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四川电力职业技术学院:《模拟电子技术》精品课程PPT教学课件(模拟电路)第10章 直流稳压电源
文档格式:PPT 文档大小:1.26MB 文档页数:41
10.1概述 10.2硅稳压管稳压电路 10.3具有放大环节的串联型稳压电路 10.4稳压电路的质量指标 10.5集成三端稳压器 10.6开关型稳压电源
《电子技术基础》课程教学资源(模拟电子技术)PPT课件讲稿:功率管的散热问题
文档格式:PPT 文档大小:316KB 文档页数:6
功率管是电路中最容易受到损坏的器件。损坏的主要原因是由于管子的实际耗散功率超过了额定数值。而晶体管的耗散功率取决于管子内部结温T。当T超过允许值后,电流将急剧增大而使晶体管烧坏。一般情况下,硅管允许结温为120~200℃,锗管为85℃左右(具体标准在产品手册中给出)
武汉理工大学:《基础化学习题库》第十五章 有机硅和有机钛化合物
文档格式:PDF 文档大小:29.87KB 文档页数:4
15.1命名下列各化合物。 (1)(C.)2SiCl2 (2)(CH3)3Si--Si(CH3)3 (3)(C)2(OC252(4)C2H)S(OH)2 (5)(C2H)2PH
中国科技大学:《有机化学》第十五章 含硫、磷和硅的有机化合物
文档格式:PPT 文档大小:911KB 文档页数:22
一、电子结构和成键特征
《土壤学》第二章(2-2) 土壤矿物
文档格式:PPT 文档大小:4.33MB 文档页数:54
土壤矿物元素组成主要是:氧 硅、铝、铁,其它元素的量相对 较比较少
西安交通大学:《芯片制造-半导体工艺实用教程》 第七章 氧化
文档格式:PPT 文档大小:2.26MB 文档页数:40
一、概述 表面SiO2的简单实现,是硅材料被广泛应用的一个重要因素。本章中,将介绍SiO2的 生长工艺及用途、氧化反应的不同方法,其中 包括快速热氧化工艺。另外,还简单介绍本工 艺中最重要的部分--反应炉,因为它是氧化 、扩散、热处理及化学气相淀积反应的基本设 备
青岛大学:《有机化学 Organic Chemistry》课程教学资源(PPT课件)第二十章 元素有机化合物
文档格式:PPT 文档大小:5.67MB 文档页数:63
第二十章元素有机化合物 1、分类 2、有机锂化合物 3、有机铝化合物 4、有机硅化合物 5、有机磷化合物 6、有机铁化合物
全国高等教育自学考试:《电子技术基础》(试题一) 2005年04月试卷
文档格式:DOC 文档大小:378KB 文档页数:7
一、单项选择题(本大题共15小题,每小题2分,共30分) 在每小题列出的四个备选项中只有一个是符合题目要求的,请将其代码填写在题后的括号内。错选、多选或未选均无分 1要得到P型半导体,可在本征半导体硅或锗中掺少量的() A三价元素 B.四价元素 C.五价元素 D六价元素
全国高等教育自学考试:《电子技术基础》(试题一) 2006年04月试卷
文档格式:DOC 文档大小:226.5KB 文档页数:8
一、单项选择题(本大题共16小题,每小题2分,共32分) 在每小题列出的四个备选项中只有一个是符合题目要求的,请将其代码填写在题后的括号内。错选、多选或未选均无分。 1.要得到P型杂质半导体,在本征半导体硅或锗的晶体中,应掺入少量的() A.三价元素 B.四价元素 C.五价元素 D.六价元素
全国高等教育自学考试:《电子技术基础》(试题一) 2006年07月试卷
文档格式:DOC 文档大小:187.5KB 文档页数:7
一、单项选择题(本大题共16小题,每小题2分,共32分) 在每小题列出的四个备选项中只有一个是符合题目要求的,请将其代码填写在题后的括号内。错选、多选或未选均无分。 1.要得到N型杂质半导体,在本征半导体硅或锗的晶体中应掺入少量的() A三价元素 B.四价元素 C五价元素 D六价元素
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