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采用自行研制的强电流直流扩展电弧设备对酸浸和渗硼预处理的YG6刀片进行了金刚石薄膜涂层沉积,并对放于不同位置的沉积刀片表面涂层的激光Raman谱和SEM形貌进行了分析、研究.结果表明:渗硼预处理工艺优于酸浸预处理工艺;在渗硼处理的GY6刀片上,沉积的金刚石薄膜涂层具有大面积、均匀性好和质量高的特点
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利用反应溅射的方法制备了NiO薄膜,并研究了NiO对NiFe薄膜的钉扎作用,结果表明钉扎场与反应溅射时的Ar/O2比例、总的溅射气压、基底的粗糙度等有很大关系.利用光电子能谱(XP)分析了NiOx中的Ni,O离子的价态.并制备了NiO钉扎的自旋阀Ta/NiO/NiFe/Cu/NiFe/Ta,其磁电阻(MR)可达到2.2%,钉扎场为10.48kA/m
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第一章 光的电磁理论 第二章 光波的叠加与分析 第三章 光的干涉和干涉仪 第四章 多光束干涉与光学薄膜 第五章 光的衍射
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一、概述 二、薄膜样品的制备 三、衍衬成象原理 四、相位衬度简介
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用簧片振动法研究了GDa-Si:H薄膜气氛渗氢后的内耗.当测量频率为47.5Hz时,在-46℃处观察到氢致内耗峰,其激活能为0.30±0.05eV,弛豫时间因子为3.52×10-9 s
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总投资3000万,购置涂布机镭射机、真空镀铝机、清洗上色一体机等国产设备,利用PET薄膜、铝丝作为原料,经涂布镭射、镀铝、清洗、上色等技术或工艺,建设年产1万吨镀铝薄膜生产建设项目
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《半导体制造技术》:热原子层沉积技术制备TiAlCN薄膜的特性(凯里学院)
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六、双曲扁壳—一般采用抛物线平移曲面 因为f小,又称微弯平板 1.型式 组成壳板 竖直的边缘构件(横隔构件)「薄膜梁
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主要内容 第一章绪论 第二章悬索结构 第三章张力集成体系 第四章薄膜结构 第五章张力结构的展望
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主要内容 一、相干光 二、杨氏双缝干涉实验 三、双镜劳埃德境 四、光程薄膜干涉 五、劈尖牛顿环 六、迈克尔孙干涉仪
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