm-2量级,已经达到了制作器件的可靠性要求

第一个问题:控制什么? 答:控工艺要求的指标 具体分为两种情况: 1.工艺要求的指标可以直接在线测量直接控制这个指标就可以了(直接指标控制) 2.工艺要求的指标不可以直接在线测量寻找一个于工艺指标有明显的对于关系,且可以测量的另一个间接指标

7.1 化学热处理、薄膜复合工艺 7.2 镀覆与其它表面技术复合工艺 7.3 热喷涂与其它表面技术的复合工艺 7.4 多层薄膜复合工艺