1 氧化还原反应的基本概念 2 氧化还原反应方程式的配平 3 电极电势及其应用 4 件电极电热 5 氧化还原滴定法

5.1 氧化还原反应 1. 氧化还原反应 2. 氧化还原电对 3. 氧化还原反应式的配平 5.2 原电池 5.2.1 原电池 5.2.2 电极及其分类 5.3 电极电势 5.3.1 电极电势的产生 5.3.2 标准电极电势 5.3.3 Nernst方程式 5.4 原电池热力学 一、可逆电池 二、电池电动势与反应Gibbs函数变 三、氧化还原反应中的化学平衡 四、电极电势的应用 5.5 电解与电化学技术 一、电解装置与原理 二、电解产物的判断 三、电化学技术 5.6 金属的腐蚀与防护 一、化学腐蚀 二、电化学腐蚀 三、金属的防蚀

连续环式反应池（Continuous Loop Reactor，简称 CLR), 通常称为氧化沟。它是由荷 兰卫生工程研究所(TNO)在五十年代研制成功的。第一家氧化沟处理厂于 1954 年在荷兰的沃 绍本（Voorshopen）投入使用，它是由该所的帕斯维尔（A. Pasveer)博士设计的，服务人口 为三百六十人。这是一种间歇流的处理厂，其中氧化沟同时用作二次沉淀池。由于帕斯维尔 博士的贡献，这项技术又被称为帕斯维尔沟。 氧化沟最初应用于荷兰，而今，它已成为欧洲、大洋洲、南非和北美洲的一种重要污水 处理技术

应用微弧氧化这一高新表面改性技术在LY12铝合金表面形成陶瓷膜层,并对其在常温下的耐磨性能进行了对比测试与分析。实验结果表明,微弧氧化陶瓷膜层的表面磨损外观比较均匀,磨损痕迹也比较轻微,其表面硬度达到2500HV,是基体的10倍以上。由此可见,微弧氧化技术大大改善了铝合金表面耐磨特性和硬度

➢ 氮氧化物的性质及来源 ➢ 燃烧过程中氮氧化物的形成机理 ➢ 低氮氧化物燃烧技术 ➢ 烟气脱硝技术

开发了一种新型的制备氧化物弥散强化(ODS)铁素体钢的方法,用该方法研制的12Cr-ODS钢具有优异的室温和高温拉伸强度、较低的韧脆转化温度、良好的抗蠕变性能和抗辐照肿胀性能.分析了预合金粉末中氧化物(Y2O3)经焙烧热分解、热等静压的界面反应和热变形析出过程和演化行为,并提出选用合理的工艺技术有利于氧化物强化相均匀化

发现了(NH4)2MoS4水溶液中可生成铝的壁垒型阳极氧化膜。用超薄切片,透射电镜结合离子注入惰性原子标记层的技术对膜的形貌、成分和生长过程中的离子迁移进行了观察和分析;用EDAX分析方法来探测到膜中含有溶液阴离子的成分,阳极氧化过程中膜在基体/膜界面和膜/溶液界面同时生长。阳极氧化的电流密度为1.0mA/cm2时,Al3+离子的表观迁移率为0.44

1氧化沟的发展概况 氧化沟( Oxidation Ditch)污水处理工艺是由荷兰卫生工程研究所在20世 纪50年代研制成功的。第一家氧化沟污水处理厂将曝气、沉淀和污泥稳定等处 理过程集于一体,间歇运行,BOD去除率高达97%,管理方便,运行稳定,该 技术被称为 Pasveer沟

设置厌氧、缺氧段的Carrousel氧化沟(文中简称:A2/C氧化沟)具有生物脱氮除磷 功能,是目前城市生活污水处理的主流工艺之一结合工程实例,从工作原理、工艺设计 等方面对A2C氧化沟进行了详细介绍,可供从事污水处理工程设计的技术人员参考

铝镇静钢液浇注过程中，浸入式水口耐材内壁特征受到钢液侵蚀和夹杂物聚集影响，从近光滑壁面逐渐向多孔耐火材料壁面和含结瘤物的粗糙结瘤壁面转变，壁面形貌的变化影响边界层流场结构和氧化铝夹杂物的输运。采用物理模拟的方法在浸入式水口模型内壁镶嵌多孔耐火材料结构和含结瘤物耐材壁面结构，结合粒子图像测速技术研究不同特征壁面附近流场边界层。使用MATLAB耦合流场测速结果和氧化铝夹杂物运动数学模型，研究了不同特征壁面的流场边界层中氧化铝夹杂物的运动轨迹。使用象限分析法确定了浸入式水口边界层流场存在上抛和下扫事件。氧化铝夹杂物位于下扫事件区域时，朝向壁面运动，粒径为1 μm的氧化铝夹杂物在下扫事件中运动轨迹更接近壁面，增加了沉积的可能性；氧化铝夹杂物位于上抛事件区域时，远离壁面运动。多孔耐火材料壁面和结瘤壁面边界层内氧化铝夹杂物运动幅度大于光滑壁面边界层流场内氧化铝夹杂物运动幅度。壁面状态由近光滑壁面转变为多孔耐火材料和结瘤壁面时，流场边界层中下扫事件平面占比由10.17%增加到39.77%，上抛事件平面占比由32.96%减小到9.24%；同时，流场边界层中下扫事件发生的概率由25.83%增加到28.24%，这将加速氧化铝夹杂物在多孔耐火材料和结瘤壁面的沉积进程