5.1 金属-氧化物-半导体(MOS)场效应管 5.2 MOSFET放大电路 5.3 结型场效应管(JFET) *5.4 砷化镓金属-半导体场效应管 5.5 各种放大器件电路性能比较

4.1 金属-氧化物-半导体（MOS）场效应三极管 4.2 MOSFET基本共源极放大电路 4.3 图解分析法 4.4 小信号模型分析法 4.5 共漏极和共栅极放大电路 4.6 集成电路单级MOSFET放大电路 4.7 多级放大电路 4.8 结型场效应管（JFET）及其放大电路 *4.9 砷化镓金属-半导体场效应管 4.10 各种FET的特性及使用注意事项

§10.1 分解电压 §10.3 电解时电极上的竞争反应 §10.2 极化作用 §10.4 金属的电化学腐蚀、防腐与金属的钝化 §10.5 化学电源 *§10.5 电有机合成简介

实验 水中重金属的污染评价 实验 土壤对铜的吸附 实验 有机物的正辛醇-水分配系数 实验五 水体富营养化程度的评价

一、对金属切削机床的基本要求 1. 机床的性能方面 （1）工艺范围

5.1 金属-氧化物-半导体（MOS）场效应管 5.3 结型场效应管（JFET） *5.4 砷化镓金属-半导体场效应管 5.5 各种放大器件电路性能比较 5.2 MOSFET放大电路

(1)了解原电池的组成、半反应式以及电极电势的概念。能用能斯特方程计算电极电势和原电池电动势。 (2) 熟悉浓度对电极电势的影响以及电极电势的应用：能比较氧化剂还原剂的相对强弱，判断氧化还原反应进行的方向和程度。 (3)了解电解池中电解产物一般规律，明确电化学腐蚀及其防止的原理。 4.1 原电池 4.2 电极电势 4.3 电极电势在化学上的应用 4.4 化学电源 4.5 电解 4.6 金属的腐蚀与防止

一、对金属切削机床的基本要求 1. 机床的性能方面 （1）工艺范围 是指机床适应不同加工要求的能力

1. 激光的概述 2. 激光器的分类 3. 激光的传导方式 4. 金属激光切割加工 5. 激光内雕机加工 6. 非金属激光雕刻与切割 7. 激光在各领域的应用

过渡元素的一般定义及其分类 d轨道的特征和过渡元素的价电子结构 Ⅰ 第一过渡系的元素的化学 单质和化合物制备 自由能－温度图 元素氧化态及物种的特征和分布 自由能－氧化态图 元素的化学及其d电子构型分类 电势－pH图 Ⅱ 重过渡元素的化学 特点 存在与制备 金属的性质和用途 主要氧化态及其简单化合物 配合物 铂系金属 特点 配合物 应用