对于典型的离子晶体,用U=qq-ld可以粗略估计晶格 能的相对大小,且U1→m.p↑;U→m.p↓ ，但对于: NaCl MgCl22ACl3il4r,q.相同;q+1r+↓→U个 ·实际mp.(℃)808714192(加p)-68 只能说明,从左→右,晶体类型已偏离典型的离子晶体。前面关于化学键的相对性亦可知,典型的离子晶体不多

前知,平衡体系中,如果改变某物质浓度(总压力),则 所有物质的浓度(分压)要按照K取值的限制重新分配 →K不变,平衡点改变 ·而变化,则改变K的数值大小,因此分别讨论: (一)浓度、总压力对化学平衡的影响—T不变 由等温方程:

◼ 自动控制系统的组成 ◼ 自动控制系统的方块图 ◼ 信号和变量 ◼ 自动控制系统方块图 ◼ 反馈 ◼ 自动控制系统的分类 ◼ 过渡过程和品质指标 ◼ 控制系统的静态与动态 ◼ 控制系统的过渡过程 ◼ 控制系统的控制指标 ◼ 影响控制指标的主要因素

◼ 位式控制 ◼ 双位控制 ◼ 具有中间区的双位控制 ◼ 多位控制 ◼ 比例控制 ◼ 比例控制规律及其特点 ◼ 比例度及其对控制过程的影响 ◼ 积分控制 ◼ 积分控制规律及其特点 ◼ 比例积分控制规律与积分时间 ◼ 积分时间对系统过渡过程的影响 ◼ 微分控制 ◼ 微分控制规律及其特点 ◼ 实际的微分控制规律及微分时间 ◼ 比例微分控制系统的过渡过程 ◼ 比例积分微分控制

§2.1 引言 §2.2 控制系统的时域数学模型 复习： 拉普拉斯变换有关知识

3.3 二阶系统的时间响应及动态性能 3.3.3 欠阻尼二阶系统动态性能指标计算

根轨迹法:三大分析校正方法之一 特点: (1)图解方法,直观、形象 (2)适用于研究当系统中某一参数变化时,系统性能的变化趋势。 (3)近似方法,不十分精确

1.1 引言 1.2 自动控制理论发展概述 1.3 自动控制和自动控制系统的基本概念 1.4 自动控制系统的基本组成 1.5 控制系统示例

5.6 利用开环频率特性分析系统的性能 5.6.1 L(w)低频渐近线与系统稳态误差的关系 5.6.2 L(w)中频段特性与系统动态性能的关系 5.6.2 L(w)高频段对系统性能的影响

频域稳定判据 系统稳定的充要条件 — 全部闭环极点均具有负的实部 由闭环特征多项式系数（不解根）判定系统稳定性 不能用于研究如何调整系统结构参数来改善系统稳定性及 性能的问题