《半导体制造技术》：热原子层沉积技术制备TiAlCN薄膜的特性（凯里学院）

7.1 平板显示器的构成与性能参数 7.2 液晶的电光响应特性 7.3 TFT-LCD像素架构 7.4 TFT-LCD的像素级驱动原理 7.5 TFT-LCD的驱动系统 7.6 α-Si:H TFT背板制造技术 7.7 LTPS TFT-LCD中的集成技术 7.8 低功耗TFT LCD 7.9 LTPS TFT 背板制造工艺技术

2.1 真空的基本知识 2.2 真空的获得 2.3 真空的测量

10.1 平板X射线成像的物理过程 10.2 平板X射线成像器件的主要技术指标 10.3 有源平板x射线成像器件的像素结构与工作原理 10.4 平板X射线成像系统架构 10.5 平板X射线成像器件的应用

8.1 OLED基础 8.2 OLED显示器的有源驱动技术 8.3 有机发光TFT 8.4 AMOLED像素补偿电路 8.5 AMOLED制造工艺技术

1. 了解光的相干性，掌握双缝干涉、洛埃镜实验和薄膜干涉现象的产生条件和计算方法。 2. 理解惠更斯-菲涅耳原理，掌握单缝衍射、光栅衍射和X射线衍射现象产生的条件和计算方法。 3. 了解光的偏振和物质的旋光现象，掌握马吕斯定律的应用和物质旋光度的测量方法。 第一节 光的干涉 第二节 光的衍射 第三节 光的偏振

上海交通大学：《材料综合实验》课程教学资源（实验指导）物理性能_实验三（II）磁性薄膜的磁电阻测量

1.1 半导体中的电子状态与载流子 1.1.1 半导体材料的结构与能带形成 1.1.2 半导体中的载流子 1.1.3 半导体中载流子的统计分布 1.2 载流子的传输 1.3 pn结和金属-半导体接触 1.4 金属-绝缘层-半导体(MIS)结构 1.4.1 理想MIS结构及其工作状态 1.4.2 理想MIS结构的空间电荷分布 1.4.3 理想MIS结构的阈值电压 1.4.4 实际MIS 结构 1.4.5 MIS结构的电容-电压特性 1.5 MIS场效应晶体管

电子科技大学：《薄膜晶体管原理与技术》课程教学资源（课件讲稿）第0章 绪论（The Principle and Technology of Thin Film Transistor）TFT的过去、现在和未来

§12.1 杨氏双缝干涉 §12.2 薄膜干涉 §12.3 光的衍射 §12.4 光栅衍射 §12.5 光的偏振