Auto CAD是应当今信息技术的快速发展和用户的需要而开发的面向21世纪 的CAD软件包,它在运行速度、图形处理等方面都达到了崭新的水平。目前大多 数高校都开设这门课程。如何在较短的时间内让学生掌握 Auto CAD的各种操作 命令,并做到灵活运用,是提高教学质量的关健所在。经过多年的教学实践,编 者深深体会到教学质量的提高很大程度上取决于学生上机训练的内容,一本好的 上机指导书可以帮助学生对所学知识的进一步理解,加深认识,同时使学生在上 机时目的明确,提高上机效率
对于中规模、大规模和某些VLSI的IC,前面介绍的基本光刻工艺完全适用,然而 ,对于ULSI/VLSI IC 这些基本工艺已经明显力不能及。在亚微米工艺时代,某些光刻工艺在0.3µm以下明显显示出它的局限性。存在地问题主要包括:光学设备的物理局限;光刻胶分辨率的限制;晶园表面的反射现象和高低不平现象等