太通冠 A AOTONG U 电子信息材料 材料与文明第三小组
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目录 1.有机光储存材料 2.有机电储存材料
目录 1.有机光储存材料 2.有机电储存材料
有机光储存材料 1.有机光储存材料的历史 2.有机光储存材料的现状 3.有机光储存材料的应用展望
有机光储存材料 1.有机光储存材料的历史 2.有机光储存材料的现状 3.有机光储存材料的应用展望
1.有机光储存材料的历史 储存材料的发展进程 具体进程：胶片缩微技术（40年代)→磁存储(60年代)→“光盘” 存储技术→有机光储存材料 有机光储存材料的产生原因 无机材料长时间曝晒在空气中易氧化变质，并且制作成本较高； 有机储存材料具备以下优点： (1)记录密度高，毒性小 (2)导热性差，噪声干扰小，信噪比大 (3)具有较低熔点及软化温度，记录灵敏度较高 (4)可用甩胶法涂布，成本较低 (5)材料的光学，热学性质可以通过改变分子的结构来进行调整
1.有机光储存材料的历史 储存材料的发展进程 具体进程：胶片缩微技术（40年代）→ 磁存储（60年代） → “光盘” 存储技术 → 有机光储存材料 有机光储存材料的产生原因 无机材料长时间曝晒在空气中易氧化变质，并且制作成本较高； 有机储存材料具备以下优点： （1）记录密度高，毒性小 （2）导热性差，噪声干扰小，信噪比大 （3）具有较低熔点及软化温度，记录灵敏度较高 （4）可用甩胶法涂布，成本较低 （5）材料的光学，热学性质可以通过改变分子的结构来进行调整
2.有机光储存材料的现状 几种主要的有机光储存材料 ①菁染料类 GL-OB.C Me CH-CH时H CH(CH. C--CH-ci-CII- 12 clo (41 N:3 g OH O OH (6 R+Me.Fr n-10m2 Y-1°.C0z X-0.NE S.S.T. 光盘中应可的几种菁染料结构
2.有机光储存材料的现状 几种主要的有机光储存材料 ①菁染料类
2.有机光储存材料的现状 几种主要的有机光储存材料 ②酞菁类染料 MFAI·丁I 的 光盘记录活酞青衣抖
2.有机光储存材料的现状 几种主要的有机光储存材料 ②酞菁类染料
2.有机光储存材料的现状 几种主要的有机光储存材料 H:N O R=Et·nbw ③醌类染料 NEt ④双硫酚镍络合物 n0,-】R=atyl.hH 光盘记录介所醌型染科及硫酚镍络台物
2.有机光储存材料的现状 几种主要的有机光储存材料 ③醌类染料 ④双硫酚镍络合物
2.有机光储存材料的现状 几种主要的有机光储存材料 ①菁染料类 GL-OB.C Me CH-CH时H CH(CH. C--CH-ci-CII- 12 clo (41 N:3 g OH O OH (6 R+Me.Fr n-10m2 Y-1°.C0z X-0.NE S.S.T. 光盘中应可的几种菁染料结构
2.有机光储存材料的现状 几种主要的有机光储存材料 ①菁染料类
3.有机光储存材料的应用展望 光化学光谱烧孔研究 光谱烧孔是激光与物质反应产生的一种非线性光学效应。 光化学光谱烧孔是指光反应性分子以分子状态分散在固体基质后 在可调谐激光诱导下发生选位光化学反应生成的多重度永久性光谱孔。 光化学光谱烧孔一个最引人注目的应用是超高密度领域光学储存，这 是激光诱导的选位光化学在材料和信息领域的直接应用。 目前的光储存技术，无论是磁光光盘，还是相变型光盘，其储存 密度的上限都不超过10^8bit/cmA2,这相当于1bit所占空间大约含 有10八4个分子。随着激光技术的发展，利用光谱烧孔技术，可在通 常记录1bt信息的光斑内，在保持原空间域的基础上，由于增加了一 个频率锥，从而大大提高了光信息储存信息量，其储存密度可达 10^11~10^12bit/cmA2。这就是具有诱人前景的超高密度领域光 学储存。 Company Logo
3.有机光储存材料的应用展望 光化学光谱烧孔研究 光谱烧孔是激光与物质反应产生的一种非线性光学效应。 光化学光谱烧孔是指光反应性分子以分子状态分散在固体基质后， 在可调谐激光诱导下发生选位光化学反应生成的多重度永久性光谱孔。 光化学光谱烧孔一个最引人注目的应用是超高密度领域光学储存，这 是激光诱导的选位光化学在材料和信息领域的直接应用。 目前的光储存技术，无论是磁光光盘，还是相变型光盘，其储存 密度的上限都不超过10^8bit/cm^2，这相当于1bit所占空间大约含 有10^4个分子。随着激光技术的发展，利用光谱烧孔技术，可在通 常记录1bit信息的光斑内，在保持原空间域的基础上，由于增加了一 个频率锥，从而大大提高了光信息储存信息量，其储存密度可达 10^11~10^12bit/cm^2。这就是具有诱人前景的超高密度领域光 学储存。 Company Logo
目录 1.有机光储存材料 2.有机电储存材料
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