一、概述 二、薄膜样品的制备 三、衍衬成象原理 四、相位衬度简介

一.实验目的: 1.通过实验掌握使用电子拉伸仪测定塑料薄膜拉伸强度的方法。 2.通过对具有代表性的几种塑料薄膜拉伸强度的测定,加深理解。聚合物根据应力一一应变情况分类方法,并学会通过应力应变曲线对被测试样加以判断归类

第一章 光的电磁理论 第二章 光波的叠加与分析 第三章 光的干涉和干涉仪 第四章 多光束干涉与光学薄膜 第五章 光的衍射

§3.5 时间相干性 §3.6 光程（optical path） §3.7 薄膜干涉（一）——等厚条纹

采用X射线光电子能谱(XPS)研究了带有两种纳米氧化层(NOL)Ta/Ni80Fe20/Ir19Mn81/Co90Fe10//NOL1//Co90Fe10/Cu/Co90Fe10//NOL2/Ta的镜面反射自旋阀薄膜的化学结构.研究结果表明:CoFe/NOL1和NOL2/Ta界面处发生了热力学有利的化学反应.CoFe磁性敏感层仍保持金属特性,部分氧化的CoFe和Ta发生界面反应,使得Ta覆盖层被氧化成Ta2O5,形成NOL2.由于仍存在部分金属CoFe,NOL1为不连续的氧化层,使得与IrMn层仍存在直接的交换耦合作用.在退火过程中,IrMn层中的Mn原子扩散到NOL1中;然而,由于NOL1和扩散的Mn原子发生界面反应,生成Mn的氧化物,从而阻止Mn原子的进一步扩散,使其偏聚在NOL1中

采用自行研制的强电流直流扩展电弧设备对酸浸和渗硼预处理的YG6刀片进行了金刚石薄膜涂层沉积,并对放于不同位置的沉积刀片表面涂层的激光Raman谱和SEM形貌进行了分析、研究.结果表明:渗硼预处理工艺优于酸浸预处理工艺;在渗硼处理的GY6刀片上,沉积的金刚石薄膜涂层具有大面积、均匀性好和质量高的特点

利用反应溅射的方法制备了NiO薄膜,并研究了NiO对NiFe薄膜的钉扎作用,结果表明钉扎场与反应溅射时的Ar/O2比例、总的溅射气压、基底的粗糙度等有很大关系.利用光电子能谱(XP)分析了NiOx中的Ni,O离子的价态.并制备了NiO钉扎的自旋阀Ta/NiO/NiFe/Cu/NiFe/Ta,其磁电阻(MR)可达到2.2%,钉扎场为10.48kA/m

§3.1 光源的相干性 §3.2 双缝干涉及其他分波面干涉实验 §3.3 时间相干性 §3.4 空间相干性 §3.5 光程 §3.6 薄膜干涉（一） — 等厚条纹 §3.7 薄膜干涉（二） — 等倾条纹 §3.8 迈克耳逊干涉仪

在沉积环境中,以各种物理 方法产生的原子或分子沉积在基体上,形成薄膜或涂层的过程 称为物理气相沉积

六、双曲扁壳—一般采用抛物线平移曲面 因为f小,又称微弯平板 1.型式 组成壳板 竖直的边缘构件(横隔构件)「薄膜梁