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13.1氧化剂 13.2高级氧化 13.3高锰酸钾及其复合盐的氧化 13.4其它氧化方法
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以六氯苯为例,用超声波辐射及与其它高级氧化技术(AOPs)相结合来降解持久性有机污染物(POPs).结果表明,当超声波辐射与紫外线辐射结合时,六氯苯的降解率与单一超声波辐射降解率几乎相同,分别为39.7%和40.0%;而当超声波辐射与光催化相结合时,由于所添加的TiO2颗粒促进了空穴的形成,降解率可提高到49.4%;当表面活性剂的质量分数提高到0.1%时,降解率可提高到49.2%;当用双频超声波辐射时,六氯苯的降解率高于任一单频超声波辐射.经过1 h超声波辐射,20/176 kHz双频、20 kHz单频和176单频条件下,六氯苯降解率分别为57.5%,3.67%和41.0%
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第一节 红茶制造中主要酶类活性变化及作用 第二节 多酚类物质与红茶品质形成 一、多酚类物质在红茶制造中的变化 1)茶黄素形成;2)茶红素形成 3)茶褐素的形成;4)其他酚类物质的转化 二、多酚类物质的变化与红茶品质的关系 1)未被氧化的多酚类物质; 2) 水溶性氧化产物; 3)水不溶性氧化产物 三、影响茶色素形成的因素 1)加工工艺;2)加工工艺条件; 3)酶技术;4)鲜叶中儿茶素组成比例 第三节 芳香物质在红茶制造过程中的转化 一、红茶香气特征 二、红茶香气的形成 1.高级脂肪酸转化成醇、醛 2.醇类的氧化 3.由醇、酸衍生的芳香物质 4.醇、酸的酯化 6.胡萝卜素降解形成芳香物质 7.氨基酸的降解 8.糖苷的水解 9.芳香物质的异构化 10.热效应形成香气 第四节 红茶制造中糖类物质和含氮化合物的变化 一、糖类物质在红茶制造中的变化 1、多糖类在红茶制造中的变化 2、可溶性糖在红茶制造中的变化 二、蛋白质、氨基酸在红茶制造中的变化 三、叶绿素在红茶制造中的变化 第一节 绿茶制造中酶的热变性 一、酶的热变性 二、酶的热变性与绿茶品质的关系
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为更好地处理难降解的高浓度有机废水,研究了在间歇式超临界水反应装置内,超临界水氧化技术处理吐氏酸生产废水的最佳条件及其处理效果.通过单因素试验和正交试验,系统地研究了不同条件下废水COD和色度的去除率.当温度为380℃、压力为24 MPa、时间为150 s以及过氧比为1.8倍时,COD去除率可达96.7%,色度去除率可达97.5%,且反应后废水的可生化性有极大改善
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水中抗生素具有成分复杂、毒性高和难于生物降解等特点,成为近些年水处理领域的研究热点。均相Fenton氧化技术(Fe2+/H2O2体系)因其反应快速、简单高效而备受青睐。而异相类Fenton氧化技术采用铁基固体催化剂代替液相Fe2+,能够有效减少含铁污泥的生成,同时拓宽反应的pH值范围,且催化剂可以回收利用,在近些年得到了快速发展,将其应用于抗生素的降解也取得了理想的效果。从异相类Fenton催化原理出发,综述了异相类Fenton催化剂降解抗生素的研究进展。基于异相类Fenton催化剂的核心问题,重点阐述了改善催化性能的方法、措施以及新的观点。针对异相类Fenton技术降解抗生素存在的问题提出了今后的发展方向
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第一节 概述 第二节 空气催化氧化 第三节 化学氧化 第四节 电解氧化
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通过表面机械研磨处理在LY12CZ铝合金表面制备表面纳米化(SNC)过渡层,再采用微弧氧化(MAO)技术对纳米晶过渡层进行微结构重构,设计制备出纳米化-微弧氧化(SNC-MAO)复合涂层,并对比研究了铝合金表面微弧氧化涂层及纳米化-微弧氧化复合涂层的摩擦学行为.与微弧氧化涂层相比,纳米化-微弧氧化复合涂层因硬度较高而具有较好的耐磨性.微弧氧化涂层及纳米化-微弧氧化复合涂层与GCr15钢球对磨时具有相同的磨损机理,为对磨钢球向涂层的材料转移和氧化磨损
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采用物理气相沉积的方法通过控制生长参数,在硅衬底上获得不同形貌的氧化锌纳米阵列.在金属场发射系统中测量了它们的场致电子发射性能,发现阴极发射电流不稳定主要是由于氧化锌纳米阵列的不均匀性造成的.采用高压励炼技术可以增强氧化锌场发射的稳定性,使电流波动明显降低.此外,形貌对氧化锌纳米阵列的场发射电流密度和阈值电压有明显影响,而且不同形貌的氧化锌纳米阵列的抗溅射能力也不相同
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1引言 氧化铝有多种晶型,用作催化剂载体的一般为氧化铝或Y氧化铝,它们分别是铂族金属催化剂用途遍及石油、化工、环A(H)和AIOOH烧(300~600℃)脱水 保等领域以氧化铝为载体的铂催化剂是重后的产物这类氧化铝具有高比表面积(100 整反应、异构化反应、脱氢反应、加氢裂化及~300m2/g)和高的催化活性,其分子结构特汽车尾气净化的优良催化剂
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研究了采用射频反应溅射方法制备氧化铬耐磨镀层的技术和薄膜的性能.结果表明,采用金属靶材进行射频反应溅射时,由于靶材与反应气体的反应,会出现两种溅射模式,即金属态溅射和非金属态溅射,非金属态溅射模式的沉积速率很低.氧化铬薄膜的硬度主要决定于薄膜中Cr2O3含量,在供氧量不足时会生成低硬度的CrO,制备高硬度氧化铬薄膜需要采用尽可能高的氧流量进行溅射.采用在基片附近局域供氧,可以实现高溅射速率下制备出高硬度的氧化铬薄膜
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