教学目标： 1、掌握光的各种干涉装置和干涉仪，光的干涉现象及其应用。 2、掌握分波前法，分振幅法分解波列的方法。 3、掌握光场的空间相干性和时间相干性概念。 §1 分波前干涉装置 光场的空间相干性 §2 薄膜干涉（一）——等厚条纹 §3 薄膜干涉（二）——等倾条纹 第三章 干涉装置 光场的时空相干性

§1—1 光的电磁理论 §1—2 波动的独立性、叠加性简谐波的表达式 §1—3 由单色光波叠加所形成的干涉花样 §1—4 分波面双光束干涉 §1—5 干涉条纹的可见度，光波的时间相干性和空间相干性 §1—6 菲涅耳公式 §1—7 分振幅薄膜干涉（一）——等倾干涉 §1—8 分振幅薄膜干涉（二）——等厚干涉 §1—9 迈克耳孙干涉仪 §1—10 法布里—珀罗干涉仪多光束干涉 §1—11 干涉现象的一些应用，牛顿圈

一、等离子体的一般性质 二、等离子体辅助CVD的机理和特点 三、等离子体辅助的CVD方法

§3.5 时间相干性 §3.6 光程（optical path） §3.7 薄膜干涉（一）——等厚条纹

一、刮板式薄膜浓缩设备 1.组成:

研究了利用(KOH+K3(Fe (CN)6)+H2O和H2SO4+H2O2)两种溶液浸蚀硬质合金基体,分别选择性刻蚀WC和Co的表面预处理过程.在浸蚀过的硬质合金基体上,用强电流直流伸展电弧等离子体CVD法沉积金刚石薄膜涂层.结果表明,两步混合处理法不仅可以有效地去除硬质合金基体表面的钻,而且还显著粗化硬质合金基体表面,提高了金刚石薄膜的质量和涂层的附着力

一、 气体的放电现象与等离子体 二、 物质的溅射效应和溅射产额 三、各种各样的溅射技术

17.3光程薄膜干涉 一、光程 光在真空中的速度c=1u1 光在介质中的速度u=1ucn

一、光学薄膜在倾斜入射时的表现 二、考虑到基片背面反射时的情况 三、对称膜系的等效折射率 四、矢量法 五、麦克劳德纳图解法简介 六、用麦克劳德纳图解法解释单、双层增透膜

压强低于一个标准大气压的稀薄气体空间称为真空．在真空状态下，由于气体稀薄， 分子之间或分子与其它质点之间的碰撞次数减少，分子在一定时间内碰撞于固体表面上的 次数亦相对减少，这导致其有一系列新的物化特性，诸如热传导与对流小，氧化作用少， 气体污染小，汽化点低，高真空的绝缘性能好等等．真空技术是基本实验技术之一，真空 技术在近代尖端科学技术，如表面科学、薄膜技术、空间科学、高能粒子加速器、微电子 学、材料科学等工作中都占有关键的地位，在工业生产中也有日益广泛的应用． 薄膜技术在现代科学技术和工业生产中有着广泛的应用．