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在这一章中,将解释污染对器件工艺、器件 性能和器件可靠性的影响,以及芯片生产区域存 在的污染类型和主要的污染源。同时也简要介绍 洁净室规划、主要的污染控制方法和晶片表面的 清洗工艺等 5.2污染类型 微粒金属离子化学物质细菌 ·微粒器件对污染物的敏感度取决于特征图形的 尺寸和晶体表面沉积层的厚度。由于特征图形尺 寸越来越小,膜层厚度越来越薄,所允许存在的 微粒尺寸也必须控制在更小的尺度上
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《塑料成型工艺与模具》课程教学资源(文献资料)具有内置随形冷却水道的注塑模具快速制造
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《塑料成型工艺与模具》课程教学资源(文献资料)模具制造信息化系统的构建
文档格式:PDF 文档大小:173.52KB 文档页数:4
《塑料成型工艺与模具》课程教学资源(文献资料)模具制造估报价系统
文档格式:PPT 文档大小:11.75MB 文档页数:77
《塑料成型工艺与模具》课程教学资源(文献资料)塑模的设计及制造
文档格式:PPT 文档大小:1.98MB 文档页数:40
概述 硅表面SiO2的简单实现,是硅材料被广泛 应用的一个重要因素。本章中,将介绍SiO2的 生长工艺及用途、氧化反应的不同方法,其中 包括快速热氧化工艺。另外,还简单介绍本工 艺中最重要的部分--反应炉,因为它是氧化 、扩散、热处理及化学气相淀积反应的基本设 备
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❖塑料产业与模具 Plastic Industry & Mould ❖项目实践性学习 Project Practice Education ❖模具制造流程 Mould Manufacturing Flow ❖制造订单 Manufacturing order ❖报表 Report
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东莞理工学院:《颜色材料与工艺制造学》课程教学大纲(2025-2026第一学期)
文档格式:PDF 文档大小:214.64KB 文档页数:8
东莞理工学院:《颜色材料与工艺制造学》课程教学大纲(2024-2025第一学期)
文档格式:PPT 文档大小:2.26MB 文档页数:40
一、概述 表面SiO2的简单实现,是硅材料被广泛应用的一个重要因素。本章中,将介绍SiO2的 生长工艺及用途、氧化反应的不同方法,其中 包括快速热氧化工艺。另外,还简单介绍本工 艺中最重要的部分--反应炉,因为它是氧化 、扩散、热处理及化学气相淀积反应的基本设 备
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