13.1基本概念 13.2控制图类型及其原理 13.3控制图的绘制与判断 13.4控制图的两类错误分析及应用要点

3.2硫化物 3.2.1SO的生成及其排放浓度 3.2.1.1SO的生成反应 3.2.1.2SO,的排放浓度 3.2.2SO的生成 3.2.3硫酸雾和酸性尘

题目:举例分析在散剂处方配制过程中,混合时可能遇到的问题及应采取的相应措施? 答案:混合时可能遇到问题有固体物料的密度差异较大时,先加密度小的再加密度大的,颜色差异较 大时先加色深再加色浅的,混合比例悬殊时按等量递加法混合,混合中的液化或润湿时,应针对不同 的情况解决,若是吸湿性很强药物(如胃蛋白酶等)在配制时吸潮,应在低于其临界相对湿度以下的 环境下配制,迅速混合

本讲重点: 了解单片机发展的现状; 掌握AT89C系列1051,2051,4051特点与应用; 对P89LPC932会用实验装置,会编程应用; 熟悉ADuC832的特性,会编程下载; 对本讲重点介绍的其他几种单片机有了解

1.1 传感器基础知识 1.2 检测技术基础 1.3 测量误差的概念及其处理方法 1.4 电桥电路在测量中的应用

§1环境污染及其监测 §2生物资源管理 §3生态环境规划与管理

13.1 基本概念 13.2 控制图类型及其原理 13.3 控制图的绘制与判断 13.4 控制图的两类错误分析及应用要点

第一节 吸光光度法基本原理 第二节 吸光光度法的仪器 第三节 显色反应及其影响因素 第四节 吸光度的测量及误差控制 第五节 吸光光度分析法 第六节 吸光光度法的应用

第一节吸光光度法的基本原理 一、光的基本性质 二、物质对光的选择性吸收 三、吸收曲线 第二节光吸收的基本定律 第三节吸光光度法分析条件的选择 一、显色反应及其条件 二、测定波长的选择 三、吸光度范围的选择 四、参比溶液的选择 第四节分光光度计 一、基本部件及性能 二、几种常用的分光光度计 第五节可见吸光光度法的应用 一、单组分的测定 二、多组分的测定

利用磁控溅射方法在表面有SiO2层的Si基片上溅射Ta薄膜,采用X射线光电子能谱研究了SiO2/Ta界面以及Ta5Si3标准样品,并进行计算机谱图拟合分析.实验结果表明在制备态下在SiO2/Ta界面处有更稳定的化合物新相Ta5Si3和Ta2O5生成.在采用Ta作阻挡层的ULSI铜互连结构中这些反应产物可能有利于对Cu扩散的阻挡